JPH0197558U - - Google Patents

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JPH0197558U
JPH0197558U JP1987194176U JP19417687U JPH0197558U JP H0197558 U JPH0197558 U JP H0197558U JP 1987194176 U JP1987194176 U JP 1987194176U JP 19417687 U JP19417687 U JP 19417687U JP H0197558 U JPH0197558 U JP H0197558U
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JP
Japan
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bare chip
layer
board
mounting hole
substrate
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Application number
JP1987194176U
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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
図面は本考案の一実施例に係り、第1図は本考
案の一実施例に係るICベアチツプ実装基板の側
面断面図、第2図ないし第4図は第1図の実装基
板の製造要領の説明に供する図であり、第2図は
多層基板の側面断面図、第3図は第2図の多層基
板にICベアチツプを搭載するとともに基板フイ
ルムをそのICベアチツプ上にのせた状態の側面
断面図、第4図は基板フイルムの平面図である。 2…第1層目基板、4…グランド配線、6…第
2層目基板、8…ICベアチツプ、10…第1搭
載孔、12…第3層目基板、14…第2搭載孔、
16…結線用ランド、18…第4層目基板、20
…上部配線、22…基板フイルム、24…樹脂充
填用孔、26…ランド、28…配線パターン、3
0…樹脂。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 表面にグランド配線された1層目基板と、 基板厚みがICベアチツプのチツプ厚みよりも
    薄くかつICベアチツプの平面形状とほぼ一致す
    る第1搭載孔を形成されて第1層目基板の表面に
    積層された第2層目基板と、 第2層目基板上に積層された状態で第1層目基
    板の表面からの高さがその前記第1層目基板の表
    面に搭載されたICベアチツプの高さとほぼ同一
    となるような基板厚みを有しかつICベアチツプ
    の平面形状よりも大きい第2搭載孔を有するとと
    もにその第2搭載孔周囲の表面にICベアチツプ
    に対する結線用ランドを形成され、その第2搭載
    孔から第1層目基板表面に積層された第2層目基
    板の第1搭載孔がのぞく位置において第2層目基
    板上に積層された第3層目基板と、 第2層目基板の搭載孔から臨む第1層目基板の
    表面に搭載されたICベアチツプと、 樹脂充填用孔を形成され、かつICベアチツプ
    上のランドと前記結線用ランドとを接続するため
    の配線パターンが印刷されているとともに、その
    配線パターンで第1層目基板上に搭載されたIC
    ベアチツプのランドと第3層目基板の結線用ラン
    ドとを接続するようにしてICベアチツプ上に取
    り付けられた基板フイルムと、 前記各基板が積層された状態で基板フイルムの
    樹脂充填用孔を介して第3層目基板の搭載孔の内
    壁と第1層目基板上に搭載されたICベアチツプ
    の側壁との間の空間部に充填されるとともに、そ
    のICベアチツプの周囲を封止する樹脂 とを具備したことを特徴とするICベアチツプ
    実装基板。
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