JPH0154710B2 - - Google Patents
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- JPH0154710B2 JPH0154710B2 JP60114397A JP11439785A JPH0154710B2 JP H0154710 B2 JPH0154710 B2 JP H0154710B2 JP 60114397 A JP60114397 A JP 60114397A JP 11439785 A JP11439785 A JP 11439785A JP H0154710 B2 JPH0154710 B2 JP H0154710B2
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- hologram
- resin
- layer
- transfer foil
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/12—Special arrangement of layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Duplication Or Marking (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
〈産業上の利用分野〉
出版・印刷業においては、書籍・雑誌の表紙、
挿し絵として、あるいはギフト、ノベルテイとし
て、そして有価証券・クレジツドカード・IDカ
ードの偽造防止としてログラムが利用されてい
る。又、広告・デイスプレイの分野でも虹色に光
るその装飾性、立体感による意外性からホログラ
ムが利用されている。 本発明は該ホログラムに関し、さらに詳細に
は、表面レリーフ型ホログラムをエンボス成形技
術によつて成型し、被転写体にホログラムを転写
することを目的としたホログラム転写箔に関する
ものある。 〈従来の技術〉 従来ホログラムを複製・実装する方法は、基材
上に塗布された樹脂層に対して、表面レリーフ型
ホログラムが形成されているスタンパを用いて、
エンボス成形を行ない、樹脂上に表面レリーフ型
ホログラムを形成し、その表面にアルミニウム蒸
着を施し、感熱接着剤を塗布し、ホツトスタンプ
により被転写体に転写するものであり、これにホ
ログラム転写箔が用いられていた。この方法は光
学的方法によらず機械的にホログラムを複製する
ため低コストで大量生産に適しており、シール形
式とは異なる転写方式であるため、ホログラムの
厚みをほとんど感じさせない形で実装が行なえ
る。 〈発明が解決しようとしている問題点〉 ホログラム転写箔では、まず第一段階でホログ
ラムのエンボス成形が行なわれ、次に第二段階で
ホツトスタンプによる転写が行なわれるため、エ
ンボス成型時の基材と樹脂との密着性と転写を行
なう際の剥離性といつた一見矛盾した性能が要求
される。従来の転写箔では、エンボス成形は可能
であるが、転写性が極めて悪いとか、転写時の剥
離性は良いが、エンボス時に樹脂が基材からはが
れやすいという問題があつた。又、エンボス転写
とも一応行なえる転写箔の中にも樹脂の耐熱温度
を上げたためホログラムの成形性が悪く再生像が
暗くなつてしまうものもある。 ホツトスタンプを行なうため、基材の厚みに制
限があり、20〜30μm程度の薄い基材を使用せざ
るを得ずエンボス成形時にプレスムラが生じやす
く、外観上の品質が低下するという問題がある。 また、反射型ホログラムとして使用するために
行なうアルミニウム蒸着によつて樹脂が白化して
しまつたりアルミニウムと樹脂との密着力が弱い
などの問題もあつた。又、ホツトスタンプのため
の感熱接着剤により樹脂がダメージを受けてしま
うという問題もあつた。更にホツトスタンプの際
の熱で樹脂が変質してしまう問題、転写の際にフ
クレが生じたり、バリが多いなどの問題があつ
た。 〈問題を解決するための手段〉 本発明は以上の事情に鑑み、種々検討の結果得
られたものである。 すなわち、本発明は基材フイルムの片面に設け
た樹脂層表面に、表面レリーフ型ホログラムスタ
ンパにて、加熱、加圧によるホログラムを形成し
た後、蒸着による金属反射層及び感熱接着剤層を
順次、重ねてなる転写箔において、当該樹脂構成
が、基材フイルム側から剥離ニス層、ホログラム
形成樹脂層の２層構成から成り、かつホログラム
形成樹脂層として、共重合成分として少なくとも
３〜15重量％の酢酸ビニル成分と１〜６重量％の
酸価を有する化合物とを含有し、重合度が400〜
800の範囲である塩化ビニル樹脂を用いることに
より、エンボス時の成形性及び転写性に優れたホ
ログラム用転写箔が得られることを見出した。 以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。
第１図から第３図は、本発明に述べるホログラム
転写箔が、表面レリーフ型スタンパにてエンボス
される時の状態をわかり易く図示したものであ
る。すなわち第１図に於て１は基材フイルムを示
し、２は剥離ニス層、３はホログラム形成樹脂層
を示し、１〜３が本発明のホログラム転写箔の基
礎部分の構成である。４は表面レリーフ型ホログ
ラムスタンパを示し、プレス上部定盤５に固定さ
れる。プレス上部定盤にはエンボスに必要な加熱
機構が内蔵されている。６はプレス下部定盤を示
し、プレス定盤５，６により一定時間加熱、加圧
され、ホログラムスタンパのレリーフ模様がホロ
グラム形成層にエンボスされる。第２図はこのよ
うにしてエンボスされた後のホログラム転写箔の
基礎部分を示したもので樹脂層７は３のホログラ
ム形成樹脂層にホログラムがエンボスされた後の
状態を示す。さらに第３図は本発明のホログラム
転写箔の全体像を示す概念断面図で８はホログラ
ムをエンボス成形後の樹脂層７上に施こされた蒸
着金属反射層を示し、９は前記蒸着金属反射層８
の上に設けられた感熱接着剤層を示す。 本発明に述べる基材フイルム１としては耐熱性
を有した、ポリエステルフイルム、ポリプロピレ
ンフイルム、ポリカーボネートフイルム、セロフ
アンなどの使用が可能で、厚さ10〜100μm程度の
ものが好ましい。中でもポリエステルフイルム
は、耐熱性、物理的強度、平滑性、フイツシユア
イが少ないなどの点で最も良好な結果が得られ
る。 本発明に述べる剥離ニス層２は、ホログラム形
成樹脂層３がより効果的に被転写体に転移するた
めに設けられたもので、生産の効率をアツプする
ために不可欠なものであり、熱可塑性アクリル樹
脂、塩化ゴム系樹脂及び該樹脂と併用し得る樹脂
としてニトロセルロース、アセチルセルロース、
アセテートブチレート、ポリスチレン、塩化ビニ
ル、塩酢ビ系樹脂などが使用できる。さらにはメ
ラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹脂、尿
素樹脂、アクリル樹脂などの熱硬化型樹脂の単独
または混合系での使用も可能であり、シリコーン
樹脂、パラフインワツクス、反応型フツ素樹脂な
どの使用も可能である。 本発明に述べるホログラム形成樹脂層３に適す
る樹脂としては、ある種の塩化ビニル樹脂を使用
することにより極めて良結果が得られる。すなわ
ち、かかるホログラム形成樹脂層として、共重合
成分として少なくとも３〜15重量％の酢酸ビニル
成分と１〜６重量％の酸価を有する化合物とを含
有し、重合度が400〜800の範囲である塩化ビニル
樹脂を用いることで、エンボス成形性が良好でプ
レスむらが生じ難く、明るい再生像が得られ、そ
の上、エンボス成形時の基材への密着性が良く、
金属反射層との接着性も良好でかつ被転写体へ転
写する際の剥離性が極めて良いことを発見した。 中でも酸価を有する化合物としてマレイン酸を
使用することにより、アルミニウムなどの金属反
射層との接着性が特に良好な結果を得ることがで
きる。 このようなホログラム形成樹脂層を塗工する方
法として、塗料化した樹脂をロールコート、ブレ
ードコートなどの方法により塗布、乾燥させて
0.5〜5μmの膜厚を形成させればよい。 こうして得られたホログラム形成樹脂層は、剥
離ニス層が塗工された基材フイルムと適度に接着
し、エンボス成形時の加熱・加圧により優れた成
形性を有し、しかも表面にニツケル、金、クロム
等のメツキを施したスタンパへ接着せず、更に金
属反射層と良好な接着性を示し、しかも皮膜の切
れが良好である。更にホツトスタンプ時の金属反
射層の剥離不良や転写ムラ、バリ、フクレの発生
などのない確実な転写が可能となり、蒸着工程
や、ホツトスタンプ時の熱によつて発生する収縮
によるひび割れ、白化、ホログラム模様の破壊な
ど、外観上の品質低下もみられない。 エンボス成形は、プレス機（上部定盤５及び下
部定盤６）にて、ホログラム形成樹脂層３とスタ
ンパ４のレリーフ型ホログラム模様を重ね合わ
せ、90℃〜150℃の条件にて加熱、加圧した後、
冷却を行なうことにより樹脂層３の表面にホログ
ラム模様が形成される。 本発明に述べる金属反射層８、すなわち金属蒸
着層は表面の反射率が高い金属が好ましく、具体
的にはアルミニウム、金、銀、銅等及びこれらの
金属を含む合金を使用することができ、通常よく
知られている真空蒸着法、スパツタリング法、イ
オンプレーテイング法などの方法によつて設ける
ことができる。厚味としては100Åから10000Åの
範囲が適当である。 本発明に述べる感熱接着剤層９はポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリ酢酸ビニル、ゴム系樹脂、エチレン
―酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニ
ル共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用出来、金属
反射層及び、被転写物の材質との接着性を考慮し
任意の樹脂が選定され、適当な溶剤にてワニス化
したものを、グラビアコート法、ロールコート
法、ブレードコート法など公知の手法にて塗布形
成せしめるものであり、膜厚は1μmから20μmが
好ましい。 第４図はこうして得られたホログラム転写箔
を、紙、塩ビシート、ポリエステルシートなど任
意の被転写体１０に転写する時の状態をわかり易
く図示したものである。すなわち被転写体１０に
感熱接着剤層９塗工面を合わせ、基材フイルム１
側から、加熱、加圧（ホツトスタンピング）を
し、感熱接着剤層９を被転写体１０に接着させた
後、基材フイルム１を剥離させて転写が完了す
る。ここで基材フイルム１を剥離させる場合に、
剥離ニス層２に使用される樹脂の種類により次の
２つのケースが考えられる。すなわち第４図イに
示すように剥離時に剥離ニス層が基材フイルム側
に接着したまま剥離するものと、ロに示すように
剥離時に剥離ニス層２がホログラム形成樹脂層３
側に接着したまま剥離する場合が考えられる。具
体的には剥離ニス層にいる樹脂として、熱可塑性
アクリル樹脂や塩化ゴム系のポリエステルフイル
ムなどの基材フイルムに接着性の良い樹脂を用い
た場合、イに示す前者の剥離状態を示し、熱硬化
型のメラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹
脂、尿素樹脂などの単独又は混合系にて使用した
場合や、シリコン樹脂、パラフインワツクス類、
反応型フツ素樹脂などを用いた場合には、ポリエ
ステルフイルムなどの基材フイルムへの接着力が
小さく、剥離時に容易に基材フイルムから剥れ、
ロに示す後者の剥離状態を示す。 いずれの場合に於いても、前述のように、剥離
ニス層２はホログラム形成樹脂層３がより効果的
に被転写体１０に転移するために設けられるもの
で、その塗布量は微量でよく、特にロに示すよう
に剥離ニス層がホログラム形成樹脂層に残るよう
な構成の場合、ホログラムに悪影響を及ぼす程、
多量であることは好ましくない。 以上の様に、本発明に述べるホログラム転写箔
を用いることで、これまでのホログラム転写箔の
かかえていた問題点を解決することができた。 以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明
する。 〈実施例〉 （実施例 １） 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(a)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離性樹脂層を設けた上に、更に
下記組成(b)のワニスにて約1μmの樹脂層を設け、
60℃、72時間の養生を行つた後、プレス機にて樹
脂層とスタンパーのホログラム形成面を重ね合
せ、エンボス加工を130℃、40Kg／cm2の加熱、加
圧条件にておこない樹脂表面へホログラムを形成
させた。 次に該樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウ
ム蒸着を施し、更に下記組成(c)のワニスをロール
コーターにて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形
成させホログラム転写箔を得た。 (a) ワニス ｛メチルメタアクリレート系ポリオールT.
G.105℃、分子量300×13） ……9.0重量％ セルロースアセテートブチレート（ブチル基37
％、TG130℃） ……1.0 〃 トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチル ……20.0 〃｝ (b) ワニス ｛塩化ビニル酢酸ビニル／マレイン酸共重合物
（平均重合度600） ……150重量％ （共重合成分として酢酸ビニル10重量％、マ
レイン酸２重量％含有） トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチルケトン ……15.0 〃｝ 100.0 〃 (c) ワニス ｛塩酢ビ樹脂（塩化ビニル／酢酸ビニル＝86／
14、平均重合度600〜700） ……15重量％ アクリル樹脂（T.G.80℃、分子量150×103）
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃｝ 100.0 〃 次に得られた転写箔を157ｇ／m2のアート紙に
120℃、0.5秒、の条件にて加熱プレスすることに
より、ホログラムを転写したところ、白化、ひび
割れ、ふくれなどの不良のないホログラムを忠実
に再現した転写物が得られる。 また、樹脂層へのエンボス加工においては、ス
タンパへの接着トラブルもなく、加工性に優れた
ものであつた。 （実施例２及び比較例１〜５） 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(d)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離樹脂層を設けた上に、更に下
記(e)に示す各種、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
樹脂を用いたワニスにて約1.5μmの樹脂層を設
け、60℃、72時間の同一条件にて養生を行つた
後、プレス機にて樹脂層とスタンパーのホログラ
ム形成面を重ね合わせ、エンボス加工を130℃、
40Kg／cm2の加熱、加圧条件にておこない樹脂表面
にホログラムを形成させた。次に実施例１同様該
樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウム蒸着を
施し、更に下記組成(f)のワニスをロールコーター
にて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形成させ各
種ホログラム転写箔を得た。 次にこうして得られた転写箔を157ｇ／m2のア
ート紙に120℃、0.5秒の条件にて加熱プレスする
ことにより、転写適性の比較をおこなつた。その
結果、結果欄に示すごとく、酢酸ビニル成分の共
重合比（重量％）が３〜15重量％の範囲外でかつ
重合度が400〜800の範囲外にある塩化ビニル樹脂
を用いた場合、いずれもエンボス適性、転写性、
画像再現性などの点で不満足な結果を得た。ま
た、共重合成分としてマレイン酸などの酸価を有
する化合物を１〜６重量％含まない場合には、ア
ルミニウム蒸着層とかかるホログラム形成層との
密着性が悪く、不満足な結果を得た。 (d) ワニス（剥離ワニス） ｛アデカプレンCR―20（旭電化社製 塩化ゴム
系樹脂） ……30重量％MEK／トルエン＝１／１ ……7.0 〃｝ 100.0 〃 (e) ワニス〜（ホログラム模様形成樹脂層） ｛塩化ビニル樹脂※ ……20重量％ トルエン ……35 〃 メチルエチルケトン …35 〃 酢酸イソブチルケトン ……10 〃｝
挿し絵として、あるいはギフト、ノベルテイとし
て、そして有価証券・クレジツドカード・IDカ
ードの偽造防止としてログラムが利用されてい
る。又、広告・デイスプレイの分野でも虹色に光
るその装飾性、立体感による意外性からホログラ
ムが利用されている。 本発明は該ホログラムに関し、さらに詳細に
は、表面レリーフ型ホログラムをエンボス成形技
術によつて成型し、被転写体にホログラムを転写
することを目的としたホログラム転写箔に関する
ものある。 〈従来の技術〉 従来ホログラムを複製・実装する方法は、基材
上に塗布された樹脂層に対して、表面レリーフ型
ホログラムが形成されているスタンパを用いて、
エンボス成形を行ない、樹脂上に表面レリーフ型
ホログラムを形成し、その表面にアルミニウム蒸
着を施し、感熱接着剤を塗布し、ホツトスタンプ
により被転写体に転写するものであり、これにホ
ログラム転写箔が用いられていた。この方法は光
学的方法によらず機械的にホログラムを複製する
ため低コストで大量生産に適しており、シール形
式とは異なる転写方式であるため、ホログラムの
厚みをほとんど感じさせない形で実装が行なえ
る。 〈発明が解決しようとしている問題点〉 ホログラム転写箔では、まず第一段階でホログ
ラムのエンボス成形が行なわれ、次に第二段階で
ホツトスタンプによる転写が行なわれるため、エ
ンボス成型時の基材と樹脂との密着性と転写を行
なう際の剥離性といつた一見矛盾した性能が要求
される。従来の転写箔では、エンボス成形は可能
であるが、転写性が極めて悪いとか、転写時の剥
離性は良いが、エンボス時に樹脂が基材からはが
れやすいという問題があつた。又、エンボス転写
とも一応行なえる転写箔の中にも樹脂の耐熱温度
を上げたためホログラムの成形性が悪く再生像が
暗くなつてしまうものもある。 ホツトスタンプを行なうため、基材の厚みに制
限があり、20〜30μm程度の薄い基材を使用せざ
るを得ずエンボス成形時にプレスムラが生じやす
く、外観上の品質が低下するという問題がある。 また、反射型ホログラムとして使用するために
行なうアルミニウム蒸着によつて樹脂が白化して
しまつたりアルミニウムと樹脂との密着力が弱い
などの問題もあつた。又、ホツトスタンプのため
の感熱接着剤により樹脂がダメージを受けてしま
うという問題もあつた。更にホツトスタンプの際
の熱で樹脂が変質してしまう問題、転写の際にフ
クレが生じたり、バリが多いなどの問題があつ
た。 〈問題を解決するための手段〉 本発明は以上の事情に鑑み、種々検討の結果得
られたものである。 すなわち、本発明は基材フイルムの片面に設け
た樹脂層表面に、表面レリーフ型ホログラムスタ
ンパにて、加熱、加圧によるホログラムを形成し
た後、蒸着による金属反射層及び感熱接着剤層を
順次、重ねてなる転写箔において、当該樹脂構成
が、基材フイルム側から剥離ニス層、ホログラム
形成樹脂層の２層構成から成り、かつホログラム
形成樹脂層として、共重合成分として少なくとも
３〜15重量％の酢酸ビニル成分と１〜６重量％の
酸価を有する化合物とを含有し、重合度が400〜
800の範囲である塩化ビニル樹脂を用いることに
より、エンボス時の成形性及び転写性に優れたホ
ログラム用転写箔が得られることを見出した。 以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。
第１図から第３図は、本発明に述べるホログラム
転写箔が、表面レリーフ型スタンパにてエンボス
される時の状態をわかり易く図示したものであ
る。すなわち第１図に於て１は基材フイルムを示
し、２は剥離ニス層、３はホログラム形成樹脂層
を示し、１〜３が本発明のホログラム転写箔の基
礎部分の構成である。４は表面レリーフ型ホログ
ラムスタンパを示し、プレス上部定盤５に固定さ
れる。プレス上部定盤にはエンボスに必要な加熱
機構が内蔵されている。６はプレス下部定盤を示
し、プレス定盤５，６により一定時間加熱、加圧
され、ホログラムスタンパのレリーフ模様がホロ
グラム形成層にエンボスされる。第２図はこのよ
うにしてエンボスされた後のホログラム転写箔の
基礎部分を示したもので樹脂層７は３のホログラ
ム形成樹脂層にホログラムがエンボスされた後の
状態を示す。さらに第３図は本発明のホログラム
転写箔の全体像を示す概念断面図で８はホログラ
ムをエンボス成形後の樹脂層７上に施こされた蒸
着金属反射層を示し、９は前記蒸着金属反射層８
の上に設けられた感熱接着剤層を示す。 本発明に述べる基材フイルム１としては耐熱性
を有した、ポリエステルフイルム、ポリプロピレ
ンフイルム、ポリカーボネートフイルム、セロフ
アンなどの使用が可能で、厚さ10〜100μm程度の
ものが好ましい。中でもポリエステルフイルム
は、耐熱性、物理的強度、平滑性、フイツシユア
イが少ないなどの点で最も良好な結果が得られ
る。 本発明に述べる剥離ニス層２は、ホログラム形
成樹脂層３がより効果的に被転写体に転移するた
めに設けられたもので、生産の効率をアツプする
ために不可欠なものであり、熱可塑性アクリル樹
脂、塩化ゴム系樹脂及び該樹脂と併用し得る樹脂
としてニトロセルロース、アセチルセルロース、
アセテートブチレート、ポリスチレン、塩化ビニ
ル、塩酢ビ系樹脂などが使用できる。さらにはメ
ラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹脂、尿
素樹脂、アクリル樹脂などの熱硬化型樹脂の単独
または混合系での使用も可能であり、シリコーン
樹脂、パラフインワツクス、反応型フツ素樹脂な
どの使用も可能である。 本発明に述べるホログラム形成樹脂層３に適す
る樹脂としては、ある種の塩化ビニル樹脂を使用
することにより極めて良結果が得られる。すなわ
ち、かかるホログラム形成樹脂層として、共重合
成分として少なくとも３〜15重量％の酢酸ビニル
成分と１〜６重量％の酸価を有する化合物とを含
有し、重合度が400〜800の範囲である塩化ビニル
樹脂を用いることで、エンボス成形性が良好でプ
レスむらが生じ難く、明るい再生像が得られ、そ
の上、エンボス成形時の基材への密着性が良く、
金属反射層との接着性も良好でかつ被転写体へ転
写する際の剥離性が極めて良いことを発見した。 中でも酸価を有する化合物としてマレイン酸を
使用することにより、アルミニウムなどの金属反
射層との接着性が特に良好な結果を得ることがで
きる。 このようなホログラム形成樹脂層を塗工する方
法として、塗料化した樹脂をロールコート、ブレ
ードコートなどの方法により塗布、乾燥させて
0.5〜5μmの膜厚を形成させればよい。 こうして得られたホログラム形成樹脂層は、剥
離ニス層が塗工された基材フイルムと適度に接着
し、エンボス成形時の加熱・加圧により優れた成
形性を有し、しかも表面にニツケル、金、クロム
等のメツキを施したスタンパへ接着せず、更に金
属反射層と良好な接着性を示し、しかも皮膜の切
れが良好である。更にホツトスタンプ時の金属反
射層の剥離不良や転写ムラ、バリ、フクレの発生
などのない確実な転写が可能となり、蒸着工程
や、ホツトスタンプ時の熱によつて発生する収縮
によるひび割れ、白化、ホログラム模様の破壊な
ど、外観上の品質低下もみられない。 エンボス成形は、プレス機（上部定盤５及び下
部定盤６）にて、ホログラム形成樹脂層３とスタ
ンパ４のレリーフ型ホログラム模様を重ね合わ
せ、90℃〜150℃の条件にて加熱、加圧した後、
冷却を行なうことにより樹脂層３の表面にホログ
ラム模様が形成される。 本発明に述べる金属反射層８、すなわち金属蒸
着層は表面の反射率が高い金属が好ましく、具体
的にはアルミニウム、金、銀、銅等及びこれらの
金属を含む合金を使用することができ、通常よく
知られている真空蒸着法、スパツタリング法、イ
オンプレーテイング法などの方法によつて設ける
ことができる。厚味としては100Åから10000Åの
範囲が適当である。 本発明に述べる感熱接着剤層９はポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリ酢酸ビニル、ゴム系樹脂、エチレン
―酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニ
ル共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用出来、金属
反射層及び、被転写物の材質との接着性を考慮し
任意の樹脂が選定され、適当な溶剤にてワニス化
したものを、グラビアコート法、ロールコート
法、ブレードコート法など公知の手法にて塗布形
成せしめるものであり、膜厚は1μmから20μmが
好ましい。 第４図はこうして得られたホログラム転写箔
を、紙、塩ビシート、ポリエステルシートなど任
意の被転写体１０に転写する時の状態をわかり易
く図示したものである。すなわち被転写体１０に
感熱接着剤層９塗工面を合わせ、基材フイルム１
側から、加熱、加圧（ホツトスタンピング）を
し、感熱接着剤層９を被転写体１０に接着させた
後、基材フイルム１を剥離させて転写が完了す
る。ここで基材フイルム１を剥離させる場合に、
剥離ニス層２に使用される樹脂の種類により次の
２つのケースが考えられる。すなわち第４図イに
示すように剥離時に剥離ニス層が基材フイルム側
に接着したまま剥離するものと、ロに示すように
剥離時に剥離ニス層２がホログラム形成樹脂層３
側に接着したまま剥離する場合が考えられる。具
体的には剥離ニス層にいる樹脂として、熱可塑性
アクリル樹脂や塩化ゴム系のポリエステルフイル
ムなどの基材フイルムに接着性の良い樹脂を用い
た場合、イに示す前者の剥離状態を示し、熱硬化
型のメラミン樹脂、アルキツド樹脂、エポキシ樹
脂、尿素樹脂などの単独又は混合系にて使用した
場合や、シリコン樹脂、パラフインワツクス類、
反応型フツ素樹脂などを用いた場合には、ポリエ
ステルフイルムなどの基材フイルムへの接着力が
小さく、剥離時に容易に基材フイルムから剥れ、
ロに示す後者の剥離状態を示す。 いずれの場合に於いても、前述のように、剥離
ニス層２はホログラム形成樹脂層３がより効果的
に被転写体１０に転移するために設けられるもの
で、その塗布量は微量でよく、特にロに示すよう
に剥離ニス層がホログラム形成樹脂層に残るよう
な構成の場合、ホログラムに悪影響を及ぼす程、
多量であることは好ましくない。 以上の様に、本発明に述べるホログラム転写箔
を用いることで、これまでのホログラム転写箔の
かかえていた問題点を解決することができた。 以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明
する。 〈実施例〉 （実施例 １） 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(a)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離性樹脂層を設けた上に、更に
下記組成(b)のワニスにて約1μmの樹脂層を設け、
60℃、72時間の養生を行つた後、プレス機にて樹
脂層とスタンパーのホログラム形成面を重ね合
せ、エンボス加工を130℃、40Kg／cm2の加熱、加
圧条件にておこない樹脂表面へホログラムを形成
させた。 次に該樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウ
ム蒸着を施し、更に下記組成(c)のワニスをロール
コーターにて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形
成させホログラム転写箔を得た。 (a) ワニス ｛メチルメタアクリレート系ポリオールT.
G.105℃、分子量300×13） ……9.0重量％ セルロースアセテートブチレート（ブチル基37
％、TG130℃） ……1.0 〃 トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチル ……20.0 〃｝ (b) ワニス ｛塩化ビニル酢酸ビニル／マレイン酸共重合物
（平均重合度600） ……150重量％ （共重合成分として酢酸ビニル10重量％、マ
レイン酸２重量％含有） トルエン ……35.0 〃 メチルエチルケトン ……35.0 〃 酢酸イソブチルケトン ……15.0 〃｝ 100.0 〃 (c) ワニス ｛塩酢ビ樹脂（塩化ビニル／酢酸ビニル＝86／
14、平均重合度600〜700） ……15重量％ アクリル樹脂（T.G.80℃、分子量150×103）
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃｝ 100.0 〃 次に得られた転写箔を157ｇ／m2のアート紙に
120℃、0.5秒、の条件にて加熱プレスすることに
より、ホログラムを転写したところ、白化、ひび
割れ、ふくれなどの不良のないホログラムを忠実
に再現した転写物が得られる。 また、樹脂層へのエンボス加工においては、ス
タンパへの接着トラブルもなく、加工性に優れた
ものであつた。 （実施例２及び比較例１〜５） 厚さ25μmのポリエステルフイルム面に下記組
成(d)のワニスを用いてロールコーターにて塗布
し、約0.5μmの剥離樹脂層を設けた上に、更に下
記(e)に示す各種、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
樹脂を用いたワニスにて約1.5μmの樹脂層を設
け、60℃、72時間の同一条件にて養生を行つた
後、プレス機にて樹脂層とスタンパーのホログラ
ム形成面を重ね合わせ、エンボス加工を130℃、
40Kg／cm2の加熱、加圧条件にておこない樹脂表面
にホログラムを形成させた。次に実施例１同様該
樹脂層面に約500Åの厚さにアルミニウム蒸着を
施し、更に下記組成(f)のワニスをロールコーター
にて塗布し、約3μmの感熱接着剤層を形成させ各
種ホログラム転写箔を得た。 次にこうして得られた転写箔を157ｇ／m2のア
ート紙に120℃、0.5秒の条件にて加熱プレスする
ことにより、転写適性の比較をおこなつた。その
結果、結果欄に示すごとく、酢酸ビニル成分の共
重合比（重量％）が３〜15重量％の範囲外でかつ
重合度が400〜800の範囲外にある塩化ビニル樹脂
を用いた場合、いずれもエンボス適性、転写性、
画像再現性などの点で不満足な結果を得た。ま
た、共重合成分としてマレイン酸などの酸価を有
する化合物を１〜６重量％含まない場合には、ア
ルミニウム蒸着層とかかるホログラム形成層との
密着性が悪く、不満足な結果を得た。 (d) ワニス（剥離ワニス） ｛アデカプレンCR―20（旭電化社製 塩化ゴム
系樹脂） ……30重量％MEK／トルエン＝１／１ ……7.0 〃｝ 100.0 〃 (e) ワニス〜（ホログラム模様形成樹脂層） ｛塩化ビニル樹脂※ ……20重量％ トルエン ……35 〃 メチルエチルケトン …35 〃 酢酸イソブチルケトン ……10 〃｝
【表】
(f) ワニス（感熱接着剤層）
｛塩酢ビ樹脂（塩化ビニル／酢酸ビニル＝86／
14、平均重合度600〜700） ……15重量％ アクリル樹脂（T.G.80℃、分子量150×103）
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃｝ 100.0 〃
14、平均重合度600〜700） ……15重量％ アクリル樹脂（T.G.80℃、分子量150×103）
……10 〃 MEK ……38 〃 トルエン ……37 〃｝ 100.0 〃
【表】
(注) ○は良好、×は不良を示し、◎は総合的
に良好であることを示す。
〈発明の効果〉 本発明によるホログラム用転写箔は剥離層を設
けかつホログラム成形層である樹脂層３として、
共重合成分として少なくとも３〜15重量％の酢酸
ビニル成分と１〜６重量％の酸化を有する化合物
とを含有し、重合度が400〜800の範囲である塩化
ビニル樹脂を用いたことにより、表面レリーフホ
ログラムを転写箔としてエンボス成形方式で歩留
りよく生産できる様になり、成形性の向上により
明るい再生像が得られ、金属蒸着特性、ホツトス
タンプによる転写性などの向上が実現した。 このことから、本発明はホログラム転写箔の品
質向上、加工性の向上、経済性の向上に効果があ
るものであり、書籍、本の表紙、挿絵、ギフト、
ノベルテイパツケージなどへのホログラム転写箔
の使用が容易となり、偽造防止など本発明は産業
上有効なものであるといえる。
に良好であることを示す。
〈発明の効果〉 本発明によるホログラム用転写箔は剥離層を設
けかつホログラム成形層である樹脂層３として、
共重合成分として少なくとも３〜15重量％の酢酸
ビニル成分と１〜６重量％の酸化を有する化合物
とを含有し、重合度が400〜800の範囲である塩化
ビニル樹脂を用いたことにより、表面レリーフホ
ログラムを転写箔としてエンボス成形方式で歩留
りよく生産できる様になり、成形性の向上により
明るい再生像が得られ、金属蒸着特性、ホツトス
タンプによる転写性などの向上が実現した。 このことから、本発明はホログラム転写箔の品
質向上、加工性の向上、経済性の向上に効果があ
るものであり、書籍、本の表紙、挿絵、ギフト、
ノベルテイパツケージなどへのホログラム転写箔
の使用が容易となり、偽造防止など本発明は産業
上有効なものであるといえる。
図面は本発明の実施例を示すもので第１，２，
３図はホログラム転写箔が、表面レリーフ型スタ
ンパにてエンボスされる状態を示す断面で表わし
た説明図であり、第４図は剥離ニス層による剥離
状態を示す断面図で表わした説明図である。 １…基材フイルム、２…剥離ノス層、３…ホロ
グラム形成樹脂層、４…表面レリーフ型ホログラ
ムスタンパ、５…プレス機上部定盤、６…プレス
機下部定盤、７…ホログラムエンボス後の樹脂
層、８…金属反射層、９…感熱接着剤層、１０…
被転写体。
３図はホログラム転写箔が、表面レリーフ型スタ
ンパにてエンボスされる状態を示す断面で表わし
た説明図であり、第４図は剥離ニス層による剥離
状態を示す断面図で表わした説明図である。 １…基材フイルム、２…剥離ノス層、３…ホロ
グラム形成樹脂層、４…表面レリーフ型ホログラ
ムスタンパ、５…プレス機上部定盤、６…プレス
機下部定盤、７…ホログラムエンボス後の樹脂
層、８…金属反射層、９…感熱接着剤層、１０…
被転写体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基材フイルムの片面に設けた樹脂層表面に、
表面レリーフ型ホログラムスタンパにて、加熱・
加圧によりホログラムを形成した後、蒸着による
金属反射層及び感熱接着剤層を順次、重ねてなる
転写箔において、該樹脂層構成が、基材フイルム
側から剥離ニス層、ホログラム形成樹脂層の２層
構成から成り、かつホログラム形成樹脂層が、共
重合成分として少なくとも３〜15重量％の酢酸ビ
ニル成分と１〜６重量％の酸価を有する化合物と
を含有し、重合度が400〜800の範囲である塩化ビ
ニル樹脂であることを特徴とするホログラム転写
箔。 ２ 酸価を有する化合物がマレイン酸であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のホロ
グラム転写箔。 ３ 剥離ニス層に用いる樹脂が、、熱可塑性アク
リル樹脂又は塩化ゴム樹脂のいずれか一種及びこ
れらの混合物であることを特徴とする特許請求の
範囲第１，２項に記載のホログラム転写箔。 ４ 剥離ニス層に用いる樹脂が、熱硬化型樹脂で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１，２項
に記載のホログラム転写箔。 ５ 基材フイルムがポリエステルフイルムである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１，２，３，
４項に記載のホログラム転写箔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11439785A JPS61273568A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | ホログラム転写箔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11439785A JPS61273568A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | ホログラム転写箔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61273568A JPS61273568A (ja) | 1986-12-03 |
| JPH0154710B2 true JPH0154710B2 (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=14636654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11439785A Granted JPS61273568A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | ホログラム転写箔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61273568A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021181986A1 (en) | 2020-03-13 | 2021-09-16 | Ricoh Company, Ltd. | Anti-pathogen structure, method for producing anti-pathogen structure, apparatus for producing anti-pathogen structure, and liquid composition |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192078A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Fujitsu Ltd | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
| JP2623591B2 (ja) * | 1987-08-06 | 1997-06-25 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 金属蒸着転写シート及びその製造方法 |
| JP2623590B2 (ja) * | 1987-08-06 | 1997-06-25 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 金属蒸着転写フィルム及びその製造方法 |
| JP3463252B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2003-11-05 | 武内プレス工業株式会社 | 金属製品へのホットスタンプ印刷方法 |
| GB9509487D0 (en) | 1995-05-10 | 1995-07-05 | Ici Plc | Micro relief element & preparation thereof |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5988780A (ja) * | 1982-11-08 | 1984-05-22 | アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− | 光回折記録体及び光回折パタ−ンを作る方法 |
| JPS59178661U (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム製品 |
-
1985
- 1985-05-29 JP JP11439785A patent/JPS61273568A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021181986A1 (en) | 2020-03-13 | 2021-09-16 | Ricoh Company, Ltd. | Anti-pathogen structure, method for producing anti-pathogen structure, apparatus for producing anti-pathogen structure, and liquid composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61273568A (ja) | 1986-12-03 |
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