JPS58114321A - 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド - Google Patents
垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS58114321A JPS58114321A JP21053081A JP21053081A JPS58114321A JP S58114321 A JPS58114321 A JP S58114321A JP 21053081 A JP21053081 A JP 21053081A JP 21053081 A JP21053081 A JP 21053081A JP S58114321 A JPS58114321 A JP S58114321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- recording
- magnetic
- film
- magnetic pole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
4M)0発明の技術分野
本発明は胱出しに磁気抵抗効果素子を用いた垂直磁気記
鍮再生用薄膜磁気ヘッドに関する。
鍮再生用薄膜磁気ヘッドに関する。
偉)、技術の背景
垂゛直磁気記録用磁気ヘッドとして各徨磁気ヘッドが用
いられるに至ってbる。そのうちのヘッドには磁性薄膜
だけを用い九構成の−−のもめるが、その膜厚に再生出
力が強く依存する特性があるため、高い記録v11度で
信号を記録しうるようにすると、そのような記−一度で
記録された信号は効率よく、高分解能で読取少得ないと
云われており、そのような不具合の解決が望まれている
。
いられるに至ってbる。そのうちのヘッドには磁性薄膜
だけを用い九構成の−−のもめるが、その膜厚に再生出
力が強く依存する特性があるため、高い記録v11度で
信号を記録しうるようにすると、そのような記−一度で
記録された信号は効率よく、高分解能で読取少得ないと
云われており、そのような不具合の解決が望まれている
。
(3)、従来技術と問題点
垂直磁気記録再生用磁気ヘッドとして、第1図に示すよ
うな補助磁極励磁方式のものがめるが、このヘッドはイ
ンダクタンスが大自くなり高速の記録、再生に適さない
ばか)でなく、励磁を磁気配縁媒体の裏側から行う丸め
基板の厚いディスクに線適用し得碌いという欠点を有す
る。181図において1は主磁極、2は補助磁極、3は
書込み/読み出し用コイル、4は記録磁性層でめる。
うな補助磁極励磁方式のものがめるが、このヘッドはイ
ンダクタンスが大自くなり高速の記録、再生に適さない
ばか)でなく、励磁を磁気配縁媒体の裏側から行う丸め
基板の厚いディスクに線適用し得碌いという欠点を有す
る。181図において1は主磁極、2は補助磁極、3は
書込み/読み出し用コイル、4は記録磁性層でめる。
上述のような不具合を回避すべく、第2flJに示すよ
うに主構*5に*−)ミック製基板6に設けられた磁性
薄膜とし、この薄膜にコイル7を巻付けて構成される磁
極により記録磁性層8を直接励磁して記録する主磁極励
磁方式の磁気ヘッドがIl@発されている・しかし、こ
れらの方式のいづれの再生出力対配録密fl#性も第3
図に示す如く、主磁極の膜厚PK強く依存する特性を有
している。
うに主構*5に*−)ミック製基板6に設けられた磁性
薄膜とし、この薄膜にコイル7を巻付けて構成される磁
極により記録磁性層8を直接励磁して記録する主磁極励
磁方式の磁気ヘッドがIl@発されている・しかし、こ
れらの方式のいづれの再生出力対配録密fl#性も第3
図に示す如く、主磁極の膜厚PK強く依存する特性を有
している。
即ち、記録磁性層8の磁化反転間隔をλとすると、おお
よそ P#2鴨λ (s=1−2−・・・)・・・(1)を満
す記11!IIIにおいて再生出力が得られないという
特性(第3!I参照)を有している。
よそ P#2鴨λ (s=1−2−・・・)・・・(1)を満
す記11!IIIにおいて再生出力が得られないという
特性(第3!I参照)を有している。
従って、記録密度特性を向上させんとして主磁極膜厚P
を薄くすると、記録再生効率が著しく低下しその分解能
も低下するという好ましからざる点が上述形式の磁気ヘ
ッドに解決されないま\残っている。
を薄くすると、記録再生効率が著しく低下しその分解能
も低下するという好ましからざる点が上述形式の磁気ヘ
ッドに解決されないま\残っている。
(40発明の目的
本発明の目的は製造プロセスが簡単で、記録再生効率が
高く、しかも高再生分解能を有ることI/cある。
高く、しかも高再生分解能を有ることI/cある。
(5)1発明の構成
この目的は、非磁性支持体上に主薄膜磁極を設け、その
上に書込み用多巻薄膜コイルと。
上に書込み用多巻薄膜コイルと。
薄膜磁気抵抗効果素子と、上記コイルの中心部を介して
上記主薄膜磁極と磁気的に結合し、且つ、上記薄膜磁気
抵抗効果素子と4磁気的に結合する補助薄膜磁極とを絶
縁膜を介して積層して形成するととKよって達成される
。
上記主薄膜磁極と磁気的に結合し、且つ、上記薄膜磁気
抵抗効果素子と4磁気的に結合する補助薄膜磁極とを絶
縁膜を介して積層して形成するととKよって達成される
。
(6)1発明の実施例
以下添付図面を参照しながら本発明の一実施例を説明す
る。
る。
第4図は本発明の実施例を示す図でるる。
lOは非磁性支持体(以下基板と称す)であり、11は
基板10の上に形成された主薄膜磁極でらる。12は磁
極11の下部及びこの磁極を超えた基板10上部の間に
樹脂等の絶縁物(膜)13でモールドされて磁極11及
び基板lOに添着された環状の多巻薄膜コイルで小る。
基板10の上に形成された主薄膜磁極でらる。12は磁
極11の下部及びこの磁極を超えた基板10上部の間に
樹脂等の絶縁物(膜)13でモールドされて磁極11及
び基板lOに添着された環状の多巻薄膜コイルで小る。
そして、このコイル12の環状中心1114に上記主薄
膜磁極に接合された磁気的結合用埋め込み磁極15が設
けられている。
膜磁極に接合された磁気的結合用埋め込み磁極15が設
けられている。
磁1115の突出平面16を含んで平面17を形成する
ように絶縁保−膜18が設けられ、この保護膜(絶縁膜
)18の下部面に主薄膜磁極lOの変換rfJl 9
(第5図参照)と同一平面内に変換面20があるように
して薄膜磁気抵抗効果素子21が添設されている(第5
図参照)、また、絶縁膜1B及び索子21との間に絶縁
1122(第5図参照)を挾んで補助薄膜磁極23が形
成され、その上に絶縁保護膜(絶縁III)24が被着
されて成る積層構造に本発明ヘッドは構成されている。
ように絶縁保−膜18が設けられ、この保護膜(絶縁膜
)18の下部面に主薄膜磁極lOの変換rfJl 9
(第5図参照)と同一平面内に変換面20があるように
して薄膜磁気抵抗効果素子21が添設されている(第5
図参照)、また、絶縁膜1B及び索子21との間に絶縁
1122(第5図参照)を挾んで補助薄膜磁極23が形
成され、その上に絶縁保護膜(絶縁III)24が被着
されて成る積層構造に本発明ヘッドは構成されている。
IA子21自体の層構成、バイアス方式は任意でよい。
また25.26は書込みコイル用埋込み端子でTo)、
27は磁気抵抗効果素子用端子である。
27は磁気抵抗効果素子用端子である。
この構造によれば、情報の垂直記録は主薄膜磁極11の
後端縁で生ぜしめられ、またその読出しは磁気抵抗効果
素子21で行われるから、記録v!Ij度とは全く独立
に主薄膜磁極の膜厚を厚くすることが出来、これKより
記録効率を向上させ4ることか出来る。1え、磁気抵抗
効果素子21の再生出力が大きく、その再往効率も向上
する。この素子は元来、50し、上記式1から判るよう
に5000001P I (Bit Per Iscム
)以上まで再生出来る分解能を有する。従って垂直記録
媒体の高密度記録特性を活かせる 上述した構造の本発明ヘッドの製造をjIs図参照の下
にa明する。
後端縁で生ぜしめられ、またその読出しは磁気抵抗効果
素子21で行われるから、記録v!Ij度とは全く独立
に主薄膜磁極の膜厚を厚くすることが出来、これKより
記録効率を向上させ4ることか出来る。1え、磁気抵抗
効果素子21の再生出力が大きく、その再往効率も向上
する。この素子は元来、50し、上記式1から判るよう
に5000001P I (Bit Per Iscム
)以上まで再生出来る分解能を有する。従って垂直記録
媒体の高密度記録特性を活かせる 上述した構造の本発明ヘッドの製造をjIs図参照の下
にa明する。
先ず、セラミック、ガラス吟のスライダ材として適する
非磁性基板10上にスパッタ、蒸着、メッキ等により1
薄j[磁極11となる磁性薄膜パターンを形成する。
非磁性基板10上にスパッタ、蒸着、メッキ等により1
薄j[磁極11となる磁性薄膜パターンを形成する。
次いで、そのパターン管含む基板10上に絶縁された書
込み用多巻薄膜コイル12パターンを形成する。このコ
イル12の各巻線間に感党性兼絶縁性樹1113を施与
し、コイル部以外の不要部分を除去し友後、これ含熱処
11により焼き硬める。
込み用多巻薄膜コイル12パターンを形成する。このコ
イル12の各巻線間に感党性兼絶縁性樹1113を施与
し、コイル部以外の不要部分を除去し友後、これ含熱処
11により焼き硬める。
然る後K、メッキ等により、コイル中心部14及び書込
み用多巻薄膜コイル12の端子1$25.26にパーマ
ロイ等の導電性磁性薄膜を20〜30μ惰の厚さに盛り
上げる。
み用多巻薄膜コイル12の端子1$25.26にパーマ
ロイ等の導電性磁性薄膜を20〜30μ惰の厚さに盛り
上げる。
これらの工程で形成された各部上に8i02゜Aj、0
3等の絶縁保護膜18fニスバツタリング、イオンブレ
ーティング等によ#)20〜30μ集の厚さだけ横着す
る。その基板表面部を平坦に研摩し、コイル中心1s1
4の磁気的結合用埋込み磁極15及び各端子部25.2
6を露呈させる。
3等の絶縁保護膜18fニスバツタリング、イオンブレ
ーティング等によ#)20〜30μ集の厚さだけ横着す
る。その基板表面部を平坦に研摩し、コイル中心1s1
4の磁気的結合用埋込み磁極15及び各端子部25.2
6を露呈させる。
このようにして平坦化された基板表面に薄膜磁気抵抗効
果素子21パターン並びに書込み用端子パターン(図示
せず)及び再生用端子27パターン(第5図参照)を形
成し、その上に840□、Al2Og等の絶縁保護膜2
4を成膜する。
果素子21パターン並びに書込み用端子パターン(図示
せず)及び再生用端子27パターン(第5図参照)を形
成し、その上に840□、Al2Og等の絶縁保護膜2
4を成膜する。
そして、基板表面の研摩に↓)端子パターンを露出させ
てクエハプロセスを完了させる。
てクエハプロセスを完了させる。
これに加えて、その基板を切断、ラップ仕上は等によシ
これをスライダ形状に加工すると共に、そのスロートハ
イドを所1’i16に仕上ける。
−(n0発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発@によれば、主薄
膜磁極のjI厚を記録密度に関係なく厚くし記録効率を
向上させ、その記−を膜厚の薄いll展磁気抵抗効果素
子にて読取るから再生効率が向上するばかりでなく再生
分解能も向上している。従って、従来のように記録密度
を向上させんとして主薄am極の膜厚管薄くした場合に
生じてしまう不具合は可及的に除去し得ることKなった
。
これをスライダ形状に加工すると共に、そのスロートハ
イドを所1’i16に仕上ける。
−(n0発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発@によれば、主薄
膜磁極のjI厚を記録密度に関係なく厚くし記録効率を
向上させ、その記−を膜厚の薄いll展磁気抵抗効果素
子にて読取るから再生効率が向上するばかりでなく再生
分解能も向上している。従って、従来のように記録密度
を向上させんとして主薄am極の膜厚管薄くした場合に
生じてしまう不具合は可及的に除去し得ることKなった
。
第1図及び812図は従来の垂直磁気記―再生用磁気ヘ
ッドの構成を示す1、第3図は第iml及び第2図ヘッ
ドの再生出カー配縁lI駄轡性―縮図、第4図及び第5
図はそれぞれ本発明ヘッドの一部切欠斜視図及び縦断面
図である。 図中、10は非磁性支持体、11は主薄膜磁極、12は
書込み用多巻薄膜コイル、21#i薄膜磁気抵抗効果素
子、23は補助薄膜磁極、18.22.24は絶縁膜で
ある。 特 許 出 願 人 富士通株式会社第1図 第2図 第4図 第5図
ッドの構成を示す1、第3図は第iml及び第2図ヘッ
ドの再生出カー配縁lI駄轡性―縮図、第4図及び第5
図はそれぞれ本発明ヘッドの一部切欠斜視図及び縦断面
図である。 図中、10は非磁性支持体、11は主薄膜磁極、12は
書込み用多巻薄膜コイル、21#i薄膜磁気抵抗効果素
子、23は補助薄膜磁極、18.22.24は絶縁膜で
ある。 特 許 出 願 人 富士通株式会社第1図 第2図 第4図 第5図
Claims (1)
- 磁気記録媒体に垂直磁気記録を行う主薄膜磁極を非磁性
支持体に設け、その上に書込み用多巻薄膜コイルと、薄
膜磁気抵抗効果素子と、上記書込与用多番薄膜コイルの
中心部を通って上記主薄膜磁極と磁気的に結合し且つ上
記薄膜磁気抵抗効果素子とも磁気的に結合する補助薄膜
磁極とを絶縁膜を介して積層して形成したことを特徴と
する重置磁気記録再生用薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21053081A JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21053081A JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58114321A true JPS58114321A (ja) | 1983-07-07 |
| JPH0313643B2 JPH0313643B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16590882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21053081A Granted JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58114321A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6083213A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-11 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS60177420A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Nec Corp | 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61145718A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Nec Corp | 複合薄膜磁気ヘツド |
| US5726839A (en) * | 1993-12-08 | 1998-03-10 | Fujitsu Limited | Magnetic head having bypass magnetic path and set magnetic reluctance relationship |
| US6407891B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-06-18 | International Business Machines Corporation | Magnetic read/write head having electromagnetic field cancellation element |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP21053081A patent/JPS58114321A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6083213A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-11 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS60177420A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Nec Corp | 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61145718A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Nec Corp | 複合薄膜磁気ヘツド |
| US5726839A (en) * | 1993-12-08 | 1998-03-10 | Fujitsu Limited | Magnetic head having bypass magnetic path and set magnetic reluctance relationship |
| US6407891B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-06-18 | International Business Machines Corporation | Magnetic read/write head having electromagnetic field cancellation element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0313643B2 (ja) | 1991-02-25 |
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