JPH0154852B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0154852B2
JPH0154852B2 JP56104998A JP10499881A JPH0154852B2 JP H0154852 B2 JPH0154852 B2 JP H0154852B2 JP 56104998 A JP56104998 A JP 56104998A JP 10499881 A JP10499881 A JP 10499881A JP H0154852 B2 JPH0154852 B2 JP H0154852B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube
opening
closing
mounting shaft
diffusion furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56104998A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS587820A (ja
Inventor
Akyuki Furuya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP56104998A priority Critical patent/JPS587820A/ja
Publication of JPS587820A publication Critical patent/JPS587820A/ja
Publication of JPH0154852B2 publication Critical patent/JPH0154852B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3311Horizontal transfer of a batch of workpieces

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は拡散炉におけるチユーブ入口開閉装置
に関するものである。
従来、半導体ウエハの拡散処理に用いられる拡
散炉のチユーブ入口開閉は、人手に依つており、
作業者がすり合せ式のキヤツプをチユーブ入口に
挿し込むことにより実施されている。しかしこの
作業は高温および高所での作業であることから危
険が多いため、最近ではそのチユーブ入口開閉を
機械によつて行なつている。
第1図はその拡散炉のチユーブ入口開閉装置の
一例を示し、該装置では、チユーブ入口の開閉動
作が、チユーブ1の中心軸に直交する取付軸2に
取着された開閉板3を、図示しない駆動手段によ
つて矢印aに示す方向に回動することによつてな
されている。そのため、取付軸2から最遠となる
開閉板先端部は破線bのような軌跡をとつて運動
するので、その破線bの左側の領域には、ボート
受け4を支持する支工5を設けることができな
い。
ところで、半導体ウエハ6を塔載するボート7
は、一般に、熱容量を低限するなどの目的から出
来る限り短く形成されている。したがつて、上記
のような開閉装置を具備する拡散炉のチユーブ1
にボートを挿入する場合には、開閉板3が開かれ
た後に支工5をチユーブ側へ移動させるか、さも
なくば上記領域に新たにボート7を保持させるた
めの昇降手段(図示せず)を設ける必要がある。
そのため、装置全体のコストの上昇や信頼性の
低下を招来し、さらには、装置の保守点検の回数
を増やさなければならないなどの難点があつた。
本発明はかかる難点を解消するためなされたも
ので、拡散炉におけるチユーブの中心軸に平行し
て設けた取付軸に、前記チユーブ入口を開閉する
ための開閉板を取着すると共に、該取付軸をその
軸線の回りに回動させかつ前記取付軸をその軸線
方向に往復動させるための駆動手段を連結させた
ことを特徴とする拡散炉におけるチユーブ入口開
閉装置を提供するものである。
以下、本発明の詳細を図面に示す実施例に基づ
いて説明する。なお、以下の図面で、第1図と同
一部材は同一符号で表わすものとする。
第2図は、本発明に係るチユーブ入口開閉装置
を示し、該装置では、チユーブ1の開閉を行なう
ための開閉板8が、チユーブ1の中心軸に平行に
設けた取付軸9に取着されている。また、取付軸
9は、該取付軸9をその軸線の回りに回動させか
つ該取付軸9をその軸線方向に往復動させるため
の駆動手段(図示せず)に連結されている。例え
ば、この駆動手段としては、エアーシリンダ等が
用いられる。
而して、かかるチユーブ入口開閉装置では、半
導体ウエハ6を塔載するボート7をチユーブ1に
挿入するにあたつては、第3図のように開閉板8
を手前側に位置させたた状態で行なう。そして、
ボート7がチユーブ1に挿入された後、駆動手段
によつて取付軸9を回動させ、取付板8をチユー
ブ1の中心と致心させる。続いて、該取付軸9
を、チユーブ入口に近づく方向に移動させ、取付
板8をチユーブ1の入口面に圧接させる。この場
合、チユーブ1の気密性を確保するために、チユ
ーブ1にOリングを続けておくことが好ましい。
一方、チユーブ入口の遮蔽は、上記操作と逆の
順序を経て行なわれる。
以上の実施例からも明らかなように、本発明に
よれば、チユーブの中心軸に平行して設けた取付
軸に開閉板を取着すると共に、該取付軸をその軸
線の回りに回動させかつ前記取付軸をその軸線方
向に往復動させるための駆動手段を連結させ、そ
れによりチユーブ入口の開閉を行なつているた
め、支工が設けられない空間が小さくなる。ちな
みに、その値を比較してみると、開閉板の大きさ
を100mm〜200mmとすると、従来のものではこの距
離が支工が設けられない空間として存在するが、
本発明では取着板がチユーブの中心軸方向に10mm
〜20mm、即ちその気密を解除できる長さだけ移動
できれば良く、開閉板の厚さを考慮した場合でも
確実に上記距離は1/3〜1/5となる。したがつて、
従来のように開閉板を開けた後に、支工をチユー
ブ側に移動させたり、またボート挿入のための昇
降手段も必要としないため自動化に適する。ま
た、ボートを自動的に挿入する機構を組合せる場
合でも、駆動部を少なくでき、装置全体の価格の
低減と信頼性の向上が図れるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のチユーブ入口開閉装置の説明
図、第2および第3図は本発明に係るチユーブ入
口開閉装置の説明図である。 1……チユーブ、2,9……取付軸、3,8…
…開閉板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 拡散炉におけるチユーブの中心軸に平行して
    設けた取付軸に、前記チユーブ入口を開閉するた
    めの開閉板を取着すると共に、該取付軸をその軸
    線の回りに回動させかつ前記取付軸をその軸線方
    向に往復動させるための駆動手段を連結させたこ
    とを特徴とする拡散炉におけるチユーブ入口開閉
    装置。
JP56104998A 1981-07-07 1981-07-07 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置 Granted JPS587820A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56104998A JPS587820A (ja) 1981-07-07 1981-07-07 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56104998A JPS587820A (ja) 1981-07-07 1981-07-07 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS587820A JPS587820A (ja) 1983-01-17
JPH0154852B2 true JPH0154852B2 (ja) 1989-11-21

Family

ID=14395761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56104998A Granted JPS587820A (ja) 1981-07-07 1981-07-07 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置

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Country Link
JP (1) JPS587820A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60169660A (ja) * 1984-02-14 1985-09-03 Nippon Mining Co Ltd デイ−ゼルエンジン燃料の燃焼性改良方法
JPH06105692B2 (ja) * 1988-06-24 1994-12-21 ソニー株式会社 熱処理装置
DE8902607U1 (de) * 1989-03-04 1989-06-22 Owis GmbH, 7813 Staufen Vorrichtung an einer Oxidations- oder Diffusions-Ofenanlage

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57121246A (en) * 1981-01-21 1982-07-28 Hitachi Ltd Semiconductor treating device
JPS6311719Y2 (ja) * 1981-03-09 1988-04-05

Also Published As

Publication number Publication date
JPS587820A (ja) 1983-01-17

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