JPH097172A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH097172A JPH097172A JP15631495A JP15631495A JPH097172A JP H097172 A JPH097172 A JP H097172A JP 15631495 A JP15631495 A JP 15631495A JP 15631495 A JP15631495 A JP 15631495A JP H097172 A JPH097172 A JP H097172A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 蒸着型の磁気記録媒体の支持体として、表面
にイオンビームエッチング等による凹部２が形成された
ベースフィルム１を用い、この凹部が形成された面に磁
性層３，３’を形成する。 【効果】 耐久性とＢｓ（飽和磁束密度）が向上し、且
つ摩擦係数の小さい磁気記録媒体が得られる。
にイオンビームエッチング等による凹部２が形成された
ベースフィルム１を用い、この凹部が形成された面に磁
性層３，３’を形成する。 【効果】 耐久性とＢｓ（飽和磁束密度）が向上し、且
つ摩擦係数の小さい磁気記録媒体が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は蒸着型の磁気記録媒体及
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体として、ベースフィルム上
に真空中で磁性金属を蒸着する真空蒸着法により、バイ
ンダーを全く含まない金属薄膜からなる磁性層を非磁性
のベースフィルム上に付着させる蒸着型の磁気記録媒体
が知られている。そして、近年の磁気記録は高密度記録
化の方向にあり、蒸着型の磁気記録媒体は、磁性層にバ
インダーを含まないことから磁性材料の密度を高められ
るため、高密度記録に有望であるとされている。
に真空中で磁性金属を蒸着する真空蒸着法により、バイ
ンダーを全く含まない金属薄膜からなる磁性層を非磁性
のベースフィルム上に付着させる蒸着型の磁気記録媒体
が知られている。そして、近年の磁気記録は高密度記録
化の方向にあり、蒸着型の磁気記録媒体は、磁性層にバ
インダーを含まないことから磁性材料の密度を高められ
るため、高密度記録に有望であるとされている。
【０００３】一般に、真空蒸着法による磁気記録媒体の
製造は、真空雰囲気中を連続走行するベースフィルム
に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の磁性金属やＣｏ−Ｎｉ系やＣ
ｏ−Ｃｒ系の磁性合金を蒸着により付着させて磁性層を
形成するものであるが、ベースフィルムとしては、厚さ
３〜50μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアミド等
のプラスチックが使用されている。
製造は、真空雰囲気中を連続走行するベースフィルム
に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の磁性金属やＣｏ−Ｎｉ系やＣ
ｏ−Ｃｒ系の磁性合金を蒸着により付着させて磁性層を
形成するものであるが、ベースフィルムとしては、厚さ
３〜50μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアミド等
のプラスチックが使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来では、蒸着工程の
前にベースフィルムをボンバード処理してフィルム表面
を活性化させ、その上に磁性金属を蒸着させていた。こ
の方法では図２（ｂ）のようなほぼ一様なフィルム21表
面上に、図２（ａ）のように同じ形状の磁性層コラム22
が形成される。
前にベースフィルムをボンバード処理してフィルム表面
を活性化させ、その上に磁性金属を蒸着させていた。こ
の方法では図２（ｂ）のようなほぼ一様なフィルム21表
面上に、図２（ａ）のように同じ形状の磁性層コラム22
が形成される。
【０００５】しかしながら、通常の蒸着法では、フィル
ムと磁性層の界面は金属蒸気量が少ない領域（蒸着初
期）で成膜されるため金属付着量が少なく、フィルムと
コラムの結着力及び結晶性がコラム上層部よりも劣った
ものとなる。このため、耐久性や走行安定性が不充分と
なる傾向があった。また、コラム同士のパッキング性が
充分でないため、飽和磁束密度（Ｂｓ）も不充分であっ
た。
ムと磁性層の界面は金属蒸気量が少ない領域（蒸着初
期）で成膜されるため金属付着量が少なく、フィルムと
コラムの結着力及び結晶性がコラム上層部よりも劣った
ものとなる。このため、耐久性や走行安定性が不充分と
なる傾向があった。また、コラム同士のパッキング性が
充分でないため、飽和磁束密度（Ｂｓ）も不充分であっ
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するために、鋭意研究した結果、ベースフィルム
表面にイオンビームエッチング等により凹部を形成し、
その上に磁性金属を蒸着させることにより、磁性層とフ
ィルムの結着性が向上し耐久性に優れ、且つコラム同士
のパッキング性が改良されるためＢｓにも優れた磁気記
録媒体が得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
を達成するために、鋭意研究した結果、ベースフィルム
表面にイオンビームエッチング等により凹部を形成し、
その上に磁性金属を蒸着させることにより、磁性層とフ
ィルムの結着性が向上し耐久性に優れ、且つコラム同士
のパッキング性が改良されるためＢｓにも優れた磁気記
録媒体が得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
【０００７】すなわち本発明は、真空中で磁性金属を蒸
着してベースフィルム上に磁性層を形成する工程を含む
磁気記録媒体の製造方法において、表面に凹部が一様に
形成されたベースフィルムの前記表面に磁性金属を蒸着
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供す
るものである。
着してベースフィルム上に磁性層を形成する工程を含む
磁気記録媒体の製造方法において、表面に凹部が一様に
形成されたベースフィルムの前記表面に磁性金属を蒸着
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供す
るものである。
【０００８】また、本発明は、真空中で磁性金属を蒸着
してベースフィルム上に磁性層を形成する工程を含む磁
気記録媒体の製造方法において、ベースフィルムの表面
に凹部を一様に形成し、次いで真空中で前記ベースフィ
ルムの前記表面に磁性金属を蒸着して磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供するも
のである。この方法は、ベースフィルムの凹部の形成と
蒸着とを連続的に実施することができる。
してベースフィルム上に磁性層を形成する工程を含む磁
気記録媒体の製造方法において、ベースフィルムの表面
に凹部を一様に形成し、次いで真空中で前記ベースフィ
ルムの前記表面に磁性金属を蒸着して磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供するも
のである。この方法は、ベースフィルムの凹部の形成と
蒸着とを連続的に実施することができる。
【０００９】また、本発明は、イオンビームエッチング
により表面に凹部が形成されたベースフィルムと、当該
ベースフィルムの前記凹部が形成された面に磁性金属を
蒸着してなる磁性層とを有する磁気記録媒体の製造方法
を提供するものである。
により表面に凹部が形成されたベースフィルムと、当該
ベースフィルムの前記凹部が形成された面に磁性金属を
蒸着してなる磁性層とを有する磁気記録媒体の製造方法
を提供するものである。
【００１０】本発明の磁気記録媒体は、図１（ｂ）に示
されるように、イオンビームエッチングにより凹部２が
形成されたベースフィルム１の表面に磁性金属を蒸着さ
せるものであり、図１（ａ）に示されるように、所々に
長さの異なるコラム３’が混在する構造を有するもので
ある。これによりフィルム１とコラム３、３’の結着性
が向上し、金属結晶のパッキング性が改良されるため、
耐久性とＢｓが向上する。更に磁性層表面にも凹部が形
成されるため、摩擦係数の小さい磁気記録媒体となる。
されるように、イオンビームエッチングにより凹部２が
形成されたベースフィルム１の表面に磁性金属を蒸着さ
せるものであり、図１（ａ）に示されるように、所々に
長さの異なるコラム３’が混在する構造を有するもので
ある。これによりフィルム１とコラム３、３’の結着性
が向上し、金属結晶のパッキング性が改良されるため、
耐久性とＢｓが向上する。更に磁性層表面にも凹部が形
成されるため、摩擦係数の小さい磁気記録媒体となる。
【００１１】本発明において、ベースフィルム表面の凹
部は何れの方法により形成しても良いが、イオンビーム
エッチングにより形成されるのが好ましい。イオンビー
ムエッチングとは、低気圧放電イオン源から１キロボル
ト（ｋＶ）程度の引出し電界で一様なイオンビームをつ
くり、主としてイオンの運動エネルギーを用いて対象物
の物理的な加工をするものであり、方向性のある加工が
可能である。本発明においてもイオンビームエッチング
の方法は従来公知の方法に準じて行なえばよく、具体的
には、真空中を移動するベースフィルムの表面に向け
て、イオンガンからイオンビームを照射する方法が挙げ
られる。イオンガンとしてはカウフマン型のイオンガン
が一般的であり、供給するガスとしてはアルゴンガス、
窒素ガス、酸素ガス等が挙げられる。イオンガンの加速
電圧はガスの種類やベースフィルムに設ける凹部の程度
にもよるが、１ｋＶ程度である。また、イオンエッチン
グ手段として公知のＥＣＲ型のものやその他公知の装置
を用いることも可能である。
部は何れの方法により形成しても良いが、イオンビーム
エッチングにより形成されるのが好ましい。イオンビー
ムエッチングとは、低気圧放電イオン源から１キロボル
ト（ｋＶ）程度の引出し電界で一様なイオンビームをつ
くり、主としてイオンの運動エネルギーを用いて対象物
の物理的な加工をするものであり、方向性のある加工が
可能である。本発明においてもイオンビームエッチング
の方法は従来公知の方法に準じて行なえばよく、具体的
には、真空中を移動するベースフィルムの表面に向け
て、イオンガンからイオンビームを照射する方法が挙げ
られる。イオンガンとしてはカウフマン型のイオンガン
が一般的であり、供給するガスとしてはアルゴンガス、
窒素ガス、酸素ガス等が挙げられる。イオンガンの加速
電圧はガスの種類やベースフィルムに設ける凹部の程度
にもよるが、１ｋＶ程度である。また、イオンエッチン
グ手段として公知のＥＣＲ型のものやその他公知の装置
を用いることも可能である。
【００１２】ベースフィルム表面に形成される凹部は一
様に形成されておればよいが、20〜600 ｎｍの間隔（図
１（ｂ）におけるＬ）で形成されるのが好ましい。凹部
がこのような間隔で形成されていると磁性層とフィルム
との結着性や磁性層のコラム形成の面でより好ましい。
また凹部は深さ30〜300 ｎｍ、形状は限定しないが直径
20〜300 ｎｍの円形が一般的である。なお、凹部の形成
度合いはこの範囲に限定されるものではなく、ベースフ
ィルムの材質、磁性金属の種類等によって適宜決定すれ
ばよい。
様に形成されておればよいが、20〜600 ｎｍの間隔（図
１（ｂ）におけるＬ）で形成されるのが好ましい。凹部
がこのような間隔で形成されていると磁性層とフィルム
との結着性や磁性層のコラム形成の面でより好ましい。
また凹部は深さ30〜300 ｎｍ、形状は限定しないが直径
20〜300 ｎｍの円形が一般的である。なお、凹部の形成
度合いはこの範囲に限定されるものではなく、ベースフ
ィルムの材質、磁性金属の種類等によって適宜決定すれ
ばよい。
【００１３】本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施す
る場合、図３のような装置により予め真空チャンバ30内
でベースフィルム31にイオンガン32によりイオンビーム
エッチングを施して表面に凹部を形成した後、別途通常
の真空蒸着装置により磁性層を形成してもよいし、また
図４のような装置によりイオンビームエッチングと蒸着
とを連続して行なうこともできる。図４では、チャンバ
40内のキャンロール42上を走行するベースフィルム43に
向けてアルゴンイオン等のイオンをイオンガン44から照
射しベースフィルム43表面に凹部を形成し、次いでベー
スフィルム43はチャンバ41に移動してキャンロール45上
で磁性金属が蒸着される。チャンバ40からチャンバ41に
移動する際にベースフィルムをボンバード装置46を通過
させる。これにより図１（ａ）の如き構成を有する本発
明の磁気記録媒体が得られる。
る場合、図３のような装置により予め真空チャンバ30内
でベースフィルム31にイオンガン32によりイオンビーム
エッチングを施して表面に凹部を形成した後、別途通常
の真空蒸着装置により磁性層を形成してもよいし、また
図４のような装置によりイオンビームエッチングと蒸着
とを連続して行なうこともできる。図４では、チャンバ
40内のキャンロール42上を走行するベースフィルム43に
向けてアルゴンイオン等のイオンをイオンガン44から照
射しベースフィルム43表面に凹部を形成し、次いでベー
スフィルム43はチャンバ41に移動してキャンロール45上
で磁性金属が蒸着される。チャンバ40からチャンバ41に
移動する際にベースフィルムをボンバード装置46を通過
させる。これにより図１（ａ）の如き構成を有する本発
明の磁気記録媒体が得られる。
【００１４】本発明において、磁性層を形成する磁性材
料としては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に
用いられる強磁性金属材料が挙げられ、例えばCo，Ni，
Fe等の強磁性金属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe
−Co−Ni、Fe−Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性
層としては鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金の
薄膜が好ましく、特に、鉄、コバルト、ニッケルを主体
とする強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物か
ら選ばれる少なくとも１種が好ましい。磁性層の厚さは
限定されないが、500〜3000Å程度である。
料としては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に
用いられる強磁性金属材料が挙げられ、例えばCo，Ni，
Fe等の強磁性金属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe
−Co−Ni、Fe−Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性
層としては鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金の
薄膜が好ましく、特に、鉄、コバルト、ニッケルを主体
とする強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物か
ら選ばれる少なくとも１種が好ましい。磁性層の厚さは
限定されないが、500〜3000Å程度である。
【００１５】高密度記録のためには磁気記録媒体の磁性
層は、斜め蒸着により基材上に形成することが好まし
い。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来公知の方法
に準ずる。蒸着の際の真空度は10-4〜10-7Ｔｏｒｒ程度
である。蒸着による磁性層は単層構造でも多層構造の何
れでも良く、特に、酸化性ガスを導入して磁性層表面に
酸化物を形成することにより、耐久性の向上を図ること
ができる。
層は、斜め蒸着により基材上に形成することが好まし
い。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来公知の方法
に準ずる。蒸着の際の真空度は10-4〜10-7Ｔｏｒｒ程度
である。蒸着による磁性層は単層構造でも多層構造の何
れでも良く、特に、酸化性ガスを導入して磁性層表面に
酸化物を形成することにより、耐久性の向上を図ること
ができる。
【００１６】また、本発明においては、磁性層上に保護
層を設けてもよい。保護層は、炭素或いは炭化物、窒化
物、酸化物、特にダイヤモンドライクカーボン、ダイヤ
モンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒化ケ
イ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等を磁性層上に付
着して成膜することにより形成されるのが好ましく、中
でもダイヤモンドライクカーボンからなる保護層を形成
するのが最も望ましい。これらの保護層は、マイクロ波
を用いたECR 法や、高周波(RF)を用いた方法により真空
中で形成するのがよい。保護層の厚さは特に限定しない
が、10〜300 Å、好ましくは30〜150 Å程度が適当であ
る。
層を設けてもよい。保護層は、炭素或いは炭化物、窒化
物、酸化物、特にダイヤモンドライクカーボン、ダイヤ
モンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒化ケ
イ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等を磁性層上に付
着して成膜することにより形成されるのが好ましく、中
でもダイヤモンドライクカーボンからなる保護層を形成
するのが最も望ましい。これらの保護層は、マイクロ波
を用いたECR 法や、高周波(RF)を用いた方法により真空
中で形成するのがよい。保護層の厚さは特に限定しない
が、10〜300 Å、好ましくは30〜150 Å程度が適当であ
る。
【００１７】更に本発明においては、磁性層或いは保護
層の上に潤滑剤層を形成してもよい。潤滑剤層は常法に
より適当な潤滑剤を溶剤に溶かして大気中で塗布しても
良いし、真空中で潤滑剤を噴霧してもよい。また、ベー
スフィルムの磁性層が形成される面と反対の面にバック
コート層を形成してもよい。バックコート層は、カーボ
ンブラック等を適当な溶剤に分散させた液を塗布しても
よいし、金属又は半金属を物理的蒸着法(PVD) 、特に熱
蒸発法、スパッタリング法により蒸着させて形成させて
もよい。これらの潤滑剤層、バックコート層の厚さは限
定されない。
層の上に潤滑剤層を形成してもよい。潤滑剤層は常法に
より適当な潤滑剤を溶剤に溶かして大気中で塗布しても
良いし、真空中で潤滑剤を噴霧してもよい。また、ベー
スフィルムの磁性層が形成される面と反対の面にバック
コート層を形成してもよい。バックコート層は、カーボ
ンブラック等を適当な溶剤に分散させた液を塗布しても
よいし、金属又は半金属を物理的蒸着法(PVD) 、特に熱
蒸発法、スパッタリング法により蒸着させて形成させて
もよい。これらの潤滑剤層、バックコート層の厚さは限
定されない。
【００１８】本発明の磁気記録媒体を構成するベースフ
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル；ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロースト
リアセテート、セルロースジアセテート等のセルロース
誘導体；ポリカーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリイミ
ド；芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。特にポリエチレンテレフタレートがイオンビームエ
ッチングによる凹部の形成の操作等から好適である。こ
れらのベースフィルムの厚さは３〜50μｍ程度である。
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル；ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロースト
リアセテート、セルロースジアセテート等のセルロース
誘導体；ポリカーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリイミ
ド；芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。特にポリエチレンテレフタレートがイオンビームエ
ッチングによる凹部の形成の操作等から好適である。こ
れらのベースフィルムの厚さは３〜50μｍ程度である。
【００１９】
【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００２０】実施例１ 図４に示す装置を用い、イオンビームエッチングと蒸着
を連続的に行なって、磁気記録媒体を製造した。即ち、
巻出ロール48に厚さ10μｍ、幅15ｃｍのPET フィルム43
をセットし、チャンバ40内のキャンロール42上を走行速
度10ｍ／分で走行させ、フィルム43表面に向けてイオン
ガン44よりイオンビームを照射する。このときイオンガ
ン44へ供給したガスはアルゴンガスであり、加圧電圧を
１ｋＶでアルゴンイオンを発生させてベースフィルム43
に向けて照射し、ベースフィルム43表面に直径50ｎｍ、
深さ100 ｎｍの孔を100 ｎｍ間隔で形成した。なお、チ
ャンバ40は図示しない真空手段により真空度が５×10-3
Ｔｏｒｒに保った。
を連続的に行なって、磁気記録媒体を製造した。即ち、
巻出ロール48に厚さ10μｍ、幅15ｃｍのPET フィルム43
をセットし、チャンバ40内のキャンロール42上を走行速
度10ｍ／分で走行させ、フィルム43表面に向けてイオン
ガン44よりイオンビームを照射する。このときイオンガ
ン44へ供給したガスはアルゴンガスであり、加圧電圧を
１ｋＶでアルゴンイオンを発生させてベースフィルム43
に向けて照射し、ベースフィルム43表面に直径50ｎｍ、
深さ100 ｎｍの孔を100 ｎｍ間隔で形成した。なお、チ
ャンバ40は図示しない真空手段により真空度が５×10-3
Ｔｏｒｒに保った。
【００２１】次いで、イオンビームエッチングにより表
面に孔が形成されたベースフィルム43をボンバード装置
46を通過させた後チャンバ41に移動させ、ルツボ47内に
収容されたコバルトを蒸着させてベースフィルム43の凹
部が形成された面に厚さ1600Åの磁性層を形成した。な
お、チャンバ41は図示しない真空手段により真空度が２
×10-5Ｔｏｒｒに保った。
面に孔が形成されたベースフィルム43をボンバード装置
46を通過させた後チャンバ41に移動させ、ルツボ47内に
収容されたコバルトを蒸着させてベースフィルム43の凹
部が形成された面に厚さ1600Åの磁性層を形成した。な
お、チャンバ41は図示しない真空手段により真空度が２
×10-5Ｔｏｒｒに保った。
【００２２】磁性層が形成されたベースフィルムを巻取
ロール49で巻き取った後、常法により厚さ5000Åのカー
ボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリ
マーとからなるバインダ樹脂からなるバックコート層を
ベースフィルムの磁性層と反対の面に形成し、更に磁性
層上に常法により厚さ20Åのパーフルオロポリエーテル
からなる潤滑剤層を形成した。
ロール49で巻き取った後、常法により厚さ5000Åのカー
ボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリ
マーとからなるバインダ樹脂からなるバックコート層を
ベースフィルムの磁性層と反対の面に形成し、更に磁性
層上に常法により厚さ20Åのパーフルオロポリエーテル
からなる潤滑剤層を形成した。
【００２３】得られたフィルムを８ｍｍ巾に裁断し、カ
セットケースにローディングし８ｍｍカセットテープを
得た。この８ｍｍカセットテープについて静磁気特性、
スチル耐久特性、磁性層側の摩擦係数を測定した。その
結果を表１に示す。なお、各評価は以下のようにして行
なった。
セットケースにローディングし８ｍｍカセットテープを
得た。この８ｍｍカセットテープについて静磁気特性、
スチル耐久特性、磁性層側の摩擦係数を測定した。その
結果を表１に示す。なお、各評価は以下のようにして行
なった。
【００２４】(1) 静磁気特性 保磁力（Ｈｃ） ＶＳＭ（振動試料型磁力計で測定した。 飽和磁束密度（Ｂｓ） ＶＳＭ（振動試料型磁力計で測定した。 (2) スチル耐久特性 ８ｍｍカセットテープを市販の８ｍｍＶＴＲにセット
し、20℃／50％（温度／湿度）の条件下で出力が３ｄＢ
低下するまでのスチルモード時間を測定した。 (3) 摩擦係数 20℃／50％（温度／湿度）の条件下で摩擦体（直径５ｍ
ｍ、ステンレススチール製、表面粗さ0.2 Ｓ）を14.3ｍ
ｍ／秒の速度で115 °の抱き角となるよう20ｇのテンシ
ョンをかけたときの値を摩擦係数測定機で測定した。
し、20℃／50％（温度／湿度）の条件下で出力が３ｄＢ
低下するまでのスチルモード時間を測定した。 (3) 摩擦係数 20℃／50％（温度／湿度）の条件下で摩擦体（直径５ｍ
ｍ、ステンレススチール製、表面粗さ0.2 Ｓ）を14.3ｍ
ｍ／秒の速度で115 °の抱き角となるよう20ｇのテンシ
ョンをかけたときの値を摩擦係数測定機で測定した。
【００２５】実施例２ 実施例１と同様の方法により８ｍｍカセットテープを製
造した。ただし、イオンビームエッチングにより形成す
る孔は500 ｎｍ間隔で設けた。その他は実施例１同様に
し、実施例１同様の評価を行なった。その結果を表１に
示す。
造した。ただし、イオンビームエッチングにより形成す
る孔は500 ｎｍ間隔で設けた。その他は実施例１同様に
し、実施例１同様の評価を行なった。その結果を表１に
示す。
【００２６】比較例１ 実施例１において、イオンビームエッチング処理を施さ
ないベースフィルムに磁性層を形成した。その他は実施
例１同様にし、実施例１同様の評価を行なった。その結
果を表１に示す。
ないベースフィルムに磁性層を形成した。その他は実施
例１同様にし、実施例１同様の評価を行なった。その結
果を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、耐久性とＢｓが向上
し、且つ摩擦係数の小さい磁気記録媒体が得られる。
し、且つ摩擦係数の小さい磁気記録媒体が得られる。
【図１】本発明の磁気記録媒体の構成を示す概略図
【図２】従来の蒸着型の磁気記録媒体の構成を示す概略
図
図
【図３】ベースフィルムにイオンビームエッチング処理
をする装置の要部の概略図
をする装置の要部の概略図
【図４】本発明の磁気記録媒体を製造する装置の要部の
概略図
概略図
１ ベースフィルム ２ 凹部 ３、３’ 磁性層のコラム
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｆ 41/20 Ｈ０１Ｆ 41/20 (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 佐々木 克己 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 松尾 祐三 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 真空中で磁性金属を蒸着してベースフィ
ルム上に磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の製
造方法において、表面に凹部が一様に形成されたベース
フィルムの前記表面に磁性金属を蒸着することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 真空中で磁性金属を蒸着してベースフィ
ルム上に磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の製
造方法において、ベースフィルムの表面に凹部を一様に
形成し、次いで真空中で前記ベースフィルムの前記表面
に磁性金属を蒸着して磁性層を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記凹部をイオンビームエッチングによ
り形成する請求項１又は２記載の磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項４】 前記イオンビームエッチングをアルゴン
イオンにより行なう請求項３記載の磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項５】 前記凹部の間隔が20〜600ｎｍである請
求項１〜４の何れか１項記載の磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項６】 表面に凹部が一様に形成されたベースフ
ィルムと、当該ベースフィルムの前記表面に磁性金属を
蒸着してなる磁性層とを有する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15631495A JPH097172A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15631495A JPH097172A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH097172A true JPH097172A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15625098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15631495A Pending JPH097172A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH097172A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015014028A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-01-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 |
| JP2015040324A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP15631495A patent/JPH097172A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015014028A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-01-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 |
| JP2015040324A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 |
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