JPH0196814A - 複合型薄膜磁気ヘッド - Google Patents
複合型薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0196814A JPH0196814A JP25362987A JP25362987A JPH0196814A JP H0196814 A JPH0196814 A JP H0196814A JP 25362987 A JP25362987 A JP 25362987A JP 25362987 A JP25362987 A JP 25362987A JP H0196814 A JPH0196814 A JP H0196814A
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- JP
- Japan
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- head
- substrate
- magnetic head
- magnetic
- thin film
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3967—Composite structural arrangements of transducers, e.g. inductive write and magnetoresistive read
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- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク、ＶＴＲなどの磁気記録に係り、
特に高密度磁気記録に好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
特に高密度磁気記録に好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
誘導型簿膜磁気ヘッドと磁気抵抗効果型磁気ヘットとを
複合化する技術としては、（１）磁気抵抗゛ 効果型ヘ
ッドの上に誘導型薄膜磁気ヘッドを形成する。（２）誘
導型磁気ヘッドの磁極間に磁気抵抗効果型ヘッドを形成
する。（３）誘導型薄膜磁気ヘッドの上に磁気抵抗効果
型ヘッドを形成するという３つの構造が提案されている
。これらの技術に関してはそれぞれ特開昭５１−１４８
４１１号、特開昭５２−１１９２１号、特開昭５８−１
８９８１８号において論じられている。
複合化する技術としては、（１）磁気抵抗゛ 効果型ヘ
ッドの上に誘導型薄膜磁気ヘッドを形成する。（２）誘
導型磁気ヘッドの磁極間に磁気抵抗効果型ヘッドを形成
する。（３）誘導型薄膜磁気ヘッドの上に磁気抵抗効果
型ヘッドを形成するという３つの構造が提案されている
。これらの技術に関してはそれぞれ特開昭５１−１４８
４１１号、特開昭５２−１１９２１号、特開昭５８−１
８９８１８号において論じられている。
これらの技術の中で、３番目の誘導型磁気ヘッドの上に
磁気抵抗効果型磁気ヘッドを積層する構造の複合ヘッド
では、第２図に示すように、媒体に対して、記録ヘッド
の後に再生ヘッドを置く構造となるため、書き込み直後
に読み出しができる。
磁気抵抗効果型磁気ヘッドを積層する構造の複合ヘッド
では、第２図に示すように、媒体に対して、記録ヘッド
の後に再生ヘッドを置く構造となるため、書き込み直後
に読み出しができる。
このため、書き込んだ情報の確認ができ、磁気記録にお
けるエラーレートを極めて小さくすることができる。
けるエラーレートを極めて小さくすることができる。
しかしながら、上記従来技術では、第２図に示すように
、平坦な基板上に記録ヘッドを形成するため、再生ヘッ
ド形成部分の近傍に記録ヘッドの段差部分７が生じる。
、平坦な基板上に記録ヘッドを形成するため、再生ヘッ
ド形成部分の近傍に記録ヘッドの段差部分７が生じる。
このように平坦な部分が十分得られないため再生ヘッド
を精度良く形成することが困難であった。
を精度良く形成することが困難であった。
本発明の目的は、記録ヘッドの上部を平坦化して、精度
良く再生ヘッドを形成することのできる複合型薄膜磁気
ヘッドを提供することにある。
良く再生ヘッドを形成することのできる複合型薄膜磁気
ヘッドを提供することにある。
上記目的は、あらかじめ凹部を有する基板上に記録ヘッ
ドを形成することによって達成される。
ドを形成することによって達成される。
本発明の作用を第１図を用いて説明する。予め基板１を
加工して、なだらかな側面を有する凹部を形成する。続
いて、下部磁極２を形成し、励磁用のコイル３を凹部に
形成する。その後、コイル３の上に絶縁層４を積層して
平坦化を行ない、続いて上記磁極５を形成する。このと
き、コイル３は基板の凹部に形成できるので、記録ヘッ
ドのギャップ部には段差が生じず、平坦な表面が得られ
る。このためこの上に精度良く磁気抵抗効果型の再生ヘ
ッド６を形成することができる。
加工して、なだらかな側面を有する凹部を形成する。続
いて、下部磁極２を形成し、励磁用のコイル３を凹部に
形成する。その後、コイル３の上に絶縁層４を積層して
平坦化を行ない、続いて上記磁極５を形成する。このと
き、コイル３は基板の凹部に形成できるので、記録ヘッ
ドのギャップ部には段差が生じず、平坦な表面が得られ
る。このためこの上に精度良く磁気抵抗効果型の再生ヘ
ッド６を形成することができる。
以下、本発明の一実施例を第３図により説明する。はじ
めに、基板１に深さ約８μｍの溝を形成する。このとき
側面のテーパ角が２０’〜４５″となるようにドライエ
ツチングを用いたテーパエツチングを行なう（第３図（
ａ））。続いて下部磁極２を形成する強磁性合金、たと
えばＮ１−Ｆ ｅ 、 Ｆ ｅ −Ａ Ｑ 、 Ｇ ｏ
系非晶質合金などを約３μｍ被着し、加工する（第３図
（ｂ））。次に、Ｓ ｉ ０２． Ａ ｎ ｚｏｓ、
Ｓ ｉ ８Ｎ４やポリイミド系高分子樹脂などの絶縁層
４と、ＡＱやＣｕなどからなるコイル３とを、順次積層
し、上記凹部にコイル３と絶縁層４を充填する。（第３
図（Ｃ））。
めに、基板１に深さ約８μｍの溝を形成する。このとき
側面のテーパ角が２０’〜４５″となるようにドライエ
ツチングを用いたテーパエツチングを行なう（第３図（
ａ））。続いて下部磁極２を形成する強磁性合金、たと
えばＮ１−Ｆ ｅ 、 Ｆ ｅ −Ａ Ｑ 、 Ｇ ｏ
系非晶質合金などを約３μｍ被着し、加工する（第３図
（ｂ））。次に、Ｓ ｉ ０２． Ａ ｎ ｚｏｓ、
Ｓ ｉ ８Ｎ４やポリイミド系高分子樹脂などの絶縁層
４と、ＡＱやＣｕなどからなるコイル３とを、順次積層
し、上記凹部にコイル３と絶縁層４を充填する。（第３
図（Ｃ））。
このとき、コイル３は膜厚が３μｍでリフトオフを用い
て形成した。また高分子樹脂の塗布およびエッチバック
法を用いて、平坦化を行なった。次に、ギャップ部を形
成する絶縁層４′としてＡ Ｉ２．２０８を０．５μｍ
被着した後、その一部を除去し、続いて上記磁極５を形
成する（第３図（ｄ））。
て形成した。また高分子樹脂の塗布およびエッチバック
法を用いて、平坦化を行なった。次に、ギャップ部を形
成する絶縁層４′としてＡ Ｉ２．２０８を０．５μｍ
被着した後、その一部を除去し、続いて上記磁極５を形
成する（第３図（ｄ））。
材料および膜厚は下部磁極の場合と同様である。
その後、絶縁層８としてＡ Ｑ ２０３を約０．５μｍ
被着し続いてその上に、磁気抵抗効果型の再生ヘッド６
を積層した。再生ヘッドとしてはＮｉ−Ｆｅ合金（膜厚
４００人）およびＴｉ膜（２０００人）からなるシャン
トバイアス型の磁気抵抗効果素子を用いた。なお、再生
ヘッドとしては、バーバポール型や永久磁石型など他の
バイアス方式を用いた磁気抵抗効果動素子も用いること
ができる。さらに本実施例では再生ヘッドとして磁気抵
抗効果型ヘッドを用いたが誘導型の薄膜ヘッドも用いる
ことができる。また、６Ｂ気抵抗効果型再生ヘツドにお
いて、シールド膜が必要な場合には、再生ヘッドの上部
にパーマロイなどの軟磁性膜を積層することも可能であ
る。
被着し続いてその上に、磁気抵抗効果型の再生ヘッド６
を積層した。再生ヘッドとしてはＮｉ−Ｆｅ合金（膜厚
４００人）およびＴｉ膜（２０００人）からなるシャン
トバイアス型の磁気抵抗効果素子を用いた。なお、再生
ヘッドとしては、バーバポール型や永久磁石型など他の
バイアス方式を用いた磁気抵抗効果動素子も用いること
ができる。さらに本実施例では再生ヘッドとして磁気抵
抗効果型ヘッドを用いたが誘導型の薄膜ヘッドも用いる
ことができる。また、６Ｂ気抵抗効果型再生ヘツドにお
いて、シールド膜が必要な場合には、再生ヘッドの上部
にパーマロイなどの軟磁性膜を積層することも可能であ
る。
以上述べてきたように、記録ヘッドの上部を平坦にする
ことができるので、さらにその上に精度良く磁気抵抗効
果型の再生ヘッドを形成することができる。
ことができるので、さらにその上に精度良く磁気抵抗効
果型の再生ヘッドを形成することができる。
実施例 ２
本実施例を第４図を用いて説明する。実施例１と同様に
テーパエツチング法を用いて基板１を加工する（第４図
（ａ））。続いて下部磁極２を形成し、次に絶縁層４お
よび導体コイル３を順次積層して基板の凹部にコイルを
充填するとともに。
テーパエツチング法を用いて基板１を加工する（第４図
（ａ））。続いて下部磁極２を形成し、次に絶縁層４お
よび導体コイル３を順次積層して基板の凹部にコイルを
充填するとともに。
表面を平坦化する（同図（ｂ））。このとき各材料およ
び膜厚は、実施例１と同様である。次にギャップ層とな
る絶縁層４′としてＡＱｚＯａ膜（約０．５μｍ）を積
層し、続いて、下部磁極とのコンタクトを取るため、樹
脂層のテーパエツチングを行なう（同図（Ｃ））。さら
に上部磁極５および絶縁Ｍ８を積層し、さらに実施例１
と同様にその上に磁気抵抗効果型の再生ヘッド６を形成
する。
び膜厚は、実施例１と同様である。次にギャップ層とな
る絶縁層４′としてＡＱｚＯａ膜（約０．５μｍ）を積
層し、続いて、下部磁極とのコンタクトを取るため、樹
脂層のテーパエツチングを行なう（同図（Ｃ））。さら
に上部磁極５および絶縁Ｍ８を積層し、さらに実施例１
と同様にその上に磁気抵抗効果型の再生ヘッド６を形成
する。
本実施例では、先の実施例と異なり、上部磁極と下部磁
極のコンタクトをとるためのコンタクトホール９を形成
する必要がある。しかしながら四部に絶縁層およびコイ
ルを充填する際に、コイル中心部に基板の凸部がないた
め、実施例１の場合より１表面の平坦化が容易に行なえ
るというメリットがある。このように本実施例によれば
、記録ヘッドの上部を平坦にすることができるので、そ
の上に精度良く再生ヘッドを形成することができる。
極のコンタクトをとるためのコンタクトホール９を形成
する必要がある。しかしながら四部に絶縁層およびコイ
ルを充填する際に、コイル中心部に基板の凸部がないた
め、実施例１の場合より１表面の平坦化が容易に行なえ
るというメリットがある。このように本実施例によれば
、記録ヘッドの上部を平坦にすることができるので、そ
の上に精度良く再生ヘッドを形成することができる。
本実施例を第５図を用いて、説明する。実施例では、基
板１′としてＮｉ−ＺｎもしくはＭ ｎ −Ｚｎフェラ
イトなどの強磁性基板を用いる。このため基板が下部磁
極となる６テーパエツチングにより、基板に断面がなだ
らかな凹部を形成する（同図（ａ））。続いて実施例１
で示したプロセスと同様に、基板凹部に絶１１Ｍ４とコ
イル３を充填し、続いて上部磁極５磁気抵抗効果型再生
ヘツド６を積層する。
板１′としてＮｉ−ＺｎもしくはＭ ｎ −Ｚｎフェラ
イトなどの強磁性基板を用いる。このため基板が下部磁
極となる６テーパエツチングにより、基板に断面がなだ
らかな凹部を形成する（同図（ａ））。続いて実施例１
で示したプロセスと同様に、基板凹部に絶１１Ｍ４とコ
イル３を充填し、続いて上部磁極５磁気抵抗効果型再生
ヘツド６を積層する。
実施例では、基板を下部磁極として用いるため、下部磁
極の形成が不要となり、作製工程が簡略化できる。
極の形成が不要となり、作製工程が簡略化できる。
本発明によれば、基板側の溝部にコイルを形して記録ヘ
ッドの上部磁極表面を平坦にすることが、できるので、
その上に再生ヘッドとなる磁気抵抗型素子を精度良く形
成できるという効果がある。
ッドの上部磁極表面を平坦にすることが、できるので、
その上に再生ヘッドとなる磁気抵抗型素子を精度良く形
成できるという効果がある。
第１図は本発明の複合型磁気ヘッドの断面図、第２図は
従来の複合型磁気ヘッドの断面図、第３図〜第５図は変
発明の実施例のヘッド製作工程を示す断面図である６ １・・・基板、２・・・下部磁極、３・・・コイル、４
・・・絶縁第 １ 図 纂２図 ７４差 嘉 ３ 図 ４絶縁１ と艶昧ｊ 第４図 慕５図 ビ基赦 ６ 再生へ、庄′
従来の複合型磁気ヘッドの断面図、第３図〜第５図は変
発明の実施例のヘッド製作工程を示す断面図である６ １・・・基板、２・・・下部磁極、３・・・コイル、４
・・・絶縁第 １ 図 纂２図 ７４差 嘉 ３ 図 ４絶縁１ と艶昧ｊ 第４図 慕５図 ビ基赦 ６ 再生へ、庄′
Claims (1)
- １、誘導型磁気ヘッドとその上に電気的絶縁層を介して
磁気抵抗効果型磁界検出部を備えた薄膜ヘッドにおいて
、誘導型磁気ヘッドの下部磁性層、導体層および絶縁層
の一部が、あらかじめ溝加工を施した基板の溝に埋め込
まれ、上記磁性層表面が基板水平面とほぼ平行であるこ
とを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25362987A JPH0196814A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25362987A JPH0196814A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196814A true JPH0196814A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17254002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25362987A Pending JPH0196814A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196814A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03108113A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-08 | Hitachi Ltd | 複合薄膜磁気ヘッド |
| JPH03269814A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-02 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPH06295418A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-10-21 | Nec Corp | 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
| EP0670570A3 (en) * | 1994-03-03 | 1997-01-22 | Seagate Technology | Magnetoresistive head and manufacturing process. |
| EP0747887A3 (en) * | 1995-06-07 | 1997-02-26 | Seagate Technology | Manufacturing method of an inverted magnetoresistive head |
| US5668689A (en) * | 1994-03-03 | 1997-09-16 | Seagate Technology, Inc. | Inverted magnetoresistive head |
| EP0752700A3 (en) * | 1995-07-05 | 1998-01-14 | Sony Corporation | Complex type thin film magnetic head and production method thereof |
| US6008969A (en) * | 1997-12-18 | 1999-12-28 | Read-Rite Corporation | Planar recording head having formed yokes |
| US6296776B1 (en) * | 1997-12-26 | 2001-10-02 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a combination type thin film magnetic head |
| US6671135B2 (en) | 1997-12-12 | 2003-12-30 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head recessed partially into substrate and including planarization layers |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP25362987A patent/JPH0196814A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03108113A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-08 | Hitachi Ltd | 複合薄膜磁気ヘッド |
| JPH03269814A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-02 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
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| US5640753A (en) * | 1994-03-03 | 1997-06-24 | Seagate Technology, Inc. | Method of fabricating an inverted magnetoresistive head |
| US5668689A (en) * | 1994-03-03 | 1997-09-16 | Seagate Technology, Inc. | Inverted magnetoresistive head |
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| EP0752700A3 (en) * | 1995-07-05 | 1998-01-14 | Sony Corporation | Complex type thin film magnetic head and production method thereof |
| US6671135B2 (en) | 1997-12-12 | 2003-12-30 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head recessed partially into substrate and including planarization layers |
| US6008969A (en) * | 1997-12-18 | 1999-12-28 | Read-Rite Corporation | Planar recording head having formed yokes |
| US6296776B1 (en) * | 1997-12-26 | 2001-10-02 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a combination type thin film magnetic head |
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