JPH0196823A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0196823A JPH0196823A JP25254187A JP25254187A JPH0196823A JP H0196823 A JPH0196823 A JP H0196823A JP 25254187 A JP25254187 A JP 25254187A JP 25254187 A JP25254187 A JP 25254187A JP H0196823 A JPH0196823 A JP H0196823A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- film
- magnetic recording
- recording medium
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に係り、さらに詳しくは垂直磁気
特性に優れた磁性層を有する磁気記Rjjt:体の製造
方法に関する。
特性に優れた磁性層を有する磁気記Rjjt:体の製造
方法に関する。
近年、磁気記録の高密度化に伴ない、磁気記録媒体の膜
面に対して垂直方向に磁化して記録再生を行う垂直磁気
記録方式の研究開発が活発に行われている。
面に対して垂直方向に磁化して記録再生を行う垂直磁気
記録方式の研究開発が活発に行われている。
垂直磁気記録方式に関して、さらにその性能を高めるた
めに、パーマロイなどの軟磁性層上に、磁気記録媒体の
膜面垂直方向に磁化容易軸を有するGo−Cr合金など
よりなる硬磁性層を、真空蒸着法またはスパッタリング
法などの成膜法により順次積層した2層構造の垂直磁気
記録媒体が提案されている〔アイ・イー・イー・イー、
トランザクションオンマグネチックス、エムエージ−1
5、6(1979年11月)第1456頁から第145
8頁(TE E E 、 Trans、、 Magne
tics、 MAG15.6(Nov、、 1979)
pp 1456〜1458) L (アイ・イー・イ
ー・イー、トランザクションオンマグネチックス、エム
エージ−20,1(1984年1月)第99頁から第1
01頁(I E E E 、 Trans、 、 Ma
gnetics。
めに、パーマロイなどの軟磁性層上に、磁気記録媒体の
膜面垂直方向に磁化容易軸を有するGo−Cr合金など
よりなる硬磁性層を、真空蒸着法またはスパッタリング
法などの成膜法により順次積層した2層構造の垂直磁気
記録媒体が提案されている〔アイ・イー・イー・イー、
トランザクションオンマグネチックス、エムエージ−1
5、6(1979年11月)第1456頁から第145
8頁(TE E E 、 Trans、、 Magne
tics、 MAG15.6(Nov、、 1979)
pp 1456〜1458) L (アイ・イー・イ
ー・イー、トランザクションオンマグネチックス、エム
エージ−20,1(1984年1月)第99頁から第1
01頁(I E E E 、 Trans、 、 Ma
gnetics。
MAG20.1 (Jan、、 1984) pp 9
9〜101) )。
9〜101) )。
このような2層構造の磁気記録媒体は、記録再生時にお
ける感度は向上するものの、パーマロイなどの軟磁性層
上に形成されたCo−Cr合金などからなる垂直磁化膜
の結晶配向性が大きく乱され、特にCo−Cr垂直磁化
膜の膜厚が薄いと十分な磁気特性を保持することができ
ないという問題があった。この問題を解消するために、
軟磁性層としてCo膜あるいは非磁性のCo−Cr合金
膜などを用いることが試みられているが、いまだ磁気特
性を充分に満足させる垂直磁気記録媒体を得ることがで
きなかった。
ける感度は向上するものの、パーマロイなどの軟磁性層
上に形成されたCo−Cr合金などからなる垂直磁化膜
の結晶配向性が大きく乱され、特にCo−Cr垂直磁化
膜の膜厚が薄いと十分な磁気特性を保持することができ
ないという問題があった。この問題を解消するために、
軟磁性層としてCo膜あるいは非磁性のCo−Cr合金
膜などを用いることが試みられているが、いまだ磁気特
性を充分に満足させる垂直磁気記録媒体を得ることがで
きなかった。
上述したごとく、従来技術におけるパーマロイなどの軟
磁性層とGo−Cr合金などの硬磁性層よりなる2N構
造の垂直磁気記録媒体においては、軟磁性層上に形成さ
れるG o −Cr垂直磁化膜の結晶配向性が乱され、
そのため垂直磁気特性が低下するという問題があった。
磁性層とGo−Cr合金などの硬磁性層よりなる2N構
造の垂直磁気記録媒体においては、軟磁性層上に形成さ
れるG o −Cr垂直磁化膜の結晶配向性が乱され、
そのため垂直磁気特性が低下するという問題があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、真空
蒸着法によって、垂直磁気特性に優れたC o −Cr
垂直磁化膜を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供
することにある。
蒸着法によって、垂直磁気特性に優れたC o −Cr
垂直磁化膜を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供
することにある。
本発明者らは1種々研究を重ねた結果、基板上にGo−
Cr合金を真空蒸着法によって成膜する際、CoとCr
の蒸気をイオン化するか、または上記蒸気流に不活性ガ
スのイオンを照射すると、形成されるCo−Cr垂直磁
化膜の結晶配向性が向上し保磁力が低下することを見い
出した。
Cr合金を真空蒸着法によって成膜する際、CoとCr
の蒸気をイオン化するか、または上記蒸気流に不活性ガ
スのイオンを照射すると、形成されるCo−Cr垂直磁
化膜の結晶配向性が向上し保磁力が低下することを見い
出した。
すなわち、上記本発明の目的は、基板上にG。
−Crの垂直磁化膜を真空蒸着法によって形成させる場
合において、蒸着の初期に、GoとCrの蒸気の一部ま
たは全部を高周波電極などによってイオン化するか、ま
たはイオン銃などによってArなどの不活性ガスのイオ
ンをCoとCrの蒸気流に照射して、イオンを含む蒸気
流として蒸着を行い、まず基板上に低保磁力を有するG
o−Cr膜を蒸着し、その上にCo−Cr垂直磁化膜を
形成させることによって、下層部で低保磁力、上層部で
高保磁力を有し、かつ下層部から上層部にかけて極めて
結晶配向性が良好で垂直磁気特性に優れたGo−Cr垂
直磁化膜を成膜することにより、達成される。
合において、蒸着の初期に、GoとCrの蒸気の一部ま
たは全部を高周波電極などによってイオン化するか、ま
たはイオン銃などによってArなどの不活性ガスのイオ
ンをCoとCrの蒸気流に照射して、イオンを含む蒸気
流として蒸着を行い、まず基板上に低保磁力を有するG
o−Cr膜を蒸着し、その上にCo−Cr垂直磁化膜を
形成させることによって、下層部で低保磁力、上層部で
高保磁力を有し、かつ下層部から上層部にかけて極めて
結晶配向性が良好で垂直磁気特性に優れたGo−Cr垂
直磁化膜を成膜することにより、達成される。
本発明の方法によって製造される磁気記録媒体は、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂製のフィル
ムあるいはAQ 、AQ合金。
エチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂製のフィル
ムあるいはAQ 、AQ合金。
Ti、Ti合金、ステンレスなどの金属板などを基体と
するテープ、シート、カード、ディスク状などの種々の
形態の磁気記録媒体を包含するものである。
するテープ、シート、カード、ディスク状などの種々の
形態の磁気記録媒体を包含するものである。
以下に本発明の一実施例を挙げ図面を参照しながらさら
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
(実施例1)
第1図に示す構造の真空蒸着装置を用い垂直磁気記録媒
体を作製した。図において、基板1はヒータ2によって
蒸着を行う前に150℃の温度に加熱されている。蒸発
源3に装填されているG o −10wt%Cr合金は
、電子銃4からの電子線により加熱蒸発され、基板1上
に膜厚が500人になるまで高周波電極5により蒸着蒸
気をイオン化し、蒸着速度を20人/秒として蒸着した
。この時、印加した高周波電力は300Wである。つい
で、高周波電力の印加を停止して、蒸着速度20人/秒
で、合計膜厚が2500人のGo−19wt%Crから
なる垂直磁化膜を形成させて磁気ディスクを作製した。
体を作製した。図において、基板1はヒータ2によって
蒸着を行う前に150℃の温度に加熱されている。蒸発
源3に装填されているG o −10wt%Cr合金は
、電子銃4からの電子線により加熱蒸発され、基板1上
に膜厚が500人になるまで高周波電極5により蒸着蒸
気をイオン化し、蒸着速度を20人/秒として蒸着した
。この時、印加した高周波電力は300Wである。つい
で、高周波電力の印加を停止して、蒸着速度20人/秒
で、合計膜厚が2500人のGo−19wt%Crから
なる垂直磁化膜を形成させて磁気ディスクを作製した。
(実施例2)
第2図に示す構造の真空蒸着装置を用い垂直磁気記録媒
体を作製した。図において、基板1は供給ロール9から
回転ドラム10を介して巻取ロール11に巻取られる。
体を作製した。図において、基板1は供給ロール9から
回転ドラム10を介して巻取ロール11に巻取られる。
回転ドラム10は内部に設けられているヒータにより2
50℃に加熱されている。蒸発源12に装填されている
Coおよび蒸発源13に装填されているCrは、電子銃
4によって電子線加熱により蒸発させ、成膜速度を30
0人/秒として。
50℃に加熱されている。蒸発源12に装填されている
Coおよび蒸発源13に装填されているCrは、電子銃
4によって電子線加熱により蒸発させ、成膜速度を30
0人/秒として。
基板1上に膜厚が2500人のG o−19w t%C
rよりなる垂直磁化膜を形成させた。この時、基板1上
に蒸着される蒸気の初期入射部に設けられているイオン
銃14からArイオンを照射しながら成膜した。Arイ
オンの加速電圧は1 kV、電流は30mAであった。
rよりなる垂直磁化膜を形成させた。この時、基板1上
に蒸着される蒸気の初期入射部に設けられているイオン
銃14からArイオンを照射しながら成膜した。Arイ
オンの加速電圧は1 kV、電流は30mAであった。
(比較例1)
蒸着初期に高周波電極5による蒸着用蒸気のイオン化を
行わない他は、実施例1と同様にしてG o −Cr垂
直磁化膜を形成させ磁気記録媒体を作成した。
行わない他は、実施例1と同様にしてG o −Cr垂
直磁化膜を形成させ磁気記録媒体を作成した。
(比較例2)
蒸着初期に高周波電極5によって蒸着用蒸気のイオン化
を行いつつ蒸着した厚さ500人のG o −Cr合金
膜の代りに、厚さSOO人のGo(純度99,9%)を
蒸着した他は、実施例1と同様にしてG。
を行いつつ蒸着した厚さ500人のG o −Cr合金
膜の代りに、厚さSOO人のGo(純度99,9%)を
蒸着した他は、実施例1と同様にしてG。
からなる垂直磁化膜を形成させ磁気記録媒体を作製した
。
。
上記の実施例および比較例において作製した磁気記録媒
体について、Co−Cr垂直磁化膜の結晶配向性(X線
回折のC軸の分散Δθ20 )と垂直磁気特性〔膜面垂
直方向に測定した初期蒸着膜(500人)の保磁力He
上および成膜した垂直磁化膜の保磁力Hcl)を調べた
。その結果を第1表に示す。
体について、Co−Cr垂直磁化膜の結晶配向性(X線
回折のC軸の分散Δθ20 )と垂直磁気特性〔膜面垂
直方向に測定した初期蒸着膜(500人)の保磁力He
上および成膜した垂直磁化膜の保磁力Hcl)を調べた
。その結果を第1表に示す。
第 1 表
第1表から明らかなごとく、本発明のCo−Cr垂直磁
化膜は、いずれも初期蒸着膜(500人)の保磁力が低
く、上層部において高保磁力を有し。
化膜は、いずれも初期蒸着膜(500人)の保磁力が低
く、上層部において高保磁力を有し。
かつ結晶配向性が良好で、優れた垂直磁気特性を示して
いる。
いる。
以上詳細に説明したごとく、本発明のCo−Cr垂直磁
化膜の成膜初期における蒸着用蒸気流をイオン化するこ
とによって、Go−Cr膜の結晶配向性を著しく向上さ
せることができ、垂直磁気特性に優れた垂直磁化膜を有
する磁気記録媒体を得ることができる。
化膜の成膜初期における蒸着用蒸気流をイオン化するこ
とによって、Go−Cr膜の結晶配向性を著しく向上さ
せることができ、垂直磁気特性に優れた垂直磁化膜を有
する磁気記録媒体を得ることができる。
第1図は本発明の実施例1において用いた真空蒸着装置
の構造を示す模式図、第2図は本発明の実施例2におい
て用いた真空蒸着装置の構造を示す模式図である。 l・・・基板 2・・・ヒータ3・・・蒸
発源 4・・・電子銃5・・・高周波コイル
6・・・マツチングボックス7・・・高周波電源
8・・・真空排気系9・・・供給ロール 1o・
・・回転ドラム11・・・巻取ロール 12.13・
・・蒸発源I4・・・イオン銃 代理人弁理士 中 村 純之助 第1図 ? 5−唱凧奢雪栢 第2図 11−−ぷりRローも
の構造を示す模式図、第2図は本発明の実施例2におい
て用いた真空蒸着装置の構造を示す模式図である。 l・・・基板 2・・・ヒータ3・・・蒸
発源 4・・・電子銃5・・・高周波コイル
6・・・マツチングボックス7・・・高周波電源
8・・・真空排気系9・・・供給ロール 1o・
・・回転ドラム11・・・巻取ロール 12.13・
・・蒸発源I4・・・イオン銃 代理人弁理士 中 村 純之助 第1図 ? 5−唱凧奢雪栢 第2図 11−−ぷりRローも
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基板上に、直接もしくは下地層を介して、真
空蒸着法によりコバルトとクロムを主成分とする磁性層
を形成させて磁気記録媒体を製造する方法において、上
記磁性層の蒸着の初期に、コバルトとクロムを主成分と
する蒸着用蒸気流をイオン化して上記基板上に蒸着する
か、または上記蒸着用蒸気流に不活性ガスのイオンを照
射し、イオンを含む蒸着用蒸気流として上記基板上に蒸
着を行った後、上記蒸着用蒸気流のイオン化またはイオ
ン照射を停止して、引き続き蒸着を行いコバルトとクロ
ムを主成分とする垂直磁化膜を形成させることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 2、コバルトとクロムを主成分とする蒸着用蒸気流をイ
オン化する手段が、上記蒸気流中に設けられた高周波電
極によることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
の磁気記録媒体の製造方法。 3、コバルトとクロムを主成分とする蒸着用蒸気流にイ
オンを照射する手段が、イオン銃によるアルゴンイオン
の照射であることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25254187A JPH0196823A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25254187A JPH0196823A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196823A true JPH0196823A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17238809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25254187A Pending JPH0196823A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196823A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998015668A1 (en) * | 1996-10-07 | 1998-04-16 | Hitachi, Ltd. | Production method of laminate body, and the laminate body |
| WO2003012160A1 (en) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Asahi Optronics, Ltd. | High frequency ion plating vapor deposition system |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP25254187A patent/JPH0196823A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998015668A1 (en) * | 1996-10-07 | 1998-04-16 | Hitachi, Ltd. | Production method of laminate body, and the laminate body |
| WO2003012160A1 (en) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Asahi Optronics, Ltd. | High frequency ion plating vapor deposition system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0262890B2 (ja) | ||
| JPH0196823A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62128019A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61276124A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60195737A (ja) | 磁気記録体及びその製造法 | |
| JP2004227667A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0528487A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2004227666A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2946748B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61196430A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59172163A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2529395B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0823929B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS59191130A (ja) | 磁気記録媒体用基材および磁気記録媒体 | |
| JPS63124213A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS59193528A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH0548530B2 (ja) | ||
| JPS63247911A (ja) | 垂直磁気記録用二層膜媒体 | |
| JPH08129741A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61227222A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6260119A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS60202524A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6391822A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH01125723A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06103571A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |