JPH0157286B2 - - Google Patents
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- JPH0157286B2 JPH0157286B2 JP56068888A JP6888881A JPH0157286B2 JP H0157286 B2 JPH0157286 B2 JP H0157286B2 JP 56068888 A JP56068888 A JP 56068888A JP 6888881 A JP6888881 A JP 6888881A JP H0157286 B2 JPH0157286 B2 JP H0157286B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/38—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members using fluid bearings or fluid cushion supports
- B23Q1/385—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members using fluid bearings or fluid cushion supports in which the thickness of the fluid-layer is adjustable
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/56—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/60—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/62—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
- B23Q1/621—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B5/00—Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
- G01B5/0011—Arrangements for eliminating or compensation of measuring errors due to temperature or weight
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、直進走行テーブルの真直度補正装置
に係り、特に反射投影式マスクアライナの走行テ
ーブル等の高精度の真直性が要求される直進走行
テーブルの真直度補正装置に関する。
に係り、特に反射投影式マスクアライナの走行テ
ーブル等の高精度の真直性が要求される直進走行
テーブルの真直度補正装置に関する。
第１図〜第３図に、本発明で対象とする走行テ
ーブルを有する反射投影式マスクアライナの一例
を示す。
ーブルを有する反射投影式マスクアライナの一例
を示す。
これらの図に示される反射投影式マスクアライ
ナでは、ウエハ１とマスク２とを走行テーブル３
上に置く。
ナでは、ウエハ１とマスク２とを走行テーブル３
上に置く。
走行テーブル３は、鞍型に形成され、石定盤４
にまたがるように搭載されている。また、走行テ
ーブル３には走行方向（以下Ｘ方向という）の一
方の端部に第１、第２の上面空気軸受５ａ，５ｂ
と第１、第２の側面空気軸受６ａ，６ｂとを有
し、他方の端部には第３、第４の上面空気軸受５
ｃ，５ｄと第３、第４の側面空気軸受６ｃ，６ｄ
とを有している。第１〜第４の上面軸受５ａ，５
ｄは、石定盤４に対して走行テーブル３の上下方
向（以下Ｚ方向という）のガイドとなり、第１〜
第４の側面空気軸受６ａ〜６ｄは、石定盤４に対
する走行テーブル３のＸ方向と直交する側部方向
（以下Ｙ方向という）のガイドとなつている。
にまたがるように搭載されている。また、走行テ
ーブル３には走行方向（以下Ｘ方向という）の一
方の端部に第１、第２の上面空気軸受５ａ，５ｂ
と第１、第２の側面空気軸受６ａ，６ｂとを有
し、他方の端部には第３、第４の上面空気軸受５
ｃ，５ｄと第３、第４の側面空気軸受６ｃ，６ｄ
とを有している。第１〜第４の上面軸受５ａ，５
ｄは、石定盤４に対して走行テーブル３の上下方
向（以下Ｚ方向という）のガイドとなり、第１〜
第４の側面空気軸受６ａ〜６ｄは、石定盤４に対
する走行テーブル３のＸ方向と直交する側部方向
（以下Ｙ方向という）のガイドとなつている。
さらに、走行テーブル３はモータ７、プーリ
８、両端部は走行テーブル３に結合されかつ途中
にプーリ８に掛け渡されたベルト９とを有する駆
動系に連結されており、モータ７を順方向および
逆方向に回転させることにより、プーリ８および
ベルト９を介して往復走査されるようになつてい
る。
８、両端部は走行テーブル３に結合されかつ途中
にプーリ８に掛け渡されたベルト９とを有する駆
動系に連結されており、モータ７を順方向および
逆方向に回転させることにより、プーリ８および
ベルト９を介して往復走査されるようになつてい
る。
走行テーブル３の上方には、石定盤４に足を載
置して反射投影光学系１０が搭載されている。
置して反射投影光学系１０が搭載されている。
そして、第１〜第４の上面空気軸受５ａ〜５ｄ
と第１〜第４の側面空気軸受６ａ〜６ｄに空気を
供給してこれら空気軸受面と石定盤面にわずか
20μｍ程度の空気層をつくる。この状態でモータ
７を駆動させると、走行テーブル３はＸ方向に往
復走査する。
と第１〜第４の側面空気軸受６ａ〜６ｄに空気を
供給してこれら空気軸受面と石定盤面にわずか
20μｍ程度の空気層をつくる。この状態でモータ
７を駆動させると、走行テーブル３はＸ方向に往
復走査する。
マスク２の下方には、露光用光源および露光光
学系があり（図示せず）、石定盤４に固定されて
いる。
学系があり（図示せず）、石定盤４に固定されて
いる。
光源からの光束１１は、マスク２を透過して反
射投影光学系１０を通り、ウエハ１の表面へマス
クパターンを結像させる。
射投影光学系１０を通り、ウエハ１の表面へマス
クパターンを結像させる。
反射投影光学系１０は、凹面鏡、凸面鏡とミラ
ーで構成され（図示せず）、収差を少なく１：１
に結像させるため、円弧状のスリツトを用いてい
る。
ーで構成され（図示せず）、収差を少なく１：１
に結像させるため、円弧状のスリツトを用いてい
る。
したがつて、ウエハ１全域にマスクパターンを
焼き付けるには、走行テーブル３を走査する必要
があり、このマスクパターンの焼き付け時走行テ
ーブル３の走行の真直度が問題となる。
焼き付けるには、走行テーブル３を走査する必要
があり、このマスクパターンの焼き付け時走行テ
ーブル３の走行の真直度が問題となる。
今、走行テーブル３のＺ方向、Ｙ方向について
考察すると、Ｚ方向はマスクパターン結像の焦点
深度と関係がある。石定盤４の平面度は1μｍ程
度であるのに対し、反射投影式マスクアライナの
焦点深度は±5μｍであるため、Ｚ方向の走行の
真直度は無視できる値である。ここで問題となる
のは、走行テーブル３をＸ方向に走査させたとき
に起きるＹ方向の動きである。例えば、2μｍパ
ターンの焼き付けには走行テーブル３の走行真直
度は0.2μｍくらい必要とされるが、さらにパター
ン幅が小さくなるにしたがつて真直度も小さくお
さえる必要がある。しかし、石定盤４の側面の仕
上り精度は1μｍ程度であるため、走行テーブル
３は走行中うねりを起こす。これはパターン焼き
付けの際に転写の歪となり、悪影響をおよぼすと
いう問題がある。
考察すると、Ｚ方向はマスクパターン結像の焦点
深度と関係がある。石定盤４の平面度は1μｍ程
度であるのに対し、反射投影式マスクアライナの
焦点深度は±5μｍであるため、Ｚ方向の走行の
真直度は無視できる値である。ここで問題となる
のは、走行テーブル３をＸ方向に走査させたとき
に起きるＹ方向の動きである。例えば、2μｍパ
ターンの焼き付けには走行テーブル３の走行真直
度は0.2μｍくらい必要とされるが、さらにパター
ン幅が小さくなるにしたがつて真直度も小さくお
さえる必要がある。しかし、石定盤４の側面の仕
上り精度は1μｍ程度であるため、走行テーブル
３は走行中うねりを起こす。これはパターン焼き
付けの際に転写の歪となり、悪影響をおよぼすと
いう問題がある。
本発明の目的は、前述のごとき高詳度の真直度
を要求される走行テーブルのＹ方向の真直度を正
確に、かつ容易に補正しうる真直度補正装置を提
供するにある。
を要求される走行テーブルのＹ方向の真直度を正
確に、かつ容易に補正しうる真直度補正装置を提
供するにある。
本発明の特徴は、少なくとも走行方向に間隔を
存して設定された複数個所についてそれらの両側
及びそれらの下側に設けられた側面静圧流体軸受
によりガイドされ、駆動源からの動力により定盤
上を直進走行する走行テーブルの真直度補正装置
において、前記走行方向の複数個所の側面静圧流
体軸受に対応させて所定の間隔を存して各側面静
圧流体軸受に近接させ、且つ走行テーブルの走行
方向と直交する方向の走行テーブル上の側部の複
数位置に測定基準ブロツクを設置し、該測定基準
ブロツクに対応させて測定基準ブロツクとの変位
量を測定する複数の静電容量型の非接触微小変位
計を定盤上に固定設置し、各側面静圧流体軸受に
流体を供給する流体圧サーボ弁を接続し、予め設
定された基準変位量に相当する設定値と前記各非
接触微小変位計の測定値とを比較して制御量を決
定するコンパレータと該コンパレータの出力信号
の変動誤差を除去する補償回路と該補償回路の出
力信号を増幅するサーボ増幅器とを備え、制御信
号を出力するサーボ回路を設け、各サーボ回路を
非接触微小変位計側の前記流体圧サーボ弁に接続
し、前記制御信号に基づき当該流体サーボ弁を通
じて当該側面静圧流体軸受に流体圧を供給し、走
行テーブルの複数の個所の変位量と前記各設定値
とが一致するように直進テーブルの真直度を補正
しうるように構成したところに存し、この構成に
より前記目的を確実に達成することができたもの
である。
存して設定された複数個所についてそれらの両側
及びそれらの下側に設けられた側面静圧流体軸受
によりガイドされ、駆動源からの動力により定盤
上を直進走行する走行テーブルの真直度補正装置
において、前記走行方向の複数個所の側面静圧流
体軸受に対応させて所定の間隔を存して各側面静
圧流体軸受に近接させ、且つ走行テーブルの走行
方向と直交する方向の走行テーブル上の側部の複
数位置に測定基準ブロツクを設置し、該測定基準
ブロツクに対応させて測定基準ブロツクとの変位
量を測定する複数の静電容量型の非接触微小変位
計を定盤上に固定設置し、各側面静圧流体軸受に
流体を供給する流体圧サーボ弁を接続し、予め設
定された基準変位量に相当する設定値と前記各非
接触微小変位計の測定値とを比較して制御量を決
定するコンパレータと該コンパレータの出力信号
の変動誤差を除去する補償回路と該補償回路の出
力信号を増幅するサーボ増幅器とを備え、制御信
号を出力するサーボ回路を設け、各サーボ回路を
非接触微小変位計側の前記流体圧サーボ弁に接続
し、前記制御信号に基づき当該流体サーボ弁を通
じて当該側面静圧流体軸受に流体圧を供給し、走
行テーブルの複数の個所の変位量と前記各設定値
とが一致するように直進テーブルの真直度を補正
しうるように構成したところに存し、この構成に
より前記目的を確実に達成することができたもの
である。
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第４図、第５図は本発明の一実施例を示す。
その第４図において、前記第１図に示される部
材と同一または同じ機能を有するものについて
は、同一符号を付けて示し、これ以上の説明を省
略する。
材と同一または同じ機能を有するものについて
は、同一符号を付けて示し、これ以上の説明を省
略する。
前記第４図、第５図において、走行テーブル３
のＸ方向と直交するＹ方向の一側部に、Ｘ方向に
間隔を存して第１、第２の測定基準ブロツク１２
ａ，１２ｂが取り付けられている。
のＸ方向と直交するＹ方向の一側部に、Ｘ方向に
間隔を存して第１、第２の測定基準ブロツク１２
ａ，１２ｂが取り付けられている。
また、第１の測定基準ブロツク１２ａに対応し
かつ第１、第２の側面空気軸受６ａ，６ｂの組の
第１の側面空気軸受６ａに近接する位置に、第１
の変位計１３ａが設置され、第２の測定基準ブロ
ツク１２ｂに対応しかつ第３、第４の側面空気軸
受６ｃ，６ｄの組の第３の側面空気軸受６ｃに近
接する位置には、第２の変位計１３ｂが設置され
ている。前記第１、第２の変位計１３ａ，１３ｂ
には、例えば静電容量型の非接触微小変位計が使
用され、かかる静電容量型のものは、物体の微小
変位を静電容量の変化として検出し、電気量に変
換してその変位量を検知するものであり、0.1μｍ
以下の微小変位測定が可能である。
かつ第１、第２の側面空気軸受６ａ，６ｂの組の
第１の側面空気軸受６ａに近接する位置に、第１
の変位計１３ａが設置され、第２の測定基準ブロ
ツク１２ｂに対応しかつ第３、第４の側面空気軸
受６ｃ，６ｄの組の第３の側面空気軸受６ｃに近
接する位置には、第２の変位計１３ｂが設置され
ている。前記第１、第２の変位計１３ａ，１３ｂ
には、例えば静電容量型の非接触微小変位計が使
用され、かかる静電容量型のものは、物体の微小
変位を静電容量の変化として検出し、電気量に変
換してその変位量を検知するものであり、0.1μｍ
以下の微小変位測定が可能である。
前記第１〜第４の側面空気軸受６ａ〜６ｄに
は、それぞれ第１〜第４の空気サーボ弁１４ａ〜
１４ｄが接続されており、第１〜第４の空気サー
ボ弁１４ａ〜１４ｄはアキユームレータ１５に連
結されている。
は、それぞれ第１〜第４の空気サーボ弁１４ａ〜
１４ｄが接続されており、第１〜第４の空気サー
ボ弁１４ａ〜１４ｄはアキユームレータ１５に連
結されている。
一方、第１、第２の変位計１３ａ，１３ｂに対
応して第１、第２のサーボ回路１６ａ，１６ｂが
設けられている。第１、第２のサーボ回路１６
ａ，１６ｂは、第５図に示されるように、コンパ
レータ１７、補償回路１８、サーボ増巾器１９と
を備えて構成されている。第１、第２のサーボ回
路１６ａ，１６ｂのコンパレータ１７には、設定
値と当該第１、第２の変位計１３ａ，１３ｂから
走行テーブル３のＹ方向の変位量の測定値が送入
される。そして、各コンパレータ１７により設定
値と変位量の測定値とを比較することによつて制
御量が決定され、その制御量は補償回路１８に送
られ、該補償回路１８により変動誤差等が除去さ
れ、ついでサーボ増巾器１９により増巾され、サ
ーボ増巾器１９から制御信号が出力されるように
なつている。
応して第１、第２のサーボ回路１６ａ，１６ｂが
設けられている。第１、第２のサーボ回路１６
ａ，１６ｂは、第５図に示されるように、コンパ
レータ１７、補償回路１８、サーボ増巾器１９と
を備えて構成されている。第１、第２のサーボ回
路１６ａ，１６ｂのコンパレータ１７には、設定
値と当該第１、第２の変位計１３ａ，１３ｂから
走行テーブル３のＹ方向の変位量の測定値が送入
される。そして、各コンパレータ１７により設定
値と変位量の測定値とを比較することによつて制
御量が決定され、その制御量は補償回路１８に送
られ、該補償回路１８により変動誤差等が除去さ
れ、ついでサーボ増巾器１９により増巾され、サ
ーボ増巾器１９から制御信号が出力されるように
なつている。
前記第１のサーボ回路１６ａには、第１、第２
の空気圧サーボ弁１４ａ，１４ｂが接続され、前
記第２のサーボ回路１６ｂには、第３、第４の空
気圧サーボ弁１４ｃ，１４ｄが接続されており、
第１のサーボ回路１６ａから出力される制御信号
は第１、第２の空気圧サーボ弁１４ａ，１４ｂに
入力され、第２のサーボ回路１６ａから出力され
る制御信号は第３、第４の空気圧サーボ弁１４
ｃ，１４ｄに入力されるようになつている。
の空気圧サーボ弁１４ａ，１４ｂが接続され、前
記第２のサーボ回路１６ｂには、第３、第４の空
気圧サーボ弁１４ｃ，１４ｄが接続されており、
第１のサーボ回路１６ａから出力される制御信号
は第１、第２の空気圧サーボ弁１４ａ，１４ｂに
入力され、第２のサーボ回路１６ａから出力され
る制御信号は第３、第４の空気圧サーボ弁１４
ｃ，１４ｄに入力されるようになつている。
なお、第５図において第１〜第４のサーボ弁は
符号１４により、第１〜第４の側面空気軸受は符
号６により、また第１、第２の変位計は符号１３
によりそれぞれ代表して示されている。
符号１４により、第１〜第４の側面空気軸受は符
号６により、また第１、第２の変位計は符号１３
によりそれぞれ代表して示されている。
前記実施例の真直度補正装置は、次のように作
用する。
用する。
すなわち、第１の測定基準ブロツク１２ａと第
１の変位計１３ａとにより走行テーブル３のＸ方
向の一方の端部側のＹ方向の変位量が測定され、
その測定値は第１のサーボ回路１６ａのコンパレ
ータ１７に送入される。
１の変位計１３ａとにより走行テーブル３のＸ方
向の一方の端部側のＹ方向の変位量が測定され、
その測定値は第１のサーボ回路１６ａのコンパレ
ータ１７に送入される。
これと同時に、第２の測定基準ブロツク１２ａ
と第２の変位計１３ａとにより走行テーブル３の
Ｘ方向の他方の端部側のＹ方向の変位量が測定さ
れ、その測定値は第２のサーボ回路１６ｂのコン
パレータ１７に送入される。
と第２の変位計１３ａとにより走行テーブル３の
Ｘ方向の他方の端部側のＹ方向の変位量が測定さ
れ、その測定値は第２のサーボ回路１６ｂのコン
パレータ１７に送入される。
ついで、第１のサーボ回路１６ａではコンパレ
ータ１７により設定値と第１の変位計１３ａから
送入される測定値とが比較されて制御量が決定さ
れ、その制御量は補償回路１８、サーボ増巾器１
９で処理され、制御信号として出力され、該制御
信号は第１、第２の空気圧サーボ弁１４ａ，１４
ｂに入力される。
ータ１７により設定値と第１の変位計１３ａから
送入される測定値とが比較されて制御量が決定さ
れ、その制御量は補償回路１８、サーボ増巾器１
９で処理され、制御信号として出力され、該制御
信号は第１、第２の空気圧サーボ弁１４ａ，１４
ｂに入力される。
他方、第２のサーボ回路１６ｂではコンパレー
タ１７により設定値と第２の変位計１３ｂから送
入される測定値とが比較されて制御量が決定さ
れ、その制御量は補償回路１８、サーボ増巾器１
９により処理され、制御信号として出力され、該
制御信号は第３、第４の空気サーボ弁１４ｃ，１
４ｄに入力される。
タ１７により設定値と第２の変位計１３ｂから送
入される測定値とが比較されて制御量が決定さ
れ、その制御量は補償回路１８、サーボ増巾器１
９により処理され、制御信号として出力され、該
制御信号は第３、第４の空気サーボ弁１４ｃ，１
４ｄに入力される。
而して、前記第１、第２の空気圧サーボ弁１４
ａ，１４ｄは、第１の変位計１３ａにより実測さ
れた走行テーブル３の当該位置の変位量に対応し
て出力される制御信号により制御され、アキユー
ムレータ１５から第１、第２の空気圧サーボ弁１
４ａ，１４ｂを経て第１、第２の側面空気軸受６
ａ，６ｂに走行テーブル３の変位量に対応する空
気圧が挿入され、走行テーブル３におけるＸ方向
の一方の端部が変位方向にしたがい、Ｙ方向の左
または右のいずれかに押圧、移動調整され、この
位置の変位量が設定値と一致するように補正され
る。
ａ，１４ｄは、第１の変位計１３ａにより実測さ
れた走行テーブル３の当該位置の変位量に対応し
て出力される制御信号により制御され、アキユー
ムレータ１５から第１、第２の空気圧サーボ弁１
４ａ，１４ｂを経て第１、第２の側面空気軸受６
ａ，６ｂに走行テーブル３の変位量に対応する空
気圧が挿入され、走行テーブル３におけるＸ方向
の一方の端部が変位方向にしたがい、Ｙ方向の左
または右のいずれかに押圧、移動調整され、この
位置の変位量が設定値と一致するように補正され
る。
また、前記第３、第４の空気圧サーボ弁１４
ｃ，１４ｄは、第２の変位計１３ｂにより実測さ
れた走行テーブル３のこの位置の変位量に対応し
て出力される制御信号により制御され、これによ
りアキユームレータ１５から第３、第４の空気圧
サーボ弁１４ｃ，１４ｄを通つて第３、第４の側
面空気軸受６ｃ，６ｄに走行テーブル３の変位量
に対応する空気圧が挿入され、走行テーブル３に
おけるＸ方向の他方の端部が変位方向にしたが
い、Ｙ方向の左または右のいずれかに押圧、移動
調整され、この位置の変位量が設定値と一致する
ように補正される。
ｃ，１４ｄは、第２の変位計１３ｂにより実測さ
れた走行テーブル３のこの位置の変位量に対応し
て出力される制御信号により制御され、これによ
りアキユームレータ１５から第３、第４の空気圧
サーボ弁１４ｃ，１４ｄを通つて第３、第４の側
面空気軸受６ｃ，６ｄに走行テーブル３の変位量
に対応する空気圧が挿入され、走行テーブル３に
おけるＸ方向の他方の端部が変位方向にしたが
い、Ｙ方向の左または右のいずれかに押圧、移動
調整され、この位置の変位量が設定値と一致する
ように補正される。
その結果、走行テーブル３のＹ方向の変位量は
設定範囲内に正確に補正され、走行テーブル３の
走行中のうねりが除去される。
設定範囲内に正確に補正され、走行テーブル３の
走行中のうねりが除去される。
前述の走行テーブル３の補正は、走行テーブル
３がＹ方向に平行に変位している場合、および走
行テーブル３が水平面内で回転していてねじれて
いる場合のいずれの場合にも実行される。
３がＹ方向に平行に変位している場合、および走
行テーブル３が水平面内で回転していてねじれて
いる場合のいずれの場合にも実行される。
なお、本発明では走行テーブル３のガイドであ
る軸受は、図示の空気軸受に限らず、静圧流体軸
受一般を採用でき、また変位計も前述の静電容量
型の非接触微小変位計を用いればより一層効果的
ではあるものの、これに限らないし、サーボ回路
も図示の構成に限らず、所期の機能を果しうるも
のであればよい。さらに、本発明は反射投影式マ
スクアライナの走行テーブル３に適用して好まし
い効果を発揮するものの、これに限らず、高精度
の真直度が要求される走行テーブル一般に適用で
きること勿論である。
る軸受は、図示の空気軸受に限らず、静圧流体軸
受一般を採用でき、また変位計も前述の静電容量
型の非接触微小変位計を用いればより一層効果的
ではあるものの、これに限らないし、サーボ回路
も図示の構成に限らず、所期の機能を果しうるも
のであればよい。さらに、本発明は反射投影式マ
スクアライナの走行テーブル３に適用して好まし
い効果を発揮するものの、これに限らず、高精度
の真直度が要求される走行テーブル一般に適用で
きること勿論である。
本発明は、以上説明した構成、作用のもので、
走行テーブルのＸ方向の複数個所におけるＹ方向
の一側部において走行テーブルの変位量を測定
し、その測定値と設定値とを比較して制御量を決
定し、その制御量に基づいて流体圧サーボ弁を制
御し、走行テーブルのＸ方向の複数個所における
両側部に設置された側面静圧流体軸受に供給する
流体圧を調整し、走行テーブルの側部の押圧、移
動調整し、設定値と変位量とが一致するようにし
ているので、走行テーブルを高精度の真直度に容
易に補正しうる効果がある。すなわち、本願発明
の走行テーブルのごとく、静圧流体軸受を用いた
場合、固定側側面および移動側側面の真直性、平
坦度の加工精度がテーブルの走行精度に大きく影
響する。
走行テーブルのＸ方向の複数個所におけるＹ方向
の一側部において走行テーブルの変位量を測定
し、その測定値と設定値とを比較して制御量を決
定し、その制御量に基づいて流体圧サーボ弁を制
御し、走行テーブルのＸ方向の複数個所における
両側部に設置された側面静圧流体軸受に供給する
流体圧を調整し、走行テーブルの側部の押圧、移
動調整し、設定値と変位量とが一致するようにし
ているので、走行テーブルを高精度の真直度に容
易に補正しうる効果がある。すなわち、本願発明
の走行テーブルのごとく、静圧流体軸受を用いた
場合、固定側側面および移動側側面の真直性、平
坦度の加工精度がテーブルの走行精度に大きく影
響する。
理想的には固定側の定盤精度および移動側テー
ブルの加工精度が完ぺきに仕上げられていれば、
本発明は不要となる。
ブルの加工精度が完ぺきに仕上げられていれば、
本発明は不要となる。
しかるに、現実には、本願発明の固定側定盤の
ようにテーブル支持の流体軸受間隔が大きい場合
には、加工精度（真直度）が影響してくる。
ようにテーブル支持の流体軸受間隔が大きい場合
には、加工精度（真直度）が影響してくる。
また、本願発明の走行テーブルのようにテーブ
ル支持の流体軸受間隔が大きい場合には、横方向
の平行ずれ、ヨーイングなどの精度が影響してく
る。
ル支持の流体軸受間隔が大きい場合には、横方向
の平行ずれ、ヨーイングなどの精度が影響してく
る。
そのため、定盤とテーブルとの相対的加工精度
（真直度）は数μｍ／1000mmが限度であり、定盤
を単独に用いてステージを駆動する方法では、サ
ブミクロンの精度を達成することは不可能であ
る。
（真直度）は数μｍ／1000mmが限度であり、定盤
を単独に用いてステージを駆動する方法では、サ
ブミクロンの精度を達成することは不可能であ
る。
そこで本発明は、テーブルの側面の静圧流体軸
受に接近する位置にあらかじめテーブルの走行方
向と平行になるように位置決めされた複数の測定
基準ブロツクを設置し、固定側定盤の静圧流体軸
受に接近する位置に上記測定基準ブロツクとの変
位量を測定する複数の静電容量型の非接触微小変
位計を設置したのである。
受に接近する位置にあらかじめテーブルの走行方
向と平行になるように位置決めされた複数の測定
基準ブロツクを設置し、固定側定盤の静圧流体軸
受に接近する位置に上記測定基準ブロツクとの変
位量を測定する複数の静電容量型の非接触微小変
位計を設置したのである。
したがつて、本発明は、定盤およびテーブル加
工精度が現状程度であつても、各流体軸受に対応
する個所での静電容量型の非接触微小変位計によ
り0.01μｍオーダでの測定が可能であり、この変
位計と流体軸受の流体圧制御を組合せることによ
り、サブミクロンでのテーブル真直度補正が可能
となり、反射投影式マスクアライナの走行テーブ
ルに適用した場合には、パターン焼き付け歪を小
さくなしうる効果がある。
工精度が現状程度であつても、各流体軸受に対応
する個所での静電容量型の非接触微小変位計によ
り0.01μｍオーダでの測定が可能であり、この変
位計と流体軸受の流体圧制御を組合せることによ
り、サブミクロンでのテーブル真直度補正が可能
となり、反射投影式マスクアライナの走行テーブ
ルに適用した場合には、パターン焼き付け歪を小
さくなしうる効果がある。
第１図は本発明で対象とする走行テーブルを備
えた反射投影式マスクアライナの平面図、第２図
は同正面図、第３図は同走行テーブル部分の縦断
側面図である。第４図および第５図は本発明の一
実施例を示すもので、第４図は第１図に対応して
示した平面図、第５図は変位計とサーボ回路と空
気サーボ弁と側面空気軸受との関連を示すブロツ
ク図である。 ３……走行テーブル、４……石定盤、５ａ〜５
ｄ……第１〜第４の上面空気軸受、６ａ〜６ｄ…
…側面静圧流体軸受である第１〜第４の側面空気
軸受、７……走行テーブルの駆動用モータ、８…
…同プーリ、９……同ベルト、１２ａ，１２ｂ…
…第１、第２の測定基準ブロツク、１３ａ，１３
ｂ……第１、第２の変位計、１４ａ〜１４ｄ……
流体圧サーボ弁である第１〜第４の空気圧サーボ
弁、１５……アキユームレータ、１６ａ，１６ｂ
……サーボ回路。
えた反射投影式マスクアライナの平面図、第２図
は同正面図、第３図は同走行テーブル部分の縦断
側面図である。第４図および第５図は本発明の一
実施例を示すもので、第４図は第１図に対応して
示した平面図、第５図は変位計とサーボ回路と空
気サーボ弁と側面空気軸受との関連を示すブロツ
ク図である。 ３……走行テーブル、４……石定盤、５ａ〜５
ｄ……第１〜第４の上面空気軸受、６ａ〜６ｄ…
…側面静圧流体軸受である第１〜第４の側面空気
軸受、７……走行テーブルの駆動用モータ、８…
…同プーリ、９……同ベルト、１２ａ，１２ｂ…
…第１、第２の測定基準ブロツク、１３ａ，１３
ｂ……第１、第２の変位計、１４ａ〜１４ｄ……
流体圧サーボ弁である第１〜第４の空気圧サーボ
弁、１５……アキユームレータ、１６ａ，１６ｂ
……サーボ回路。
Claims (1)
- １ 少なくとも走行方向に間隔を存して設定され
た複数個所についてそれらの両側及びそれらの下
側に設けられた側面静圧流体軸受によりガイドさ
れ、駆動源からの動力により定盤上を直進走行す
る走行テーブルの真直度補正装置において、前記
走行方向の複数個所の側面静圧流体軸受に対応さ
せて所定の間隔を存して各側面静圧流体軸受に近
接させ、且つ走行テーブルの走行方向と直交する
方向の走行テーブル上の側部の複数位置に測定基
準ブロツクを設置し、該測定基準ブロツクに対応
させて測定基準ブロツクとの変位量を測定する複
数の静電容量型の非接触微小変位計を定盤上に固
定設置し、各側面静圧流体軸受に流体を供給する
流体圧サーボ弁を接続し、予め設定された基準変
位量に相当する設定値と前記各非接触微小変位計
の測定値とを比較して制御量を決定するコンパレ
ータと該コンパレータの出力信号の変動誤差を除
去する補償回路と該補償回路の出力信号を増幅す
るサーボ増幅器とを備え、制御信号を出力するサ
ーボ回路を設け、各サーボ回路を非接触微小変位
計側の前記流体圧サーボ弁に接続し、前記制御信
号に基づき当該流体サーボ弁を通じて当該側面静
圧流体軸受に流体圧を供給し、走行テーブルの複
数の個所の変位量と前記各設定値とが一致するよ
うに直進テーブルの真直度を補正しうるように構
成したことを特徴とする直進走行テーブルの真直
度補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56068888A JPS57184901A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Correcting device for degree of straight of straight travelling table |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56068888A JPS57184901A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Correcting device for degree of straight of straight travelling table |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57184901A JPS57184901A (en) | 1982-11-13 |
| JPH0157286B2 true JPH0157286B2 (ja) | 1989-12-05 |
Family
ID=13386640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56068888A Granted JPS57184901A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Correcting device for degree of straight of straight travelling table |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57184901A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60224009A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-08 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | 自動三次元測定機 |
| JPH0676886B2 (ja) * | 1986-04-30 | 1994-09-28 | 株式会社東京精密 | ブリツジ型移動装置 |
| JP2567811B2 (ja) * | 1994-02-14 | 1996-12-25 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置 |
| JP5447198B2 (ja) * | 2010-06-08 | 2014-03-19 | 株式会社デンソー | 回転体のバランス計測装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5397859A (en) * | 1977-02-08 | 1978-08-26 | Fujitsu Ltd | Plane positioning shifter |
| JPS586162B2 (ja) * | 1977-04-07 | 1983-02-03 | 宮下 政和 | 微小位置決め装置 |
-
1981
- 1981-05-09 JP JP56068888A patent/JPS57184901A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57184901A (en) | 1982-11-13 |
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