JPH0189740U - - Google Patents

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JPH0189740U
JPH0189740U JP18508987U JP18508987U JPH0189740U JP H0189740 U JPH0189740 U JP H0189740U JP 18508987 U JP18508987 U JP 18508987U JP 18508987 U JP18508987 U JP 18508987U JP H0189740 U JPH0189740 U JP H0189740U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図〜第５図は、この考案の実施例を示す図
で、第１図は、第１実施例を示す正面図、第２図
は、第１図の―線拡大断面図、第３図は、第
２実施例を示す左側面図で第２図に相当する図、
第４図は、第３実施例を示す左側面図で第２図に
相当する図、第５図は、第４図の―線拡大断
面図、第６図は、第４実施例を示す拡大断面図で
、第４図に相当する図である。 ３……ガス入口、５……反応室、６……バツフ
ア、８……ガス通孔。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反応管内のガス入口側に、燃焼室形成用の
    ガス通孔付バツフアを設けたことを特徴とするバ
    ツフア型熱処理炉。 (2) バツフアが、摺動自在であることを特徴と
    する実用新案登録請求の範囲第１項記載のバツフ
    ア型熱処理炉。 (3) バツフアが、断面略円弧状であることを特
    徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のバ
    ツフア型熱処理炉。 (4) バツフアが、断面略Ｕ字状であることを特
    徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のバ
    ツフア型熱処理炉。 (5) ガス通孔が、１個であることを特徴とする
    実用新案登録請求の範囲第１項記載のバツフア型
    熱処理炉。 (6) ガス通孔が、複数個であることを特徴とす
    る実用新案登録請求の範囲第１項記載のバツフア
    型熱処理炉。
JP1987185089U 1987-12-04 1987-12-04 バッファ型熱処理炉 Expired - Lifetime JPH069504Y2 (ja)

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JPH0189740U true JPH0189740U (ja) 1989-06-13
JPH069504Y2 JPH069504Y2 (ja) 1994-03-09

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016163025A (ja) * 2015-03-05 2016-09-05 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体デバイスの製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5325364A (en) * 1976-08-23 1978-03-09 Hitachi Ltd Hydrogen combustion type oxidation furnace
JPS58116737A (ja) * 1981-12-30 1983-07-12 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体ウエハの熱処理装置
JPS6218039A (ja) * 1985-07-17 1987-01-27 Tdk Corp 半導体ウエフアの酸化装置

Patent Citations (3)

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JPH069504Y2 (ja) 1994-03-09

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