JPH018287Y2 - - Google Patents

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JPH018287Y2
JPH018287Y2 JP1984185515U JP18551584U JPH018287Y2 JP H018287 Y2 JPH018287 Y2 JP H018287Y2 JP 1984185515 U JP1984185515 U JP 1984185515U JP 18551584 U JP18551584 U JP 18551584U JP H018287 Y2 JPH018287 Y2 JP H018287Y2
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tapered
tapered table
surface plate
polishing
lap
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JP1984185515U
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JPS6199461U (ja
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、研摩装置に関し、特に磁気ヘツドの
ヘツド面に曲面加工を行うに適した研摩装置に関
する。
磁気ヘツドは高分解能化、高感度化に伴い、そ
の構造は小型で微細なものとなるため、その製造
工程中における機械加工には高い工作精度が要求
される。
特に磁気ヘツドのヘツド面は、磁気特性に大き
な影響を有するため、その曲面加工には格別の精
密さが要求される。
〔従来の技術〕
従来までは走行面(R面)を有するヘツドHの
ラツプは第4図に示すようにヘツド形状と相反す
る凹形のR面を有するラツプ工具Jを製作し矢印
Yの如くヘツドHの長手方向に往復摺動させるハ
ンドラツプにて加工していた。
〔考案が解決しようとする問題点〕
上記の研摩装置にあつては、人手による研摩の
ため磁気ヘツド長手方向のギヤツプデイプスのア
ンバランス又はラツプ工具Jの摩耗によるR形状
のくずれ等発生し、電磁変換特性のバラツキ、ヘ
ツド走行面の異常、摩耗が生じ又は磁気テープの
損傷など欠点が多かつた。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は上記問題点を解消した研摩精度の高い
研摩装置を提供するもので、その手段は、ラツプ
定盤面上で研摩される被研摩体を外周上に載置す
る回転体と、ラツプ定盤を保持してなる第1のテ
ーパ台と、前記第1のテーパ台と傾斜面が対向す
る如く配置され、かつ前記第1のテーパ台を前記
傾斜面上で滑動せしめる如く前記第1のテーパ台
とバネで結合されてなる第2のテーパ台とを備え
た研摩装置によりなされる。
〔作用〕
上記研摩装置は、被研摩体を研摩するラツプ定
盤を保持する機構として、傾斜面が対向配置され
てなり、かつ前記ラツプ定盤を載置する第1のテ
ーパ台を滑動すべく、互いにバネで結合された1
対のテーパ台を採用したため、前記第1のテーパ
台の滑動に伴い前記ラツプ定盤が前記被研摩体側
に押し上げられる結果、前記被研摩体とラツプ盤
面は常に密着状態に保持され、良好な研摩面が得
られる。又、前記ラツプ定盤載置機構をガイド機
構により走行せしめるため、ラツプ定盤面の摩耗
も均一となり研摩精度が向上する。
〔実施例〕
以下図面を参照して本考案の実施例を詳述す
る。
第1図a,bは本考案の実施例構成を示す正面
図および側面図である。
磁気ヘツドHは、回転体(リング)K周上に固
定され、回転しながらラツプ定盤Lの盤面と摺動
し、研摩される。
リングKの回転軸N1の一端は歯車M1に結合さ
れ、この歯車M1はモータM2により回転駆動され
る歯車M3と噛合する。
回転軸N1の他端は支持軸N2を有する軸受けN3
により支持される。
ラツプ定盤Lは第1のテーパ台上に載置され
る。この第1のテーパ台T1はボールガイドBを
介して傾斜面が対向配置される第2のテーパ台
T2とバネDで結合される。このテーパ台T1
T2、ボールガイドBはラツプ定盤Lの保持機構
を形成する。
この一対のテーパ台T1,T2、は第2図に示す
ように空洞部W1,W2内にバネDを設け、このバ
ネDの両端はピンE1,E2で各テーパ台T1,T2
固定されるため、第1のテーパ台T1には調整台
S上に固定されている第2のテーパ台T2面上を
矢印Z方向へ滑動させる力が働く。調整台Sは弾
性板が2つ折りになつたバネ状部材で構成され、
折り曲げ部Qとは反対側はネジ足Vにて間隙Gの
調整が行われるようになつているためラツプ定盤
Lの盤面の傾きが調整される。
Aはローラガイドであつて、モータM4の回転
軸に直結された回転軸N4と、ネジ結合されてお
り、モータの正逆回転に応じてローラF1〜F3
設けられた上体部AUは矢印X1,X2方向に移動
する。従つてラツプ定盤Lも矢印X1,X2方向に
移動する。
ATは突起部であつて、下体部ADに設けたマ
イクロスイツチ等の検知部C1,C2と係触すると、
モータM4の回転は反転する。つまり、ローラガ
イドAの上体部AUはこの検知部C1,C2で定めら
れる範囲内で上記移動動作を繰り返す。
第3図に実線で示す磁気ヘツドHを同図に破線
で示す形状にする研摩は次のようにして行われ
る。
磁気ヘツドHをリングKの外周面上に取り付け
モータM2の回転によりリングKを回転させる。
磁気ヘツドHはラツプ定盤L1上に砥粒供給部LT
から供給される砥粒によつて研摩されるが、研摩
時間の経過とともに、研摩量が増大するので、こ
れに伴い、第1のテーパ台T1はバネDの力によ
り矢印Z方向へ除々に移動し、ラツプ定盤Lの盤
面は常に磁気ヘツドHの研摩面と密着状態に保た
れる。
第1のテーパ台T1の矢印方向Zへの移動はス
トツパTSとの係触により停止するので、この停
止位置の設定により磁気ヘツドの研摩量が規定さ
れる。
ローラガイドAは前述のように往復運動を行つ
ており、ラツプ定盤Lも同様に往復運動を行うた
め、磁気ヘツドHの研摩に伴い生じるこのラツプ
定盤Lの盤面の摩耗は盤面全面に旦り均一とな
る。
考案の効果 このようにラツプ定盤はバネにより結合された
1対のテーパ台により保持され、又この一対のテ
ーパ台はローラガイドにより保持されるため、磁
気ヘツドの研摩量の如何によらず常にラツプ定盤
の盤面と、磁気ヘツドは密着し、かつ、ラツプ定
盤の盤面の摩耗も盤面全面に旦り均一となつて、
平面性が損われず被研摩体の研摩面は良好なもの
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bは本考案の実施例構成図、第2図
は、テーパ台の結合の様子を示す図、第3図は磁
気ヘツドの構成図、第4図は従来の研摩方法を説
明する図である。 K:回転体、L:ラツプ定盤、T1,T2:テー
パ台、B:バネ、S:調整台、A:ガイド機構。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 ラツプ定盤面上で研摩される被研摩体を外周
    上に載置する回転体と、前記ラツプ定盤を保持
    してなる第1のテーパ台と、前記第1のテーパ
    台と傾斜面が対向する如く配置され、かつ前記
    第1のテーパ台を前記傾斜面上で滑動せしめる
    べく前記第1のテーパ台とバネで結合されてな
    る第2のテーパ台とを備えてなることを特徴と
    する研摩装置。 2 前記第2のテーパ台を載置してなり、該第2
    のテーパ台を走行せしめるガイド機構を設けた
    ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
    研摩装置。
JP1984185515U 1984-12-06 1984-12-06 Expired JPH018287Y2 (ja)

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JP1984185515U JPH018287Y2 (ja) 1984-12-06 1984-12-06

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JP1984185515U JPH018287Y2 (ja) 1984-12-06 1984-12-06

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JPS6199461U JPS6199461U (ja) 1986-06-25
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JP2542143B2 (ja) * 1992-01-22 1996-10-09 関電興業株式会社 弁体シ―ト摺合せ機械

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JPS6199461U (ja) 1986-06-25

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