JPH0174263U - - Google Patents

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JPH0174263U
JPH0174263U JP1987168719U JP16871987U JPH0174263U JP H0174263 U JPH0174263 U JP H0174263U JP 1987168719 U JP1987168719 U JP 1987168719U JP 16871987 U JP16871987 U JP 16871987U JP H0174263 U JPH0174263 U JP H0174263U
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JP
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turntable
mounting plate
substrate mounting
evaporator
forming apparatus
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JP1987168719U
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【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案に係る成膜装置の平面図、第
２図は、同正面概略図、第３図は、回転駆動部を
示す一部省略斜視図、第４図は、従来の真空成膜
装置を示す平面図、第５図は、同正面概略図であ
る。 尚、図中１は蒸発部、２はターンテーブル、３
は基板取付板、３１は中心軸、４は回転駆動部、
Ｒは真空室である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 中心孔を有するターンテーブルを真空室に
    設け、該ターンテーブルの中心孔上部に蒸発部を
    配設し、該ターンテーブル上で且つ蒸発部の周囲
    に複数の基板取付板を立設したものであつて、 前記ターンテーブルを水平回転させるとともに
    、各基板取付板を中心軸を中心にして回動させる
    真空成膜装置。 (2) 前記基板取付板は、ターンテーブル上に設
    けられたストツパーにより１８０°以上の回動が
    制御されることを特徴とする実用新案登録請求の
    範囲第１項記載の真空成膜装置。
JP1987168719U 1987-11-04 1987-11-04 Pending JPH0174263U (ja)

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JP1987168719U JPH0174263U (ja) 1987-11-04 1987-11-04

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JPH0174263U true JPH0174263U (ja) 1989-05-19

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Family Applications (1)

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JP1987168719U Pending JPH0174263U (ja) 1987-11-04 1987-11-04

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JP (1) JPH0174263U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008240105A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Showa Shinku:Kk 基板ホルダ、成膜装置及び成膜方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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