JPH0198698A - 表面清浄剤／磨き剤組成物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特定の粒度分布を有する研摩材としての特定の
結晶性アルミノシリケートを含有する清浄／研摩処方物
に関し、またその製造方法にも関する。

発明の背景 広範囲にわたる徨々の清浄処方物が当業界に公知である
。概して、このような清浄処方物は通常的にケイ酸アル
ミニウム、けいそう±、無定形シリカ、白亜などのよう
な研摩材の液体ベースの懸濁液である。若干の清浄処方
物は研摩剤の＃１か忙ワックスをも含有し、それＫよシ
清浄及び研摩の作用と表面への保護コーティングの塗布
とを組み合わせている。

慣用的には清浄組成物の処方は、最終清浄組成物を得る
ために日常的に添加される成分に関して多少固定的であ
る。研摩剤、ワックス、増粘剤、安定剤を含めて成る椎
の周知の成分は上記のような清浄組成物に対する日常的
な添加剤であると思われる。これらの成分の１１１又は
それ以上を包含させることは一般的に意図された目的に
対する単なる一つの処方であると思われる。

清浄組成物における研摩材として結晶性アルミノシリケ
ートを使用することは当業界に周知である。例えは１９
８４年５月２日に公表されたヨーロッパ特許第０１０７
３３４号明細書は研摩剤としての特定の結晶性アルミノ
シリケート及びケイ素含有化合物を含有する磨き剤（ｐ
ｏｔｉａｈ　）組成物について記載しておシ、この場合
核層き剤組成物において使用されるケイ素銹導体の量は
、他の慣用の研摩剤と共に使用される場合に受は入れる
ことのできる光沢及び均一性を付与するのに必要な童に
関して実質的に′減少させることのできる量である。ケ
イ素誘導化合物のｆｌＣおけるこの減少は磨き剤組成物
の磨き剤成分としてゼオライトＡ。

ゼオライトＸ１ゼオライトＹ及びそれらの混合物から選
択される結晶性アルミノシリケートを使用することによ
シ行われる。結晶性アルミノシリケートの選択は、ケイ
素誘導化合物の有効量が必要な最小有効量であシ、かつ
前記磨き剤組成物中における研摩材として、例えばけい
そう土岩又はカオリンのような慣用の研摩材を使用した
場合に必要な量よりも少量であシ、しかも一方において
該磨き剤組成物によって得られる光沢及び均一性が維持
されるように、ケイ素誘導化合物の選択と相関する。し
かしながら、この刊行物は、本発明によシ、特定の粒度
分布を有する研摩材として特定の結晶性アルミノシリケ
ートを使用することによって与えられる予想外の利点を
どこにも開示、例示又は認めていない。

研摩剤を含有しない洗浄処方物もまた当業界に公知であ
る。カナダ国特許第７２６，６６８号明細書は水、炭素
原子１〜５個を有するｍ個アルコール及びそれらの混合
物から選択される揮発性液体ビヒクル中の微粉砕された
ダイラタント（ｄｉｔ＆ｔａ−ｎｔ）粘土を含有する清
浄処方物を記載している。

清浄処方物中に凝結防止剤（ａｎｔｉ−ｃａｋｉｎｇ　
ａｇｅｎｔ　）を使用して長期貯蔵中におけるダイラタ
／ト粘土懸濁液のケーキング（ｃａｋｉｎｇ）傾向を減
少させることができる。好適な凝結防止剤はとシわけて
結晶性アルカリ金属ケイ酸アルミニウムを包含する。前
記カナダ国特許明細書の第１頁第１４〜１５行に記載の
ように該開示された清浄組成物は研摩剤を含有しない。

本発明は、Ｃ）高められた湿潤性を与え、（ｂ）高めら
れた分散安定性を与え、（ｃ）高められた防曇性（ａｎ
ｔｉ−ｆｏｇｇｉｎｇ）を与え、（ｄ）残留フィルミン
グ（ｒｅ−ｓｉｄｕａｔｆｉｍｉｎｇ　）を減少させ、
もしくは排除し、かつ／又は（ｅ）　’Ｒ面除去中にお
けるダストを減少させ、もしくは排除するのに十分な特
定の粒置゛分布を有する研摩材としての特定の結晶性ア
ルミノシリケートを使用する点【Ｃおいて先行技術の清
浄組成物と相違する。

発明の開示 本発明は、（＋）水、炭素原子１〜５個を有するｍ個ア
ルコール及びそれらの混合物から選択される揮発性液体
キャリヤーと、（膳）ゼオライトＡ１ゼオライトＸ１ゼ
オライトＹ１ゼオライトＰ及びそれらの混合物から選択
される研摩材としての結晶性アルミノシリケートとを包
含して成シ、この場合前記結晶性アルミノシリケートは
（ａ）高められた湿潤性を与え、（ｂ）高められた分散
安定性を与え、（ｃ）高められた防曇性を与え、（ｄ）
残留フ・イルミフグを減少させ、もしくは排除し、かつ
／又は（ｇ）表面除去中におけるダストを減少させ、も
しくは排除するのに十分な粒度分布を有するものである
表面清浄剤／ｍき剤（ｐｏｔｉａｈ）組成物に関する。

また本発明は該表面清浄剤／磨き剤組成物の製造方法に
も関する。

詳細な記述 上記に示したように本発明は（ｉｉ）水、炭素原子１〜
５個を有するｍ個アルコール及びそれらの混合物から選
択される揮発性液体キャリヤーと、（ｉｉ）ゼオライト
Ａ１ゼオライトＸ１ゼオライトＹ、ゼオライトＰ及びそ
れらの混合物から選択される結晶性アルミノシリケート
とを包含して成シ、この場合前記結晶性アルミノシリケ
ートは、（ａ）高められた湿潤性を与え、（ｂ）高めら
れた分散安定性を与え、（ｃ）高められた防曇性を与え
、（ｄ）残留フィルミングを減少させ、もしくは排除し
、かつ／又Ｆｉ（ｅ）表面除去中におけるダストを減少
させ、もしくは排除する、のに十分な粒度分布を有する
ものである表面清浄剤／磨き一剤組成物に関する。また
本発明は表面清浄剤／磨き剤組成物の製造にも関する。

本発明によシ意回される揮発性液体キャリヤーは水、炭
素原子１〜５個を有する一価アルコール、石油留出物（
ミネラルスピリット）及びそれらの混合物を包含する。

これらのキャリヤーは当業界に公知の慣用の物質である
。好ましい一価アルコールはイングロバノール、メタノ
ール及ヒエタノールを包含する。揮発性液体キャリヤー
は組成物の全重量を基準にして約５０重量％又はそれ以
下から約９５重ｆ％又はそれ以上までのｉにおいて使用
する。好ましくは水、一価アルコール（イングロパノー
ル）及び石油留出物（ミネラルスピリット）をそれぞれ
約７０重量％ないし約８０１址チ、約５重量俤ないし約
１５重−ｊｌｑ！Ｉ及び約１重量％ないし約１０重ｆｑ
ｂの量において含有する比較的に迅速に乾燥する液体キ
ャリヤーを使用する。

本発明によシ意図される結晶性アルミノシリケート研摩
材は特定の粒度分布を有するゼオライトＡ１ゼオライト
Ｘ１ゼオライトＹ１ゼ第２イトＰ（ゼオライトＢとして
も知られている）及びそれらの混合物を包含する。特に
該結晶性アルミノシリケートは（ｍｌ高められた湿向性
を与え、（ｂ）高められた分散安定性を与え、（ｃ）高
められた防曇性を与え、（ｄ）残留フィルミングを減少
させ、もしくは排除し、かつ／又は（ｅ）表面除去中に
おけるダストを減少させ、もしくは排除する、のに十分
な粒度分布を有する。このような性質を与えるためには
、沈降分析によシ全結晶性アルミノシリケート粒子の５
％未満、好ましくは３９ｂ未満が直径５ミクロンよりも
大きい粒度な有すべきであることがわかった。該結晶性
アルミノシリケートはエアミルにかけて特定の粒度分布
とすることが好ましい。ゼオライト４Ａのような成る種
の結晶性アルミノシリケートは合成して特定の粒度分布
を与えることができる。

ゼオライトＡ、Ｘ、Ｙ及びＰは当業界に公知の慣用の物
質である。ゼオライトＡ、Ｘ、Ｙ及びＰの化学的性質及
び物理的性質はＢｒｅａｋ−、、Ｄｏｎａｌｄ　Ｗ著、
ゼオライト　モレ呼ニラ−シープズ（Ｚｅｏｌｉｔｅ　
Ｍｏ−１ｅｃｕｌｅｒ　５ｉｅｖｅｓ　）、Ｗｌｌｅ７
−Ｉｎｔｅｒａｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｃｕｔｉｏｎ
社発行（ｉｉ９７４年）、第６７〜７７．８３〜１０７
．１３３．１６８．１７６　及び１７７頁に記載されて
いる（前記頁は参考として本明細書に組み入れる）。

特定の粒度分布を有するゼオライト１５Ｘは本発明の表
面清浄剤／磨き剤組成物忙おける研摩剤として使用する
のＫ特に好適であることがわかった。

結晶性アルミノシリケート研摩材は一般的に本発明の表
面清浄剤／磨き剤組成物において該組成物の全重量を基
準にして約０．１重量％と約３０重ｆｔ俤との間の量に
おいて使用される。好ましくは該結晶性アルミノシリケ
ートは約１重量％ないし約１５重ｉ％の量において使用
される。

本発明の表面清浄剤／磨き剤組成物はワックス、界面活
性剤、増粘剤又は懸濁助剤、香料などのような当業界に
おいて慣用的に使用される、他の成分を含有することが
できる。適当なワックスとしては植物ワックス、動物ワ
ックス、鉱物ワックス、及び合成ワックスが包含される
。適当な界面活性剤としては例えばユニオンカーバイド
コーポレーション製のエトキシル化ノニルフェノール界
面活性剤である。テルギトール（Ｔｅｒｇｉｔｏｌ　）
　ＮＰ−９（商標）のような非イオン界面活性剤が包含
される。適当な増粘剤又は懸濁助剤としては、例えはＢ
、　Ｆ、グツドリッチ社製の、アクリル酸から訪導され
る増粘剤であるカルボボール（ｃａｒｂｏｐｏｌ　）　
９３４（商標）が包含される。適当な香料としては例え
ば花の芳香及び柑橘の芳香が包含される。アンモニアも
また本発明の表面清浄剤／脂き剤組成物において清浄性
を高めるために包含されることがある。これらの成分及
び使用量の選択は個々の表面清浄剤／磨き剤組成物の性
質と個々の成分の、その意図される機能を遂行する能力
とによって指示される。

本発、明の好ましい表面清浄剤／Ｎき剤組成物は下記を
含有する： 成分　　　　を量チ ゼオライト１５Ｘ　　　　　　　５．０　〜１５．０ミ
ネラルスピリツト　　　　ｔＯ〜　１０．０イソプロパ
ノール　　　　　５．０　〜１５．０テルギトール　Ｎ
Ｐ−９（商標）　　　０．１０〜０．２０カルボポール
　９３４（商標）　　　　ｏ、ｉｓ〜　０．２０香料　
　　　　Ｑ、１０〜α２０ 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０．０〜８
０．０本発明の表面清浄剤／磨き開祖放物は成分を混合
し、かつ分散させるような、歯業者に公知の慣用の方法
によって製造することができる。しかしながら特定の混
合順序により、高度に好ましい性質を有する本発明の表
面清浄剤／磨き開祖放物が得られることがわかった。

好ましい混合順序においてカルボボール９３４（商標）
のような増粘剤又は懸濁助剤を、連続的にかくはんしな
がら水に溶解させ、次いで特定の粒度分布を有するゼオ
ライト４Ａ又はゼオライト１５Ｘのような結晶性アルミ
ノシリケート研摩材を添加し、かくはんする。得られた
混合物にイソプロパツールのような一価アルコールを添
加し、その後にイソプロパツールのよりな一価アルコー
ル、ミネラルスピリットのような石油留出物及びテルギ
トールＮＰ−９（商標）のような界面活性剤を含有する
混合物を連続的にかくはんしながら添加する。得られる
表面清浄剤７語き開祖放物は本明細書に記載のような高
度に望ましい性質を示す０この特定の混合順序は本発明
の表面清浄剤／磨き開祖放物を得ることに対して重要で
あることがわかった。

全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よりも多くが直
径５ミクロンよりも大きな粒度である粒度分布を有する
アルミノシリケートを含有する清浄組成物と比較して、
本発明の表面清浄剤／磨き開祖放物は高められた湿潤性
、高められた分散安定性、高められた防曇性、残留フィ
ルミングの減少又は排除、及び表面除去中におけるダス
トの減少又は排除を示す。そのほか、ここに意図される
表面清浄剤／磨き開祖放物は内面及び外面の両方、特に
ガラスのような風雨にさらされる表面に対して優れた清
浄性を与える。

本発明の表面清浄剤／磨き開祖放物は硬質表面清浄剤、
ガラス清浄剤、恩情浄剤、非塗装表面に対する研摩助剤
などとしての用途を有する。該表面清浄剤／磨き開祖放
物の塗布及び除去に対しては手動による、又は機械的な
塗りつけ又はぬぐい取りのような慣用の方法を使用する
ことができる０下記の実施例は本発明を更に特徴づける
ために記載されるものであって、いかなる態様において
も本発明を限定するものではない０結晶性アルミノシリ
ケートの粒度は沈降分析によって測定した０実施例１ 本実験は本発明の清浄組成物によす処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　　重量％ゼオライト１ｓ
ｘ’　　　　　　１ｏ、。

ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イソプロパノ
ール　　　　　１Ｑ、０ テルギトール　ＮＰ−９０，１５ カルボポール　９３４　　　　　　０．１８本ゼオライ
ト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミノシリケ
ート粒子の５チ未満が直径５ミクロンよりも大きい粒度
を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ 成　　　分　　　　　　　　　　　ＭｆＩｋｑｂ林 ゼオライト４Ａ　　　　　　　　１０．０ミネラルスピ
リツト　　　　　　　５．０イソプロパノール　　　　
　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール　９３４　　　　　　　０．１８ゼオライ
ト４Ａはエアミルにかけなかったものであシ、全結晶性
アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径５ミクロ
／よ如も大きい粒度である粒度分布を有するものである
。

これらの処方物を水平ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで測定された等しい滴数の水を水平ガラス
表面に塗布した０処方Ａにより処理した水平ガラス表面
は処方Ｂにより処理したガラス表面と比較して高められ
た湿潤性又は優れた親水特性（水で覆われたガラス上の
、より大きな面Ｍ）を示すことが観察された。

実施例２ 本実験は本発明の清浄組成物により処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　Ｎ量チ ＊ ゼオライト１３Ｘ　　　　　　１０．０ミネラルスピリ
ツト　　　　　５．０ イソプロパツール　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８ゼオライト１
３Ｘはエアミルにかｔフで、全結晶性′７／シミノシリ
ケート粒子の５％未満が＠径５ミクロンよりも大きい粒
度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　５．０ イングロパノール　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール　９３４　　　　０１８ 水　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８ゼオ
ライト１５ＸはエアミルＫかけなかったものであ）、全
結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径５
ミクロ／よりも大きい粒度である粒度分布を有するもの
である。

これらの地方物を水平ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで測定された等しい滴数の水を水平ガラス
表面に塗布した。処方Ａによシ処理した水平ガラス表ｍ
目よ処方Ｂによシ処理したガラス表面と比較して高めら
れた湿潤性又は優れた親水特性（水で負われたガラス上
の、よシ大きな面積）を示すことが観察された。

実施例５ 本実験は本発明の清浄組成物により処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８ゼオライト
４Ａはエアミルにかけて、全結昂性アルミノシリケート
粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大きい粒度を有
する粒度分布としたものである０ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イングロパノ
ール　　　　　　１Ｑ、０デルギトールＮＰ−９０，１
５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８たもので０
、全納９ルミノシリケ一ト粒子の５チよシ多くが直径５
ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するもの
である。

これらの処方物を水平ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで測定された等しい滴数の水を水平ガラス
表面に塗布した。処方Ａによシ処理した水平ガラス表面
は処方Ｂにより処理したガラス表面と比較して高められ
た湿潤性又Ｆｉ優れた親水特性（水で負われたガラス上
の、より大きな面積）を示すことが観察された。

実施例４ 本実数は本発明の清浄組成物により処理したガラス忙付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ゼオライ
ト４ＡはエアミルＫかけて、全結晶性アルミノシリケー
ト粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大きい粒度を
有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　　５，０イソプロパノ
ール　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１
５ カルボボール９３４　　　　　　　　０．１８水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであプ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方物を水平ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで測定された等しい滴数の水を水平ガラス
表面に、塗布した。処方Ａにより処理した水平ガラス表
面は処方ＢＫより処理したガラス表面と比較して高めら
れた湿潤性又は優れた親水特性（水で憶われたガラス上
の、よシ大きな面積）を示すことが観察された。

実施例５ 本実験は本発明の清浄組成物、こよ多処理したガラスに
付与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　０．１８水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ ゼオライト　１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アル
ミノシリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも
大きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　０．１８ものであり、
・全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直
径５ミクａ７よりも大きい粒度である粒度分布を有する
ものである。

これらの処方物を垂直ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで該垂直ガラス表面に水を塗布した。処方
ＡｊＣよ多処理された垂直ガラス表面は処方ＢＫよ多処
理されたガラス表面と比較して高められた湿潤性又は優
れた親水特性〔ガラス上におけろ水の均一かつ完全なシ
ーテイング（ｓｈ−・・ｔｉｎｇｓ薄層被ａｌｌ　　を
示すことが観察された。

実施例６ 本実験は本発明の清浄組成物によ多処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１Ｑ、０ テルギトールＮＰ−９α１５ カルボポール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ ゼオライト１３Ｘはエアミルにかけて′、全結晶性アル
ミノシリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも
大きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１α０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト１５ＸはエアミルＫかけなかったものであり
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５９ｂよシ多くが
直径５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有す
るものである。

これらの処方物を垂直ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った。次いで該垂直ガラス表面に水を塗布した。処方
ＡＦｃよ多処理された垂直ガラス表面は処方’ＢＫよ多
処理されたガラス表面と比較して高められた湿潤性又は
優れた親水特性〔ガラス上におけろ水の均一かつ完全な
シーテイング（ｓｈ−ｅｅｔｌｎｇｑ薄層被榎）〕を示
すことが観察された。

実施例７ 本実験は本発明の清浄組成物により処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清か処方物を調製した： 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イングロパノ
ール　　　　　　１α０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　　０．１８＊ ゼオライト４ＡはエアミルＫかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである 処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イソプロパノ
ール　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９（ｉｉ
１５ カルボポール９３４　　　　　　　　１１１８水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８ゼオラ
イト１３ＸｔｌエアミルＫかけなかったものでアシ、全
結晶性アルミノシリケート粒子の５ｓよシ多くが直径５
ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するもの
であるＯ これらの処方物を垂直ガラス表面に塗布し、次いでふき
取った０次いで該垂直ガラス表面に水を塗布した。処方
ＡＫよ多処理された垂直ガラス表面は処方Ｂによ〕処理
されたガラス表面と比較して高められた湿潤性又は優れ
た親水特性〔ガラス上におけろ水の均一かつ完全なシー
テイング（ｓ＋ｈ−ｅｅｔｉｎｇｓ薄層被ａ〕〕を示す
ことが観察された。

実施例８ 本実験は本発明の清浄組成物によシ処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を例証する。

下記成分を含有させてガラス清浄処方物を調製した： 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　　α１８＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　０．１８ゼオライト
４Ａはエアミルにかけなかったものであり、全結晶性ア
ルミノシリケート粒子の５％よ）多くが直径５ミクロン
よりも大きい粒度である粒度分布を有するものである。

これらの処方物を垂直ガラス表面忙塗布し、次いでふき
取った。次いで該垂直ガラス異面に水を塗布した。処方
Ａによシ処理された垂直ガラス表面は処方Ｂによシ処理
されたガラス表面と比較して高められた湿潤性又は優れ
た親水特性〔ガラス上における水の均一かつ完全なシー
テイノグ（５ｈ−ｅｅ　ｔ　ｉｎｇｓ薄層被覆）〕を示
すことが観察された。

実施例９ 本実験は本発明の清浄組成物によって示される改良され
た分散安定性を例証する。下記成分を含有させて清浄処
方物を調製した： ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　α１８＊ ゼオライト１３Ｘはエアミルｋかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の５チ未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであシ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５１よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方物を２６週間の期間にわたって放置した。

処方Ｂにおいては、ゼオライトの激しい沈降（ｈａｒｄ
　５ｅｔｔｌｅ　）を包含する多層沈降が観察された。

処方Ｂにおいては、沈降したゼオライトを包含する該多
層を溶液中に戻すためには激しい振とうが必要であった
。処方Ａにおいては沈降が全く、又は殆んど観察されず
、しかも、すべての沈降物質は穏やかな振とうにょシ容
易に再分散された。

処方Ａは処方Ｂと比較して高められた分散安定性を示す
ことが観察された。

実施例１０ 本実験は、本発明の清浄組成物によシ示された改善され
た分散安定性を説明するものである。下記成分を含有す
る清浄処方物をｗ！４製した。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テ＞ギトーＡ−ＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　α１８＊ ゼオライト１３Ｘはニアミル忙がけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　Ｓ、Ｏイソプロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　　Ｑ、１８＊＊ ゼオライト１３Ｘはエアミルにかけなかったものであシ
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５チよシ多くが直
径５ミク日ンよりも大きい粒度である粒度分布を有する
ものであるＯ これらの処方を２６週間にわたシ装置した。ゼオライト
の撤しい沈降を含む多層沈降が処方Ｂにおいてみられた
。沈降したゼオライトを含む多層物を処方Ｂの溶液中へ
もどすために激しい振とぅを与える必要があった。処方
Ａでは沈降がないか、あって屯極めて僅かであ〕、沈降
物質はすべて軽い振とうにより容易に再分散された。処
方Ａは処方Ｂに比して高い分散安定性を示すことが観測
された。

実施例１１ 本実験は、本発明の清浄組成物によシ示された改善され
た分散安定性を説明するものである。下記成分を含有す
る清抄処方物を調製した。

処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　　ｌＩ量チ＊ ゼオライト４　Ａ　　　　　　　　Ｉ　０．０ミネラル
スピリツト　　　　　　５．０イソプロパツール　　　
　　１α０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　　α１８＊　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ ゼオライト４Ａはエアミルｋかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ゼオライト１５Ｘ　　　　　　　　１０．０ミネラルス
ピリツト　　　　　　　５．０イソプロパノール　　　
　　　１０．０テルギトールＮＰ−９α１５ カルボポール９３４　　　　　　　　０．１８子の５ｑ
ＩＪより多くが直径５ミクロンよりも大きい粒度である
粒度分布を有するものである。

これらの処方を２６週間にわたシ装置した。ゼオライト
の激しい沈降を含む多層沈降が処方Ｂにおいてみられた
。沈降したゼオライトを含む多層物を処方Ｂの溶液中へ
もどすために激しい振とうを与える必要があった。処方
Ａでは沈降がないか、あっても極めて僅かであシ、沈降
物質はすべて軽い振とうによシ容易＆Ｃ再分散された。

処方Ａは処方ＢＫ比して高い分散安定性を示すことが認
められた。

実施例１２ 本実験は、本発明の清浄組成物にょシ示された教書され
た分散安定性を説明するものである。下記成分を含有す
る清浄処方物を調製した。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトー＃　ＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプ四パノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであり、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方を２６週間にわたり静置した。ゼオライト
の激しい沈降を含む多層沈降が処方Ｂにおいてみられた
。沈降したゼオライトを含む多層物を処方Ｂの溶液中へ
もどすために激しい振とうを与える必要があった。処方
Ａでは沈降が無いか、あっても極めて僅かであシ、沈降
物質はすべて軽い振とうによシ容易に再分散された。処
方Ａは処方ＢＫ比して高い分散安定性を示した。

実施例１３ 本実験は、本発明の清浄組成物の乾燥したものを表面除
去している間のダストの減少もしくは除去を説明するも
のである０下記成分を含有する清浄処方物を調製した。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０−イングロパノ
ール　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　α１８＊ ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロバノー
ル　　　　　１０，０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものでメジ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方を汚れたガラスに対して適用した後ふき取
った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方Ｂの
手ふきｋよるガラス表面からの除去の間との比較におい
て乾燥処方Ａの手ふきによるガラス表面からの除去の間
における、処方の除去に使用された織物又は非織物に付
着していないダスト量の減少を観察した。

実施例１４ 本実験は、本発明の清浄組成物の乾燥したものを表面除
去している間のダストの減少もしくは除去を説明するも
のである。下記成分を含有する清浄処方物をθ４製した
。

処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　　　　重量％＊ ゼネラル１５Ｘ　　　　　　　　　１０．０ミネラルス
ピリツト　　　　　　　　５．０イングロバノール　　
　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１ｓ カルボボール９３４　　　　　　　　０．１８水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の５％未満が直径５電クロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパノー
ル　　　　　１０，０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８ゼ第２イ）
１３Ｘはエアミルにかけなかったものでメジ、全結晶性
アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径５ミクロ
ンよりも大きい粒度である粒度分布を有するものである
０ これら、の処方を汚れたガラスに対して適用した後ふき
取った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方Ｂ
の手ふきｋよるガラス表面からの除去の間との比較にお
いて、乾燥処方Ａの手ふき忙よるガラス表面からの除去
の間忙おける、処方の除去に使用された織物又は非織物
に付着していないダスト量の減少を観察した。

実施例１５ 本実験は、本発明の清浄組成物の乾燥したものを表面除
去している間のダストの減少もしくは除去を説明するも
のである。下記成分を含有する清浄処方物を調製した０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８＊ ゼオライト４ＡはエアミルＫかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５Ｔｏ未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イソプロパツ
ール　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　　　０．１８水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６Ｂ本本 ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけなかったものであり
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５９によシ多くが
直径５ミクロンよ〕も大きい粒度である粒度分布を有す
るものである。

これらの処方を汚れたガラスに対して適用した後ふき取
った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方Ｂの
手ふきＫよるガラス表面からの除去の間との比較におい
て、乾燥処方Ａの手ふきｋよるガラス表面からの除去の
間における、処方の除去に使用された織物又は非織物に
付着していないダスト址の減少を観察した。

＊＊例１６ 本′Ａ鯖は、本発明の清浄組成物の乾燥したもの、を表
面除去している間のダストの減少もしくは除去を説ＩＪ
ｊするものである。下記成分を含有する清浄処方物を調
製した。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８＊ ゼ第２イト４ＡはエアミルＫかけて、全結晶性アルζノ
シリケート粒子の５ｔｓ未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　α１８水　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであり、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％より多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方を汚れたガラスに対して適用した後ふき取
った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方Ｂの
手ふきによるガラス表面からの除去の間との比較におい
て、乾燥処方Ａの手ふきＫよるガラス表面からの除去の
間における、処方の除去に使用された織物又は非織物に
付着していないダスト量の減少を観察した。

実施例１７ 本実験は、本発明のｉ′＃沙組成物の乾燥したものを表
面除去している間のダストの減少もしくは除去をＢｉ明
するものである。下記成分を含有する清浄処方物を調製
した０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　５．０ イソプロパノール　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の３％未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０，０ テルギトーｋＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８＊＊ ゼオライト４ＡはエアミルＫかけなかったものでｔりシ
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５ｑｂよシ多くが
直径５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有す
るものである。

これらの処方を汚れたガラス表面に対して適用した後ふ
き取った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方
Ｂの手ふきによるガラス表面からの除去後残留フィルミ
ングとの比較において、乾燥処方Ａの手ふきｋよるガラ
ス表面からの除去後の残留フィルミングよシ少いことが
観察された。

また、処方Ａで処理されたガラス表面は清浄化の後、よ
シ滑らかな感触、例えばベルペットのような感触を示し
、清浄化の後処方Ｂで処理されたガラス表面との比較に
おいて、清浄化の後処方Ａで処理されたガラス表面に誘
引されるダスト量がよシ少いことが観察された０ 実施例１８ 本実験は本発明の清浄組成物によシ処理したガラス表面
における残留フィルミングの減少もしくは除去を説明す
るものである０下記酸分を含有する清浄処方物を調製し
た０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１Ｑ、０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８ゼオライト
１５Ｘはエアミルｋかけて１．全結晶性アルきノシリケ
ート粒子の５９ｂ未満が直径５ミクロンよりも大きい粒
度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプ四パノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけなかったものでアシ
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よυ多くが直
径５ミクロンよりも大きい粒度でるる粒度分布を有する
ものであるＯ これらの処方を汚れたガラス表面圧対して適用した後ふ
き取った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方
Ｂの手ふきによるガラス表面からの除去後フィルミング
との比較において、乾燥処方Ａの手ふきＫよるガラス表
面からの除去後の残留フィルミングより少いことが観察
された。また、処方Ａで処理されたガラス表面は清浄化
の後、より滑らかな感触、例えばベルペットのような感
触を示し、清浄化の後処方Ｂで処理されたガラス表面と
の比較において、清浄化の後処方Ａで処理されたガラス
表面に誘引されるダスト量がよシ少いことが観察された
。

実施例１９ 本実験は本発明の清浄組成物により処理したガラス表面
における残留フィルミングの減少もしくは除去を説明す
るものである０下記酸分を含有する清浄処方物を調製し
た０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９１１５ カルボポール９３４　　　　　　　０．１８＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５電クロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イソプロパツ
ール　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９０，１
５ カルボボール９３４　　　　　　　　０．１８水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８林 ゼオライト１３ＸはエアミルＫかけなかったものであり
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５１よシ多くが直
径５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有する
ものであるＯ これらの処方を汚れたガラス表面に対して適用した後ふ
き取った０ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方
Ｂの手ふきによるガラス表面からの除去後残留フィルミ
ングとの比較において、乾燥処方Ａの手ふきによるガラ
ス表面からの除去後の残留フィルミングより少いことが
観察された。

また、処方Ａで処理されたガラス表面は清浄化の後、よ
り滑らかな感触、例えばベルペットのような感触を示し
、清浄化の後処方Ｂで処理されたガラス表面との比較に
おいて、清浄化の後処方Ａで処理されたガラス表面１／
Ｃｖｊ引されるダスト量がよシ少いことが観察された。

実施例２０ 本実験は本発明の清浄組成物によシ処理したガラス表面
における残留フィルミングの減少もしくは除去を説明す
るものでめゐ。下記成分を含有する清浄処方物を調製し
た。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　ｓｈ。

イソプロパツール　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　０１８水　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　７４．６８ゼオライト４Ａ
Ｆｉエアミルにかけて、全結晶性アルミノシリケート粒
子の３％未満が直径５ミクロンよりも大きい粒度を有す
る粒度分布としたものである。

処方ら ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであシ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％より多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方を汚れたガラス表面に対して適用した後ふ
き取った。ガラス表面は効果的に清浄化され、乾燥処方
Ｂの手ふきＫよるガラス表面からの除去後残留フィルミ
ングとの比較において、乾燥処方Ａの手ふきによるガラ
ス表面からの除去後の残留フィルミングよシ少いことが
観察された。

また、処方Ａで処理されたガラス表面は清浄化の後、よ
り滑らかな感触、例えにベルペットのような感触を示し
、清浄化の後処方Ｂで処理されたガラス表面との比較に
おいて、清浄化の後処方Ａで処理されたガラス表面ｋｌ
！引されるダスト鷲がよ〕少いことが観察された。

実施例２１ 本実験は本発明の清浄剤で処理したガラス表面における
曇プの減少もしくは除去を説明するものである。下記成
分を含有する清浄処方物を調製したＯ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９１１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊ゼオライト
１３Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミノシリケー
ト粒子の３％未満が直径５ばり關ンよりも大きい粒度を
有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　　５．０イソプロパノ
−＃　　　　　　１０．０テルギトールＮＰ−９α１５ カルボポール９３４　　　　　　０１８林 ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものでメジ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５１よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方をガラス表面に適用した後ふき取った。次
いでガラス表面を曇ル状態とした（息の吐出し忙よる）
０処方Ｂで処理したガラス表面との比較において、処方
Ａで処理したガラス表面の曇りの方がよシ少いことが観
察された。処方Ｂで処理されたガラス表面との比較にお
いて、処方Ａで処理されたガラス表面からのあらゆる付
着した曇りの、よシ迅速な消散が観察された０実施例２
２ 本実験は本発明の清浄剤で処理したガラス表面における
曇りの減少もしくは除去を説明するものである。下記成
分を含有する清浄処方物を調製した０ 処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　　重ｎ−チ＊ ゼオライト１５Ｘ　　　　　　１０．０ミネラルスピリ
ツト　　　　　　５．０イングロパノール　　　　　１
０．０ テルギトールＮＰ−９１１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８＊ ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１Ｑ、０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８ゼオライト
１５Ｘはエアミルにかけなかったものでロシ、全結晶性
アルミノシリケート粒子の５ｅｓより多くが直径５ミク
ロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するものであ
る０ これらの処方をガラス表面に適用した後ふき取った。次
でガラス表面を曇り状態とした（息の吐出しＫよる）０
処方Ｂで処理されたガラス表面との比較において、処方
Ａで処理されたガラス表面の曇りの方がより少いことが
観察された。処方Ｂで処理されたガラス表面との比較に
おいて、処方Ａで処理されたガラス表面からのあらゆる
付着した曇りの、よ）迅速な消散が観察された０実施例
２３ 本実験は本発明の清浄剤で処理したガラス表面における
曇シの減少もしくは除去を説明するものでおる。下記成
分を含有する清浄処方物を調製した０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボポール９３４　　　　　　　１１１８＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけて、全結晶性アルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８本本 ゼオライト１３Ｘはエアミルにかけなかったものであり
、全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直
径５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有する
ものであるＯ これらの処方をガラス表面に適用した後ふき取った。次
いでガラス表面を曇シ状態とした（息の吐出しｋよる）
０処方Ｂで処理されたガラス表面との比較において、処
方Ａで処理されたガラス表面の曇シの方がよル少いこと
が観察された。処方Ｂで処理されたガラス表面との比較
において、処方Ａで処理されたガラス表面からのあらゆ
る付着した曇りの、よシ迅速な消散がｋＪｌＳされた○
実施例２４ ・　本実験は本発明の清浄剤で処理したガラス表面にお
ける曇りの減少もしくは除去を説明するものである。下
記成分を含有する清浄処方物を調製した０ 処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　　［１１８＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけて、全結晶性チルミノ
シリケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大き
い粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　、５．０イングロパノ
ール　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものであり、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５Ｔｏより多くが直
径５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有する
ものである。

これらの処方をガラス表面に適用した後ふき取った。次
いでガラス表面を曇り状態とした（息の吐出しによる）
０処方Ｂで処理されたガラス表面との比較において、処
方Ａで処理されたガラス表面の曇りの方がより少いこと
が観察された。処方Ｂで処理されたガラス表面との比較
において、処方Ａで処理されたガラス表面からのあらゆ
る付着した曇りの、より迅速な消散が麹察された。

実施例２５ 本実験は本発明の清浄組成物によシ処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を説明するものである。下記
成分を含有するガラス清浄組成物を調製した。

処方Ａ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１Ｑ、０ テルギトールＮＰ−９α１５ カルボボール９３４　　　　　　０．１８水　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　７４．６８木 ゼオライト１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミ
ノシリケート粒子の３％未満が直径５ミクロンよりも大
きい粒度を有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５．０イングロパノー
ル　　　　　１０．０ テルキトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　ａ１８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものでアシ、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５％よシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである。

これらの処方液を凍結し、再解凍し、水平にしたガラス
表面に適用した後ふき取った。次で水平ガラス表面に測
定された均一な数滴の水を適用した。処方Ｂで処理され
たガラス表面との比較において、処方Ａで処理された水
平ガラス表面は高められた湿潤力もしくは卓越した親水
性（ガラス上において水による被覆面積がよシ大きいこ
と）を示すことが観察された。また、処方Ａで処理され
たガラス表Ｅｌｌ　Ｉｄ清浄化の後、処方Ｂで処理され
たガラス表面のｆｋ　ｈＩ化の後との比較においてよ如
滑らかな感触、例えはベルペットのような感触を示した
。

実施例２６ 本実貌は本発明の清浄組成物により処理したガラスに付
与された改良された湿潤性を説明するものである。下記
成分を含有するガラス清浄組成物を調製した。

処方Ａ 成　　　分　　　　　　　　　　重′！ｉチ＊ ゼオライト１３Ｘ　　　　　　　１０．０ミネラルスピ
リツト　　　　　　５．０イソプロパツール　　　　　
１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８ゼオライト
１５Ｘはエアミルにかけて、全結晶性アルミノシリケー
ト粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大きい粒度を
有する粒度分布としたものである。

処方Ｂ ミネラルスピリット　　　　　　５゜０イソプロパツー
ル　　　　　１０．０ テルギトールＮＰ−９０，１５ カルボボール９３４　　　　　　　０．１８水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７４．６８＊＊ ゼオライト４Ａはエアミルにかけなかったものでめり、
全結晶性アルミノシリケート粒子の５チよシ多くが直径
５ミクロンよりも大きい粒度である粒度分布を有するも
のである０これらの処方液を凍結し、再解凍し、垂直ガ
ラス六面１／Ｃｍ用した後ふき取った０次で垂直ガラス
表面に水を適用した０処方ＢでＩＡ理されたガラス性（
ガラス上１ｔＣおける均一で完全な水の広がυ）を示す
ことが観察されたｏｆた、処方Ａで処理されたガラス表
面は清浄化の後、処方Ｂで処理されれたガラス表面の清
浄化の後との比較においてより滑らかな感触、例えばベ
ルペットのような感触を示した０ 実施例２７ 本実験は本発明の表面清浄剤／＆ｆき開祖放物を得る上
で重要な特別の混合シーケンスについて説明するもので
ある。

手１’１４１ 水７４．５３　ｔの入ったフラスコ中にカルボボール０
、１８　Ｆを加え、完全に酊解するまで約１時間攪拌を
続けた。攪拌を続けながら、この溶液にゼオライト１５
Ｘ（全ゼオライト１５Ｘ粒子の５９６未満が直径で５ミ
クロンよりも大きい粒度を有しているもの）１０．Ｏｆ
を徐々に加えた。得られた混合物にイソプロパツール６
．７２を加え、その後ミネラルスピリット３５　ｆ、イ
ソプロパツール３．５ｆ及■ びテルギトールＮＰ−９を含む混合物を、攪拌を続けな
がら約３０分間にわたり添加した。得られた本発明の表
面清浄剤／賠き開祖放物は１．０５８−の密度を有して
いた〇 手順… 水７４．５５ｆの入ったフラスコ中にカルボボールα１
８ｆを加え、完全に溶解するまで約１時間攪拌を続けた
。得られた溶液にイソプロパツール６．７２を加え、そ
の後ミネラルスピリツ）　３．３ｆ。

イック。パ／−＃３．５Ｆ及びｆヤギトーヤ、２−２■
を含む混合物を、攪拌を続けながら添加した０この混合
物にゼオライト１！ＩＸ（全ゼオライト１３Ｘ粒子の５
ｔｓ未満が直径で５ミクロンよりも大きい粒度を有して
いるもの）　ｉ　ｏ、　ｏ　ｒを攪拌を続けながら約３
０分間にわたり徐々に添加した。得られた組成物は０．
９８６ｆ／１ｔｔｌの密度を有していた。

手順ｌで調製された本発明の表面清浄剤／磨き開祖放物
は、手順■によシ調製された組成物との比較において、
使用に際してよシ均質であシ、１２０’Ｆの温度におい
て２日間にわたるオープン中での貯蔵後もより低い分離
を示した。

特許出願人　　ユニ第４カーバイト（コーポレーション
代理人　　　高　木　　六　Ｖ鴬 手　　　続　　　補　　　正　　　書 昭和〆３年　３月　３日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ｉ）水、炭素原子１〜５個を有する一価アルコー
   ル、及びそれらの混合物から選択される揮発性液体キャ
   リヤーと、（ｉｉ）ゼオライトＡ、ゼオライトＸ、ゼオ
   ライトＹ、ゼオライトＰ及びそれらの混合物から選択さ
   れる、研磨材としての結晶性アルミノシリケートとを包
   含して成り、この場合、前記結晶性アルミノシリケート
   は（ａ）高められた湿潤性を与え、（ｂ）高められた分
   散安定性を与え、（ｃ）高められた防曇性を与え、（ｄ
   ）残留フイルミングを減少させ、もしくは排除し、かつ
   ／又は（ｅ）表面除去中におけるダストを減少させ、も
   しくは排除するのに十分な粒度分布を有するものである
   表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２、結晶性アルミノシリケートが、全結晶性アルミノシ
   リケート粒子の５％未満が直径５ミクロンよりも大きい
   粒度を有する粒度分布を有する請求項１記載の表面清浄
   剤／磨き剤組成物。 ３、結晶性アルミノシリケートが、全結晶性アルミノシ
   リケート粒子の４％未満が直径５ミクロンよりも大きい
   粒度を有する粒度分布を有する請求項１記載の表面清浄
   剤／磨き剤組成物。 ４、結晶性アルミノシリケートが、全結晶性アルミノシ
   リケート粒子の３％未満が直径５ミクロンよりも大きい
   粒度を有する粒度分布を有する請求項１記載の表面清浄
   剤／磨き剤組成物。 ５、結晶性アルミノシリケートが、全結晶性アルミノシ
   リケート粒子の２％未満が直径５ミクロンよりも大きい
   粒度を有する粒度分布を有する請求項１記載の表面清浄
   剤／磨き剤組成物。 ６、結晶性アルミノシリケートが、全結晶性アルミノシ
   リケート粒子の１％未満が直径５ミクロンよりも大きい
   粒度を有する粒度分布を有する請求項１記載の表面清浄
   剤／磨き剤組成物。 ７、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかけて、全
   結晶性アルミノシリケート粒子の５％未満が直径５ミク
   ロンよりも大きい粒度を有する粒度分布とする請求項１
   記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ８、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかけて、全
   結晶性アルミノシリケート粒子の４％未満が直径５ミク
   ロンよりも大きい粒度を有する粒度分布とする請求項１
   記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ９、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかけて、全
   結晶性アルミノシリケート粒子の３％未満が直径５ミク
   ロンよりも大きい粒度を有する粒度分布とする請求項１
   記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １０、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかけて、
   全結晶性アルミノシリケート粒子の２％未満が直径５ミ
   クロンよりも大きい粒度を有する粒度分布とする請求項
   １記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １１、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかけて、
   全結晶性アルミノシリケート粒子の１％未満が直径５ミ
   クロンよりも大きい粒度を有する粒度分布とする請求項
   １記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １２、揮発性液体キャリヤーが水である請求項１記載の
   表面清浄剤／磨き剤組成物。 １３、揮発性液体キャリヤーが炭素原子１〜５個を有す
   る一価アルコールである請求項１記載の表面清浄剤／磨
   き剤組成物。 １４、一価アルコールがイソプロパノールである請求項
   １５記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １５、揮発性液体キャリヤーが、水と、炭素原子１〜５
   個を有する一価アルコールと、ミネラルスピリットとの
   混合物である請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物
   。 １６、揮発性液体キャリヤーが組成物の全重量を基準に
   して約５０重量％ないし約９５重量％の量において存在
   する請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １７、結晶性アルミノシリケートがゼオライトＡである
   請求項記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １８、結晶性アルミノシリケートがゼオライトＸである
   請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 １９、結晶性アルミノシリケートがゼオライトＹである
   請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２０、結晶性アルミノシリケートがゼオライトＰである
   請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２１、結晶性アルミノシリケートがゼオライト１３Ｘで
   ある請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２２、結晶性アルミノシリケートがゼオライト４Ａであ
   る請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２３、結晶性アルミノシリケートが組成物の全重量を基
   準にして約０．１重量％ないし約３０重量％の量におい
   て存在する請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２４、結晶性アミノシリケートが組成物の全重量を基準
   にして約０．５重量％ないし約２０重量％の量において
   存在する請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２５、更に界面活性剤を包含する請求項１記載の表面清
   浄剤／磨き剤組成物。 ２６、更に増粘剤又は懸濁助剤を包含する請求項１記載
   の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ２７、更に香料を包含する請求項１記載の表面清浄剤／
   磨き剤組成物。 ２８、更にアンモニウムを包含する請求項１記載の表面
   清浄剤／磨き剤組成物。 ２９、約７０重量％ないし約８０重量％の量における水
   と、約５重量％ないし約１５重量％の量におけるイソプ
   ロパノールと、約１重量％ないし約１０重量％の量にお
   けるミネラルスピリットと、約５重量％ないし約１５重
   量％の量におけるゼオライト１３Ｘと、約０．１０重量
   ％ないし約０．２０重量％の量におけるテルギトールＮ
   Ｐ−９（商標）と、約０．１５重量％ないし約０．２０
   重量％の量におけるカルボボール９３４（商標）と、約
   ０．１０重量％ないし約０．２０重量％の量における香
   料とを包含し、ここに前記重量％は組成物の全重量を基
   準とするものである請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤
   組成物。 ３０、硬質表面清浄剤である請求項１記載の表面清浄剤
   ／磨き剤組成物。 ３１、ガラス清浄剤である請求項１記載の表面清浄剤／
   磨き剤組成物。 ３２、窓清浄剤及び防曇剤である請求項１記載の表面清
   浄剤／磨き剤組成物。 ３３、非塗装表面に対する研摩助剤である請求項１記載
   の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ３４、請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物を硬質
   表面に塗布し、次いで前記組成物をふき取ることを包含
   して成る硬質表面の清浄方法。 ３５、請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物をガラ
   スに塗布し、次いで前記組成物をふき取ることを包含し
   て成るガラスの清浄方法。 ３６、請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物を窓に
   塗布し、次いで前記組成物をふき取ることを包含して成
   る窓の清浄方法。 ３７、請求項１記載の表面清浄剤／磨き剤組成物を非塗
   装表面に塗布し、次いで前記組成物をふき取ることを包
   含して成る非塗装表面の研摩方法。 ３８、（ｉ）水、炭素原子１〜５個を有する一価アルコ
   ール及びそれらの混合物から選択される揮発性液体キャ
   リヤーと、（ｉｉ）ゼオライトＡ、ゼオライトＸ、ゼオ
   ライトＹ、ゼオライトＰ及びそれらの混合物から選択さ
   れる結晶性アルミノシリケートとを含有する表面清浄剤
   ／磨き剤組成物において、結晶性アルミノシリケートと
   して（ａ）高められた湿潤性を与え、（ｂ）高められた
   分散安定性を与え、（ｃ）高められた防曇性を与え、（
   ｄ）残留フイルミングを減少させ、もしくは排除し、か
   つ／又は（ｅ）表面除去中におけるダストを減少させ、
   もしくは排除する、のに十分な粒度分布を有する結晶性
   アルミノシリケートを使用することを包含して成る、改
   良された前記組成物。 ３９、結晶性アルミノシリケートをエアミルにかける請
   求項３８記載の表面清浄剤／磨き剤組成物。 ４０、（ｉ）増粘剤又は懸濁助剤を水中に溶解させ；（
   ｉｉ）ゼオライトＡ、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、ゼ
   オライトＰ及びそれらの混合物から選択される結晶性ア
   ルミノシリケートを、前記（ｉ）中において混合し、こ
   の場合前記結晶性アルミノシリケートは（ａ）高められ
   た湿潤性を与え、（ｂ）高められた分散安定性を与え、
   （ｃ）高められた防曇性を与え、（ｄ）残留フイルミン
   グを減少させ、もしくは排除し、かつ／又は（ｅ）表面
   除去中におけるダストを減少させ、もしくは排除する、
   のに十分な粒度分布を有するものとし； （ｉｉｉ）一価アルコールを前記（ｉｉ）中において混
   合し；次いで （ｉｖ）一価アルコール、石油留出物及び界面活性剤を
   前記（ｉｉｉ）中において一緒に混合する、ことを包含
   して成る表面清浄剤／磨き剤組成物の製造方法。 ４１、請求項４０記載の方法によつて製造される表面清
   浄剤／磨き剤組成物。