JPH0192356A - 装飾体およびその製造方法 - Google Patents
装飾体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0192356A JPH0192356A JP24691087A JP24691087A JPH0192356A JP H0192356 A JPH0192356 A JP H0192356A JP 24691087 A JP24691087 A JP 24691087A JP 24691087 A JP24691087 A JP 24691087A JP H0192356 A JPH0192356 A JP H0192356A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- masking
- layer
- vacuum
- base material
- masking layer
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、真空成膜法を用いて、基材上にパターン層を
形成した装飾体およびその製造方法に関する。
形成した装飾体およびその製造方法に関する。
［従来の技術とその問題点］
一般に、筆記具、時計等といった携帯用装飾品の装飾用
薄膜を形成する方法の１つとして真空成膜法がある。
薄膜を形成する方法の１つとして真空成膜法がある。
これらの薄膜を用いて、装飾効果の高いパターン形成を
行なうために、レジスト、メタルマスク等の方法が用い
られているが、筆記具、時計等といった携帯用装飾品に
応用するには１作業工程が複雑である、用いられる材料
が高価格である等といった点から問題が多いものである
。そのため、低コストで作業性に富んだパターン形成方
法として、転写法、あるいは、スクリーン印刷法等によ
り、ペースト状マスキング材のパターンを基材に印刷し
、このパターン上に直接装飾用薄膜を真空成膜法により
形成した後、マスキング材を除去し、装飾用薄膜のパタ
ーンを形成する方法がある。
行なうために、レジスト、メタルマスク等の方法が用い
られているが、筆記具、時計等といった携帯用装飾品に
応用するには１作業工程が複雑である、用いられる材料
が高価格である等といった点から問題が多いものである
。そのため、低コストで作業性に富んだパターン形成方
法として、転写法、あるいは、スクリーン印刷法等によ
り、ペースト状マスキング材のパターンを基材に印刷し
、このパターン上に直接装飾用薄膜を真空成膜法により
形成した後、マスキング材を除去し、装飾用薄膜のパタ
ーンを形成する方法がある。
この方法として、マスキング材によるパターン形成に低
融点ガラスフリットの焼付けによる密着性を利用したも
の、増粘剤としてエチルセルロース、ニトロセルロース
等を使用したマスキング材を用いたもの等が一般に用い
られているが、低融点ガラスフリットの焼付けによる密
着性を利用したものは、ガラス系基材との特有の物理的
性質、例えば、転移温度、軟化温度等の差を利用してい
るため、金居１合金、セラミック等の基材には不向きで
あり、作業性も悪いものである。
融点ガラスフリットの焼付けによる密着性を利用したも
の、増粘剤としてエチルセルロース、ニトロセルロース
等を使用したマスキング材を用いたもの等が一般に用い
られているが、低融点ガラスフリットの焼付けによる密
着性を利用したものは、ガラス系基材との特有の物理的
性質、例えば、転移温度、軟化温度等の差を利用してい
るため、金居１合金、セラミック等の基材には不向きで
あり、作業性も悪いものである。
一方、増粘剤としてエチルセルロース、ニトロセルロー
ス等を使用したマスキング材を用いたものは、耐熱性が
悪く、２００℃以上の温度ではガスを発生し分解、炭化
してしまう。特に窒化チタン、炭化チタン等の金色装飾
用薄膜のパターン形成に用いるには、薄膜形成中にガス
が発生すると色が黒ずむため所望の金色薄膜が得られな
いものである。
ス等を使用したマスキング材を用いたものは、耐熱性が
悪く、２００℃以上の温度ではガスを発生し分解、炭化
してしまう。特に窒化チタン、炭化チタン等の金色装飾
用薄膜のパターン形成に用いるには、薄膜形成中にガス
が発生すると色が黒ずむため所望の金色薄膜が得られな
いものである。
その上に、立体的なパターンを形成するため、真空成膜
法及び化学めっきを併用して同形のパタ二島、を形成す
る場合には、レジスト、メタルマスク等といった方法を
用いて真空成膜法によりパターンを形成する工程と、マ
スキング材を用いて、化学めっきによりパターンを形成
する工程とを交互に行なうことにより、作業工程が複雑
になる、同一形状のパターンを形成するのが難しい等と
いった問題点を有する。
法及び化学めっきを併用して同形のパタ二島、を形成す
る場合には、レジスト、メタルマスク等といった方法を
用いて真空成膜法によりパターンを形成する工程と、マ
スキング材を用いて、化学めっきによりパターンを形成
する工程とを交互に行なうことにより、作業工程が複雑
になる、同一形状のパターンを形成するのが難しい等と
いった問題点を有する。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その
要旨を、軟化点が２００ ’Ｃ以上で、真空での蒸気圧
が２００℃で１×１０″″３Ｐａ以下のマスキング材を
用いて、真空成膜法及び化学めっきにより我村上に同形
のパターン層を少なくとも２層形成したことを特徴とす
る装飾体ｔおよび、基材上に軟化点が２００℃以上で、
真空での蒸気圧が２００°Ｃで１×１０−３Ｐａ以下の
マスキング材を用いて、非パターン部にマスキング層を
設け、この後、該マスキング層およびパターン部上に真
空酸Ｉ’Ｓ法及び化学めっきにより少なくとも２層皮膜
を設け、次いで、マスキング層および該マスキング層上
の皮膜を除去してなる装飾体の製造方法とするものであ
る。
要旨を、軟化点が２００ ’Ｃ以上で、真空での蒸気圧
が２００℃で１×１０″″３Ｐａ以下のマスキング材を
用いて、真空成膜法及び化学めっきにより我村上に同形
のパターン層を少なくとも２層形成したことを特徴とす
る装飾体ｔおよび、基材上に軟化点が２００℃以上で、
真空での蒸気圧が２００°Ｃで１×１０−３Ｐａ以下の
マスキング材を用いて、非パターン部にマスキング層を
設け、この後、該マスキング層およびパターン部上に真
空酸Ｉ’Ｓ法及び化学めっきにより少なくとも２層皮膜
を設け、次いで、マスキング層および該マスキング層上
の皮膜を除去してなる装飾体の製造方法とするものであ
る。
以Ｆ１図面に従い、本発明について詳述する。
参照符合１は、鉄、鋼、アルミニウム、亜鉛等の金属ま
たはこれらの合金、セラミックス、ガラス、樹脂等の基
材を示すものであり、適宜必要に応じて、これらの基材
の表面には、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング等の真空成膜法により皮膜２ａを設けたり、電
気めっき、無電解めっき等の化学めっきによりぬっき１
２ｂを設けてもよい。これらの皮膜２ａ或いはめっき層
２ｂは、適宜必要に応じて、１種もしくは２種以上組み
合わせて設けてもよい。（第１− （ａ）〜（ｃ）図参
照） 上記基材１上には、パターンＭ３を形成するものであり
、該パターン層３は真空成膜法による被膜３ａ化学めっ
きによるめっき層３ｂを適宜必要に応じて組み合わせて
設けてなる。
たはこれらの合金、セラミックス、ガラス、樹脂等の基
材を示すものであり、適宜必要に応じて、これらの基材
の表面には、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング等の真空成膜法により皮膜２ａを設けたり、電
気めっき、無電解めっき等の化学めっきによりぬっき１
２ｂを設けてもよい。これらの皮膜２ａ或いはめっき層
２ｂは、適宜必要に応じて、１種もしくは２種以上組み
合わせて設けてもよい。（第１− （ａ）〜（ｃ）図参
照） 上記基材１上には、パターンＭ３を形成するものであり
、該パターン層３は真空成膜法による被膜３ａ化学めっ
きによるめっき層３ｂを適宜必要に応じて組み合わせて
設けてなる。
上記パターン層３上には、適宜必要に応じて、真空成膜
法による皮膜４ａ或いは化学めっきによるめっき／ｉ！
７４ｂを１種もしくは２種以上組み合わせて設けてもよ
い。（第２−（ａ）〜（ｃ）図参照） 次に、本発明の製造方法について詳述する。
法による皮膜４ａ或いは化学めっきによるめっき／ｉ！
７４ｂを１種もしくは２種以上組み合わせて設けてもよ
い。（第２−（ａ）〜（ｃ）図参照） 次に、本発明の製造方法について詳述する。
基材１の表面に、軟化点が２００ ’Ｃ以上で、真空で
の蒸気圧が２００℃で１×１０−ｆｆＰａ以下のマスキ
ング材をスクリーン印刷或いは転写法等により、非パタ
ーン部５にマスキング層６を設け、この上にパターン層
３を設け、この後、有機溶剤等によりマスキング層６を
除去することにより得られる。
の蒸気圧が２００℃で１×１０−ｆｆＰａ以下のマスキ
ング材をスクリーン印刷或いは転写法等により、非パタ
ーン部５にマスキング層６を設け、この上にパターン層
３を設け、この後、有機溶剤等によりマスキング層６を
除去することにより得られる。
本発明によるマスキング材の軟化点が２００℃以上で、
真空での蒸気圧が２００℃で１×１０−３Ｐａ以下であ
るのは、真空成膜法による皮膜形成の条件下において、
マスキング材の剥離やガスの発生を防ぐためである。
真空での蒸気圧が２００℃で１×１０−３Ｐａ以下であ
るのは、真空成膜法による皮膜形成の条件下において、
マスキング材の剥離やガスの発生を防ぐためである。
上記マスキング材としては、軟化点が２００℃以上のセ
ルロース系の増粘剤と、上記セルロース系の増粘剤を溶
解し得る溶剤と、非吸若性の無機粉体（アルミニウム、
鉄、銅、ニッケル、チタン等の金属あるいはこれらの合
金、酸化物、窒化物、炭化物等の金属化合物、ガラス、
セラミックス等）からなるマスキング材を用いるもので
ある。
ルロース系の増粘剤と、上記セルロース系の増粘剤を溶
解し得る溶剤と、非吸若性の無機粉体（アルミニウム、
鉄、銅、ニッケル、チタン等の金属あるいはこれらの合
金、酸化物、窒化物、炭化物等の金属化合物、ガラス、
セラミックス等）からなるマスキング材を用いるもので
ある。
［実施例］
以下、実施例に基づき、更に詳述する。
実施例１
真鍮の板にニッケルめっきを施した基材１をトリクロル
エチレン、アセトン、イソプロピルアルコールにより順
に超音波洗浄を行なった後、乾燥させ、基材表面を浄化
する（第３−（ａ）図）。
エチレン、アセトン、イソプロピルアルコールにより順
に超音波洗浄を行なった後、乾燥させ、基材表面を浄化
する（第３−（ａ）図）。
この基材上に、シルクスクリーン印刷によりマスキング
材を用いてネガパターンを形成する（第３− （ｂ）図
）。その後、化学めっきによりニッケル層を約３０ｐｍ
形成した後、洗浄、乾燥し、基材を真空槽内に入れ、１
×１０−３Ｐａ以下の真空にして、基材バイアス電圧−
１００Ｖ、Ａｒガス圧−力１．３３Ｐａ、直流電力２Ａ
Ｘ４００Ｖの条件■ ス（混合比８：２）圧力６．６５Ｘ１０−１Ｐａ、直流
電力１．１Ａｘ４６０Ｖの条件にて１０分間スパッタリ
ングを行ない、上記したニッケルめっき層の上に、窒化
チタンＭ３を形成した（第３−（ｃ）図）。この基材よ
り、アセトンを使って、窒化チタン層３を接着したまま
マスキング層６を除去して、窒化チタン層によるパター
ンを形成した（第３− （ｄ）図）。この結果窒化チタ
ンの金色にニッケルの銀色立体パターンを形成すること
ができた。
材を用いてネガパターンを形成する（第３− （ｂ）図
）。その後、化学めっきによりニッケル層を約３０ｐｍ
形成した後、洗浄、乾燥し、基材を真空槽内に入れ、１
×１０−３Ｐａ以下の真空にして、基材バイアス電圧−
１００Ｖ、Ａｒガス圧−力１．３３Ｐａ、直流電力２Ａ
Ｘ４００Ｖの条件■ ス（混合比８：２）圧力６．６５Ｘ１０−１Ｐａ、直流
電力１．１Ａｘ４６０Ｖの条件にて１０分間スパッタリ
ングを行ない、上記したニッケルめっき層の上に、窒化
チタンＭ３を形成した（第３−（ｃ）図）。この基材よ
り、アセトンを使って、窒化チタン層３を接着したまま
マスキング層６を除去して、窒化チタン層によるパター
ンを形成した（第３− （ｄ）図）。この結果窒化チタ
ンの金色にニッケルの銀色立体パターンを形成すること
ができた。
尚、用いたマスキング材の組成は以下に示す。
以下、単に１％」とあるのは「重量％」を示す。
アセチルブチルセルロース １３．６％Ｔｉ○
２粉 ２７．２％以下、表１に示す様に
基材に、前処理を行ない、洗浄、乾燥し、この上に下地
石を設け、実施例１と同様にして、ネガパターンを形成
し、表１に示表 １ ［効 果］ 以上の様に、本発明による装飾体の製造方法は、作業性
に富み、低コストで、各種基材に適応し得るものであり
、装飾効果の高いパターン層を設けた装飾体が得られる
ものである。
２粉 ２７．２％以下、表１に示す様に
基材に、前処理を行ない、洗浄、乾燥し、この上に下地
石を設け、実施例１と同様にして、ネガパターンを形成
し、表１に示表 １ ［効 果］ 以上の様に、本発明による装飾体の製造方法は、作業性
に富み、低コストで、各種基材に適応し得るものであり
、装飾効果の高いパターン層を設けた装飾体が得られる
ものである。
第１− （ａ） 〜（ｃ）図、第２ （ａ）〜（ｃ）
図は本発明により得られる装飾体の例を示す縦断面図、
第３−（ａ）〜（ｄ）図は、本発明におけ’ ２ａ、
３ａ、４ａ・・・真空成膜法による皮膜２ｂ、３ｂ、４
ｂ・・・化学めっきによるめっき層。 ３・・・パターン層、 ５・・・非パターン部、６
・・・マスキング層。 特許出皿へ ぺんでる株式会社 第ｆ−（ａ）図 第ｆ−（Ｃ）図第２
−（礁）図 第２−（Ｃ）図第２−
（り図 第３一体）図 ト” ｙ ／、 ｙコ 第３−（＆）図 第３−（Ｃ）図 第３−（４３図
図は本発明により得られる装飾体の例を示す縦断面図、
第３−（ａ）〜（ｄ）図は、本発明におけ’ ２ａ、
３ａ、４ａ・・・真空成膜法による皮膜２ｂ、３ｂ、４
ｂ・・・化学めっきによるめっき層。 ３・・・パターン層、 ５・・・非パターン部、６
・・・マスキング層。 特許出皿へ ぺんでる株式会社 第ｆ−（ａ）図 第ｆ−（Ｃ）図第２
−（礁）図 第２−（Ｃ）図第２−
（り図 第３一体）図 ト” ｙ ／、 ｙコ 第３−（＆）図 第３−（Ｃ）図 第３−（４３図
Claims (4)
- （１）軟化点が２００℃以上で、真空での蒸気圧が２０
０℃で１×１０＾−＾３Ｐａ以下のマスキング材を用い
て、真空成膜法及び化学めっきにより基材上に同形のパ
ターン層を少なくとも２層形成したことを特徴とする装
飾体。 - （２）基材上に、軟化点が２００℃以上で、真空での蒸
気圧が２００℃で１×１０＾−＾３Ｐａ以下のマスキン
グ材を用いて、非パターン部にマスキング層を設け、こ
の後、該マスキング層およびパターン部上に真空成膜法
及び化学めっきにより少なくとも２層皮膜を設け、次い
で、マスキング層および該マスキング層上の皮膜を除去
してなる装飾体の製造方法。 - （３）上記マスキング材が軟化点が２００℃以上のセル
ロース系の増粘剤と、上記セルロース系の増粘剤を溶解
し得る溶剤と、非吸着性の無機粉体からなることを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の装飾体。 - （４）上記マスキング材が軟化点が２００℃以上のセル
ロース系の増粘剤と、上記セルロース系の増粘剤を溶解
し得る溶剤と、非吸着性の無機粉体からなることを特徴
とする特許請求の範囲第（２）項記載の装飾体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24691087A JPH0192356A (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 | 装飾体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24691087A JPH0192356A (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 | 装飾体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0192356A true JPH0192356A (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=17155565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24691087A Pending JPH0192356A (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 | 装飾体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0192356A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533483A (ja) * | 2003-09-19 | 2007-11-22 | シピックス・イメージング・インコーポレーテッド | インモールド・デコレーション用のパターンを描いた薄膜構造物を形成する方法 |
| JP2011191321A (ja) * | 2003-12-23 | 2011-09-29 | Rolex Sa | 時計ケース用セラミック部材の製造方法及びその方法により得られる部材 |
-
1987
- 1987-09-30 JP JP24691087A patent/JPH0192356A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533483A (ja) * | 2003-09-19 | 2007-11-22 | シピックス・イメージング・インコーポレーテッド | インモールド・デコレーション用のパターンを描いた薄膜構造物を形成する方法 |
| JP2011191321A (ja) * | 2003-12-23 | 2011-09-29 | Rolex Sa | 時計ケース用セラミック部材の製造方法及びその方法により得られる部材 |
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