JPH0196823A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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Publication number
JPH0196823A
JPH0196823A JP25254187A JP25254187A JPH0196823A JP H0196823 A JPH0196823 A JP H0196823A JP 25254187 A JP25254187 A JP 25254187A JP 25254187 A JP25254187 A JP 25254187A JP H0196823 A JPH0196823 A JP H0196823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor
film
magnetic recording
recording medium
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25254187A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Ogawa
容一 小川
Osamu Kitagami
修 北上
Hideo Fujiwara
英夫 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0196823A publication Critical patent/JPH0196823A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に係り、さらに詳しくは垂直磁気
特性に優れた磁性層を有する磁気記Rjjt:体の製造
方法に関する。
〔従来の技術〕
近年、磁気記録の高密度化に伴ない、磁気記録媒体の膜
面に対して垂直方向に磁化して記録再生を行う垂直磁気
記録方式の研究開発が活発に行われている。
垂直磁気記録方式に関して、さらにその性能を高めるた
めに、パーマロイなどの軟磁性層上に、磁気記録媒体の
膜面垂直方向に磁化容易軸を有するGo−Cr合金など
よりなる硬磁性層を、真空蒸着法またはスパッタリング
法などの成膜法により順次積層した2層構造の垂直磁気
記録媒体が提案されている〔アイ・イー・イー・イー、
トランザクションオンマグネチックス、エムエージ−1
5、6(1979年11月)第1456頁から第145
8頁(TE E E 、 Trans、、 Magne
tics、 MAG15.6(Nov、、 1979)
 pp 1456〜1458) L (アイ・イー・イ
ー・イー、トランザクションオンマグネチックス、エム
エージ−20,1(1984年1月)第99頁から第1
01頁(I E E E 、 Trans、 、 Ma
gnetics。
MAG20.1 (Jan、、 1984) pp 9
9〜101) )。
このような2層構造の磁気記録媒体は、記録再生時にお
ける感度は向上するものの、パーマロイなどの軟磁性層
上に形成されたCo−Cr合金などからなる垂直磁化膜
の結晶配向性が大きく乱され、特にCo−Cr垂直磁化
膜の膜厚が薄いと十分な磁気特性を保持することができ
ないという問題があった。この問題を解消するために、
軟磁性層としてCo膜あるいは非磁性のCo−Cr合金
膜などを用いることが試みられているが、いまだ磁気特
性を充分に満足させる垂直磁気記録媒体を得ることがで
きなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述したごとく、従来技術におけるパーマロイなどの軟
磁性層とGo−Cr合金などの硬磁性層よりなる2N構
造の垂直磁気記録媒体においては、軟磁性層上に形成さ
れるG o −Cr垂直磁化膜の結晶配向性が乱され、
そのため垂直磁気特性が低下するという問題があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、真空
蒸着法によって、垂直磁気特性に優れたC o −Cr
垂直磁化膜を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供
することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは1種々研究を重ねた結果、基板上にGo−
Cr合金を真空蒸着法によって成膜する際、CoとCr
の蒸気をイオン化するか、または上記蒸気流に不活性ガ
スのイオンを照射すると、形成されるCo−Cr垂直磁
化膜の結晶配向性が向上し保磁力が低下することを見い
出した。
すなわち、上記本発明の目的は、基板上にG。
−Crの垂直磁化膜を真空蒸着法によって形成させる場
合において、蒸着の初期に、GoとCrの蒸気の一部ま
たは全部を高周波電極などによってイオン化するか、ま
たはイオン銃などによってArなどの不活性ガスのイオ
ンをCoとCrの蒸気流に照射して、イオンを含む蒸気
流として蒸着を行い、まず基板上に低保磁力を有するG
o−Cr膜を蒸着し、その上にCo−Cr垂直磁化膜を
形成させることによって、下層部で低保磁力、上層部で
高保磁力を有し、かつ下層部から上層部にかけて極めて
結晶配向性が良好で垂直磁気特性に優れたGo−Cr垂
直磁化膜を成膜することにより、達成される。
本発明の方法によって製造される磁気記録媒体は、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂製のフィル
ムあるいはAQ 、AQ合金。
Ti、Ti合金、ステンレスなどの金属板などを基体と
するテープ、シート、カード、ディスク状などの種々の
形態の磁気記録媒体を包含するものである。
〔実施例〕
以下に本発明の一実施例を挙げ図面を参照しながらさら
に詳細に説明する。
(実施例1) 第1図に示す構造の真空蒸着装置を用い垂直磁気記録媒
体を作製した。図において、基板1はヒータ2によって
蒸着を行う前に150℃の温度に加熱されている。蒸発
源3に装填されているG o −10wt%Cr合金は
、電子銃4からの電子線により加熱蒸発され、基板1上
に膜厚が500人になるまで高周波電極5により蒸着蒸
気をイオン化し、蒸着速度を20人/秒として蒸着した
。この時、印加した高周波電力は300Wである。つい
で、高周波電力の印加を停止して、蒸着速度20人/秒
で、合計膜厚が2500人のGo−19wt%Crから
なる垂直磁化膜を形成させて磁気ディスクを作製した。
(実施例2) 第2図に示す構造の真空蒸着装置を用い垂直磁気記録媒
体を作製した。図において、基板1は供給ロール9から
回転ドラム10を介して巻取ロール11に巻取られる。
回転ドラム10は内部に設けられているヒータにより2
50℃に加熱されている。蒸発源12に装填されている
Coおよび蒸発源13に装填されているCrは、電子銃
4によって電子線加熱により蒸発させ、成膜速度を30
0人/秒として。
基板1上に膜厚が2500人のG o−19w t%C
rよりなる垂直磁化膜を形成させた。この時、基板1上
に蒸着される蒸気の初期入射部に設けられているイオン
銃14からArイオンを照射しながら成膜した。Arイ
オンの加速電圧は1 kV、電流は30mAであった。
(比較例1) 蒸着初期に高周波電極5による蒸着用蒸気のイオン化を
行わない他は、実施例1と同様にしてG o −Cr垂
直磁化膜を形成させ磁気記録媒体を作成した。
(比較例2) 蒸着初期に高周波電極5によって蒸着用蒸気のイオン化
を行いつつ蒸着した厚さ500人のG o −Cr合金
膜の代りに、厚さSOO人のGo(純度99,9%)を
蒸着した他は、実施例1と同様にしてG。
からなる垂直磁化膜を形成させ磁気記録媒体を作製した
上記の実施例および比較例において作製した磁気記録媒
体について、Co−Cr垂直磁化膜の結晶配向性(X線
回折のC軸の分散Δθ20 )と垂直磁気特性〔膜面垂
直方向に測定した初期蒸着膜(500人)の保磁力He
上および成膜した垂直磁化膜の保磁力Hcl)を調べた
。その結果を第1表に示す。
第  1  表 第1表から明らかなごとく、本発明のCo−Cr垂直磁
化膜は、いずれも初期蒸着膜(500人)の保磁力が低
く、上層部において高保磁力を有し。
かつ結晶配向性が良好で、優れた垂直磁気特性を示して
いる。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明したごとく、本発明のCo−Cr垂直磁
化膜の成膜初期における蒸着用蒸気流をイオン化するこ
とによって、Go−Cr膜の結晶配向性を著しく向上さ
せることができ、垂直磁気特性に優れた垂直磁化膜を有
する磁気記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1において用いた真空蒸着装置
の構造を示す模式図、第2図は本発明の実施例2におい
て用いた真空蒸着装置の構造を示す模式図である。 l・・・基板       2・・・ヒータ3・・・蒸
発源     4・・・電子銃5・・・高周波コイル 
 6・・・マツチングボックス7・・・高周波電源  
 8・・・真空排気系9・・・供給ロール   1o・
・・回転ドラム11・・・巻取ロール  12.13・
・・蒸発源I4・・・イオン銃 代理人弁理士  中 村 純之助 第1図 ? 5−唱凧奢雪栢 第2図 11−−ぷりRローも

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、非磁性基板上に、直接もしくは下地層を介して、真
    空蒸着法によりコバルトとクロムを主成分とする磁性層
    を形成させて磁気記録媒体を製造する方法において、上
    記磁性層の蒸着の初期に、コバルトとクロムを主成分と
    する蒸着用蒸気流をイオン化して上記基板上に蒸着する
    か、または上記蒸着用蒸気流に不活性ガスのイオンを照
    射し、イオンを含む蒸着用蒸気流として上記基板上に蒸
    着を行った後、上記蒸着用蒸気流のイオン化またはイオ
    ン照射を停止して、引き続き蒸着を行いコバルトとクロ
    ムを主成分とする垂直磁化膜を形成させることを特徴と
    する磁気記録媒体の製造方法。 2、コバルトとクロムを主成分とする蒸着用蒸気流をイ
    オン化する手段が、上記蒸気流中に設けられた高周波電
    極によることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
    の磁気記録媒体の製造方法。 3、コバルトとクロムを主成分とする蒸着用蒸気流にイ
    オンを照射する手段が、イオン銃によるアルゴンイオン
    の照射であることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の磁気記録媒体の製造方法。
JP25254187A 1987-10-08 1987-10-08 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPH0196823A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998015668A1 (en) * 1996-10-07 1998-04-16 Hitachi, Ltd. Production method of laminate body, and the laminate body
WO2003012160A1 (en) * 2001-07-31 2003-02-13 Asahi Optronics, Ltd. High frequency ion plating vapor deposition system

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WO1998015668A1 (en) * 1996-10-07 1998-04-16 Hitachi, Ltd. Production method of laminate body, and the laminate body
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