JPH0196821A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0196821A JPH0196821A JP25382387A JP25382387A JPH0196821A JP H0196821 A JPH0196821 A JP H0196821A JP 25382387 A JP25382387 A JP 25382387A JP 25382387 A JP25382387 A JP 25382387A JP H0196821 A JPH0196821 A JP H0196821A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- nitrosonaphthol
- recording medium
- magnetic recording
- metal thin
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に係り、特
に、優れた耐食性を有し、さらに優れた走行性を有する
磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
に、優れた耐食性を有し、さらに優れた走行性を有する
磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
磁気記録媒体の強磁性金属薄膜の耐食性向上の目的で用
いる防錆剤として、これまでに、アミノ基を有する芳香
族カルボン酸（時開昭第５８−１９４１３１号）、クペ
ロン類（時開昭第５８−１９４１３８号）、ポリアミン
類（時開昭第５９−３７２４号）などが提案されており
、実用に供されているものもある。
いる防錆剤として、これまでに、アミノ基を有する芳香
族カルボン酸（時開昭第５８−１９４１３１号）、クペ
ロン類（時開昭第５８−１９４１３８号）、ポリアミン
類（時開昭第５９−３７２４号）などが提案されており
、実用に供されているものもある。
強磁性金属薄膜に対する腐食性環境因子としては、湿度
、二酸化イオウ（亜硫酸）ガス、窒素酸化物ガスなどが
考えられるが、止揚の防錆剤はこれらの腐食因子に対し
て万能的な耐食効果を示すものではなく、現実の複合的
な腐食環境に対して十分な防錆効果を有するものとは言
い難い欠点があった。
、二酸化イオウ（亜硫酸）ガス、窒素酸化物ガスなどが
考えられるが、止揚の防錆剤はこれらの腐食因子に対し
て万能的な耐食効果を示すものではなく、現実の複合的
な腐食環境に対して十分な防錆効果を有するものとは言
い難い欠点があった。
また、強磁性金属薄膜表面が比較的耐食性を有する高次
の酸化物になっている場合、還元性を有する防錆剤は該
酸化物を破壊する性質があるが、従来技術１こおいては
、このような観点からの防錆剤の選定は行われていなか
った。
の酸化物になっている場合、還元性を有する防錆剤は該
酸化物を破壊する性質があるが、従来技術１こおいては
、このような観点からの防錆剤の選定は行われていなか
った。
〔発明が解決しようとする問題点１
強磁性金属薄膜の耐食性に関して、従来技術は、上記し
たような種々の欠点を有していた。
たような種々の欠点を有していた。
本発明は、これらの欠点を解決し、耐食性に優れた磁気
記録媒体およびその製造方法、もしくは。
記録媒体およびその製造方法、もしくは。
耐食性対策により走行性が低下する場合、その走行性を
改良した磁気記録媒体およびその製造方法を提供する゛
ことを目的とする。
改良した磁気記録媒体およびその製造方法を提供する゛
ことを目的とする。
上記目的は、非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表
面に不働態層を形成させた後、該不働態層上にニトロソ
ナフトールを付着させること、もしくは、該ニトロソナ
フトール付着層上にさらにフッ素系潤滑剤層を形成させ
ることによって達成することができる。
面に不働態層を形成させた後、該不働態層上にニトロソ
ナフトールを付着させること、もしくは、該ニトロソナ
フトール付着層上にさらにフッ素系潤滑剤層を形成させ
ることによって達成することができる。
ニトロソナフトールはその分子構造中に窒素を含むいわ
ゆるカソードインヒビターであり、大気中の水分あるい
は腐食性ガスによる腐食反応のうち、主に水素発生反応
を抑止することによって防錆効果を示すものである。
ゆるカソードインヒビターであり、大気中の水分あるい
は腐食性ガスによる腐食反応のうち、主に水素発生反応
を抑止することによって防錆効果を示すものである。
前掲のクペロン類、ポリアミン類も、同様に、カソード
インヒビターとして働くものであるが。
インヒビターとして働くものであるが。
同一腐食条件下で防錆効果が異なるのは、強磁性金属に
対する吸着親和力の差（弱い場合には防錆効果がないが
、強すぎる場合には逆に腐食が進行する）、分子構造の
差（立体障害による被覆率の相違など）によるものと考
えられ、ニトロソナフトールは、これらの点で優れてい
るため、防錆効果が著しい。
対する吸着親和力の差（弱い場合には防錆効果がないが
、強すぎる場合には逆に腐食が進行する）、分子構造の
差（立体障害による被覆率の相違など）によるものと考
えられ、ニトロソナフトールは、これらの点で優れてい
るため、防錆効果が著しい。
さらに、ニトロソナフトールは高次酸化物に対する還元
作用がないので、表面に不働態層を形成した強磁性金属
薄膜層上にニトロソナフトール層を形成した場合、不働
態層の存在との相乗効果により、格段の耐食性向上をは
かることができる。
作用がないので、表面に不働態層を形成した強磁性金属
薄膜層上にニトロソナフトール層を形成した場合、不働
態層の存在との相乗効果により、格段の耐食性向上をは
かることができる。
なお、磁性層上にニトロソナフトール層を設けた場合、
磁気ヘッドとの摺動の際の摩擦係数を若干高める傾向が
みとめられるが、この現象に対しては、ニトロソナフト
ール層上にさらにフッ素系潤滑剤層を設けることによっ
て、長期間にねたって、満足な走行性を確保することが
できる。
磁気ヘッドとの摺動の際の摩擦係数を若干高める傾向が
みとめられるが、この現象に対しては、ニトロソナフト
ール層上にさらにフッ素系潤滑剤層を設けることによっ
て、長期間にねたって、満足な走行性を確保することが
できる。
以下、本発明の実施例について比較例とともに説明する
。
。
実施例 １
厚さ９／ｆｆｉのポリエチレンテレフタレートフィルム
基板上に、酸素雰囲気下で、厚さ１５００人のｃ。
基板上に、酸素雰囲気下で、厚さ１５００人のｃ。
−Ｎ ｉ （８０−２０）の蒸着を行い、強磁性金属薄
膜層を作成した後、酸素を主成分とする雰囲気処理によ
り、該金属薄膜表面にコバルト不働態膜を形成させ、さ
らに、該不働態膜上に２−ニトロソ−１−ナフトールの
０．０５重景％ベンゼン溶液を塗布、乾燥して試料を作
成した。
膜層を作成した後、酸素を主成分とする雰囲気処理によ
り、該金属薄膜表面にコバルト不働態膜を形成させ、さ
らに、該不働態膜上に２−ニトロソ−１−ナフトールの
０．０５重景％ベンゼン溶液を塗布、乾燥して試料を作
成した。
なお、上記不働態膜の形成は、強磁性金属薄膜層作成後
、別容器に入れて２０Ｔｏｒｒまで減圧した後、これに
１ ａｔｍの酸素を封入して３日間処理することにより
行った。
、別容器に入れて２０Ｔｏｒｒまで減圧した後、これに
１ ａｔｍの酸素を封入して３日間処理することにより
行った。
実施例 ２
実施例１における２−ニトロソ−１−ナフトールにかえ
て１−ニトロソ−２−ナフトールを用いた以外は実施例
１と同様にして試料を作成した。
て１−ニトロソ−２−ナフトールを用いた以外は実施例
１と同様にして試料を作成した。
比較例 １
実施例１において、２−ニトロソ−１−ナフトール溶液
の塗布を行わない以外は実施例１と同様にして試料を作
成した。
の塗布を行わない以外は実施例１と同様にして試料を作
成した。
比較例 ２
実施例１においてコバルト不働態層を設けず、また２−
ニトロソ−１−ナフトール溶液の塗布を行わない以外は
実施例１と同様にして試料を作成した。
ニトロソ−１−ナフトール溶液の塗布を行わない以外は
実施例１と同様にして試料を作成した。
比較例 ３
実施例１において、２−ニトロソ−１−ナフトールのか
わりにクペロンを用いた以外は実施例１と同様にして試
料を作成した。
わりにクペロンを用いた以外は実施例１と同様にして試
料を作成した。
比較例 ４
実施例１において、コバルト不働態層を設けなかった以
外は実施例１と同様にして試料を作成した。
外は実施例１と同様にして試料を作成した。
以上６種の試料について、腐食促進試験として、６０’
Ｃ９０％ＲＨの雰囲気中に１週間放置した場合の飽和磁
化の減少率と、５０２１．ＯＰＰＭ、Ｈ２Ｓ ０．５Ｐ
ＰＭ 。
Ｃ９０％ＲＨの雰囲気中に１週間放置した場合の飽和磁
化の減少率と、５０２１．ＯＰＰＭ、Ｈ２Ｓ ０．５Ｐ
ＰＭ 。
Ｎｏ２１．０ＰＰＭ、３５℃７５％ＲＨの雰囲気中に１
００時間放置した後の金属磁性膜層中の硫黄の含有率（
Ｍ子％）の測定を行い、耐食性の比較を行った。
００時間放置した後の金属磁性膜層中の硫黄の含有率（
Ｍ子％）の測定を行い、耐食性の比較を行った。
結果を第１表に示す。
第１表の結果から、不働態層のある磁性層上にニトロソ
ナフトール層を設けた試料（実施例１．２）が、磁性層
上にニトロソナフトール層を設けなかった試料あるいは
ニトロソナフトール層のかわりにクペロン層を設けた試
料（比較例１．２゜３）さらにはコバルト不働態層を設
けなかった試料（比較例４）と比べて、飽和磁化減少率
、硫黄含有率のいずれにおいても優れ、良い耐食性を示
すこと、が知られる。
ナフトール層を設けた試料（実施例１．２）が、磁性層
上にニトロソナフトール層を設けなかった試料あるいは
ニトロソナフトール層のかわりにクペロン層を設けた試
料（比較例１．２゜３）さらにはコバルト不働態層を設
けなかった試料（比較例４）と比べて、飽和磁化減少率
、硫黄含有率のいずれにおいても優れ、良い耐食性を示
すこと、が知られる。
実施例 ３
実施例１と同様にして強磁性金属薄膜層表面の不働態膜
層上に２−二トロン−１−ナフトール層を設けた後、該
２−ニトロソ−１−ナフトール層上に、さらに、フッ素
糸潤滑剤フォンブリンＺＤＯＬ（日本モンテジソン社製
）０．１重量％フレオン溶液を塗布して試料を作成した
。
層上に２−二トロン−１−ナフトール層を設けた後、該
２−ニトロソ−１−ナフトール層上に、さらに、フッ素
糸潤滑剤フォンブリンＺＤＯＬ（日本モンテジソン社製
）０．１重量％フレオン溶液を塗布して試料を作成した
。
実施例 ４
実施例３におけるフォンブリンＺＤＯＬをフォンブリン
Ｚ２５（日本モンテジンン社製）にかえた以外は実施例
３と同様にして試料を作成した。
Ｚ２５（日本モンテジンン社製）にかえた以外は実施例
３と同様にして試料を作成した。
実施例 ５
実施例３におけるフオンブリンＺ Ｄ−ＯＬをフオンブ
リンＡＭ２００１ （日本モンテジソン社製）にかえた
以外は実施例３と同様にして試料を作成した。
リンＡＭ２００１ （日本モンテジソン社製）にかえた
以外は実施例３と同様にして試料を作成した。
比較例 ５
実施例３において、ニトロソナフトール層を設けなかっ
た以外は実施例３と同様にして試料を作成した。
た以外は実施例３と同様にして試料を作成した。
比較例 ６
実施例３において、フオンブリンＺＤＯＬの塗工とニト
ロソナフトール層形成の順序を逆にした以外は実施例３
と同様にして試料を作成した。
ロソナフトール層形成の順序を逆にした以外は実施例３
と同様にして試料を作成した。
以上５種の試料について、腐食促進試験として。
６０℃９０％ＲＨの雰囲気中に１週間放置した場合の飽
和磁化の減少率と、Ｓ ０２１．０ＰＰＭ、Ｈ，８０，
５ＰＰＭ、Ｎ Ｏ、１，ＯＰＰＭ、 ３５℃、７５％Ｒ
Ｈの雰囲気中に１００時間放置した後の金属磁性膜層中
の硫黄の含有率（原子％）の測定を行い、また、走行性
の評価として、各試料を＠８ｍのテープとし、＃ ２０
００の研摩材で研摩した直径４ｍのＳＵＳ製ビンに巻き
角９０”で接触させ１重錘２０ｇの荷重をかけ、 １０
００往復の摩擦を行った後の静止摩擦係数の測定を行っ
た。
和磁化の減少率と、Ｓ ０２１．０ＰＰＭ、Ｈ，８０，
５ＰＰＭ、Ｎ Ｏ、１，ＯＰＰＭ、 ３５℃、７５％Ｒ
Ｈの雰囲気中に１００時間放置した後の金属磁性膜層中
の硫黄の含有率（原子％）の測定を行い、また、走行性
の評価として、各試料を＠８ｍのテープとし、＃ ２０
００の研摩材で研摩した直径４ｍのＳＵＳ製ビンに巻き
角９０”で接触させ１重錘２０ｇの荷重をかけ、 １０
００往復の摩擦を行った後の静止摩擦係数の測定を行っ
た。
結果を第２表に示す。
第２表の結果から、コバルト不働態層を形成した磁性層
表面にニトロソナフトール層を設け、該ニトロソナフト
ール層上に、さらに、フッ素系潤滑剤層を設けた本発明
による試料（実施例３．４．５）が、比較例Ｓ、６に比
べて、耐食性、走行性の双方ともに優れた性能を示すも
のであることが知られる。本実施例は２−ニトロソ−１
−ナフトールについてのみ記述したが、１−ニトロソ−
２−ナフトールについても同様の効果が認められる。
表面にニトロソナフトール層を設け、該ニトロソナフト
ール層上に、さらに、フッ素系潤滑剤層を設けた本発明
による試料（実施例３．４．５）が、比較例Ｓ、６に比
べて、耐食性、走行性の双方ともに優れた性能を示すも
のであることが知られる。本実施例は２−ニトロソ−１
−ナフトールについてのみ記述したが、１−ニトロソ−
２−ナフトールについても同様の効果が認められる。
なお、前述のニトロソナフトール層の形成およびフッ素
系潤滑剤層の形成において、それぞれの下地層上に直接
塗工を行った場合にも、また、基板裏面に塗工し、巻取
り時に、各下地層上に転写させた場合にも、全く同様の
特性結果が得られ、塗工方法による相違は全く認められ
なかった。
系潤滑剤層の形成において、それぞれの下地層上に直接
塗工を行った場合にも、また、基板裏面に塗工し、巻取
り時に、各下地層上に転写させた場合にも、全く同様の
特性結果が得られ、塗工方法による相違は全く認められ
なかった。
以上述べてきたように、非磁性基板上に強磁性金属薄膜
層を設けてなる磁気記録媒体について、該金属薄膜層の
表面に不働態層を形成し、該不働態層上にニトロソナフ
トールを主成分とする防錆剤層を形成すること、もしく
は、該防錆剤層上に、さらに、フッ素系潤滑剤層を設け
ることによって、従来技術に比べ、耐食性、走行性双方
について格段に優れた磁気記録媒体を得ることができ、
また、その製造方法を確立することができた。
層を設けてなる磁気記録媒体について、該金属薄膜層の
表面に不働態層を形成し、該不働態層上にニトロソナフ
トールを主成分とする防錆剤層を形成すること、もしく
は、該防錆剤層上に、さらに、フッ素系潤滑剤層を設け
ることによって、従来技術に比べ、耐食性、走行性双方
について格段に優れた磁気記録媒体を得ることができ、
また、その製造方法を確立することができた。
代理人弁理士 中村・・°純之助
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に強磁性金属薄膜層を設けてなる磁気
記録媒体において、該金属薄膜層の表面に不働態層を形
成した後、該不働態層表面にニトロソナフトールを主成
分とする防錆剤層を形成させること、もしくは、該防錆
剤層上にさらにフッ素系潤滑剤層を設けたことを特徴と
する磁気記録媒体。 ２、非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面に不働
態層を形成した後、該不働態層上に、直接塗工によるか
あるいは基板裏面に塗工した塗布面からの転写によって
、ニトロソナフトールを付着させること、もしくは、該
ニトロソナフトール付着面上に、さらに、直接塗工によ
るかあるいは基板裏面からの転写によって、フッ素系潤
滑剤層を形成させることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25382387A JPH0196821A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| KR1019880001135A KR880009340A (ko) | 1987-02-14 | 1988-02-08 | 자기기록 매체 및 그 제조방법 |
| DE3889137T DE3889137D1 (de) | 1987-02-14 | 1988-02-12 | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| US07/155,483 US4983455A (en) | 1987-02-14 | 1988-02-12 | Magnetic recording medium and process for producing the same |
| EP88102102A EP0279381B1 (en) | 1987-02-14 | 1988-02-12 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25382387A JPH0196821A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196821A true JPH0196821A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17256634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25382387A Pending JPH0196821A (ja) | 1987-02-14 | 1987-10-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196821A (ja) |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP25382387A patent/JPH0196821A/ja active Pending
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