JPH02101199A - 電極の洗浄方法 - Google Patents
電極の洗浄方法Info
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- JPH02101199A JPH02101199A JP25291688A JP25291688A JPH02101199A JP H02101199 A JPH02101199 A JP H02101199A JP 25291688 A JP25291688 A JP 25291688A JP 25291688 A JP25291688 A JP 25291688A JP H02101199 A JPH02101199 A JP H02101199A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電極の洗浄方法に関し、詳しくは電極、特に所
謂ミセル電解法において対極として用いた電極を効率よ
くかつ効果的に洗浄することのできる方法に関する。
謂ミセル電解法において対極として用いた電極を効率よ
くかつ効果的に洗浄することのできる方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題］一般に
、カラーフィルター、液晶表示材料、撮像素子等は電極
を使用する電気的処理が行われ、その際電極の汚れが問
題となっている。特にミセル電解法（特願昭６２−７５
９３０号明細書等参照）により複数の電極に薄膜を次々
と形成する場合、電極（対極として用いたもの及び未だ
通電していないもの）の汚れは、次にこの電極上に別の
薄膜を形成する際の障害となるため、完全に除去してお
くことが必要である。とりわけ、感光材料カラーフィル
ター、光電交換材料等の用途に供する薄膜を、電極上に
形成する場合、電極に汚れがあると得られる薄膜に不純
物が含まれ、その不純物が微量であっても、薄膜の性能
は著しく低下するため、上述の如き汚れは可能な限り除
去することが、高性能の薄膜を得る上で重要な条件とな
っている。
、カラーフィルター、液晶表示材料、撮像素子等は電極
を使用する電気的処理が行われ、その際電極の汚れが問
題となっている。特にミセル電解法（特願昭６２−７５
９３０号明細書等参照）により複数の電極に薄膜を次々
と形成する場合、電極（対極として用いたもの及び未だ
通電していないもの）の汚れは、次にこの電極上に別の
薄膜を形成する際の障害となるため、完全に除去してお
くことが必要である。とりわけ、感光材料カラーフィル
ター、光電交換材料等の用途に供する薄膜を、電極上に
形成する場合、電極に汚れがあると得られる薄膜に不純
物が含まれ、その不純物が微量であっても、薄膜の性能
は著しく低下するため、上述の如き汚れは可能な限り除
去することが、高性能の薄膜を得る上で重要な条件とな
っている。
しかし、通常行われている水や有ｊａ熔媒による洗浄で
は、■洗液が多量に必要である。■液体を流しながら洗
浄するため既に形成されている薄膜が損傷を受けるおそ
れがある。■洗浄不要な部分まで洗浄を受けるおそれが
あるなど様々な問題がある。
は、■洗液が多量に必要である。■液体を流しながら洗
浄するため既に形成されている薄膜が損傷を受けるおそ
れがある。■洗浄不要な部分まで洗浄を受けるおそれが
あるなど様々な問題がある。
そこで、本発明者は上記従来の洗浄法の問題点を解消し
、他に影響を及ぼすことな（、目的とする電極のみを効
果的に洗浄することのできる方法を開発すべく鋭意研究
を重ねた。
、他に影響を及ぼすことな（、目的とする電極のみを効
果的に洗浄することのできる方法を開発すべく鋭意研究
を重ねた。
その結果、洗浄対象である電極を洗浄液中で通電処理す
ることによって、上記課題が一挙に解決できることを見
出した。本発明はかかる知見に基いて完成したものであ
る。
ることによって、上記課題が一挙に解決できることを見
出した。本発明はかかる知見に基いて完成したものであ
る。
すなわち本発明は、水性媒体または有機溶媒中で、電極
を通電処理することを特徴とする電極の洗浄方法を提供
するものである。
を通電処理することを特徴とする電極の洗浄方法を提供
するものである。
本発明の方法では、洗浄すべき電極を洗浄液、即ち水性
媒体または有機溶媒に浸漬した状態で通電すればよい。
媒体または有機溶媒に浸漬した状態で通電すればよい。
この洗浄方法は、様々な使用態様によって汚染された電
極の洗浄に有効であるが、特にミセル電解法によって薄
膜を製造する場合に、対極として使用して汚れを生じた
電極の洗浄に効果的である。
極の洗浄に有効であるが、特にミセル電解法によって薄
膜を製造する場合に、対極として使用して汚れを生じた
電極の洗浄に効果的である。
このミセル電解法は、特願昭６２−７５９３０号明細書
等に詳細に記載されている通りであるが、ここでその概
略を説明すれば次の如くである。
等に詳細に記載されている通りであるが、ここでその概
略を説明すれば次の如くである。
まず、薄膜の構成材料である疎水性物質を、水性媒体中
でフェロセン誘導体よりなるミセル化剤にて可溶化し、
次に得られるミセル溶液を電解すれば、電極（即ち、導
電性基体）上に薄膜が形成されるのである。この操作は
、具体的には、電解槽にミセル化剤（濃度は限界ミセル
濃度基」−）支持塩ならびに疎水性物質を入れて、超音
波、ホモジナイザーあるいは撹拌機等により充分に分散
させてミセルを形成せしめ、その後必要に応じて過剰の
疎水性物質を除去し、得られたミセル溶液を静置したま
まあるいは若干の撹拌を加えながら上述の電極を用いて
電解処理する。また、電解処理中に疎水性物質をミセル
溶液に補充添加してもよく、あるいは陽極近傍のミセル
溶液を系外へ抜き出し、抜き出したミセル溶液に疎水性
物質を加えて充分に混合撹拌し、しかる後にこの液を陰
極近傍へ戻す循環回路を併設してもよい。この際の電解
条件は、各種状況に応じて適宜選定すればよいが、通常
は液温０〜７０°Ｃ１好ましくは２０〜３０°Ｃ１電圧
０．０３〜１．５■、好ましくは０．１〜０．５■とし
、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２以下、好ましくは５０〜３
００μＡ ／ ｃｒｎ ２とする。
でフェロセン誘導体よりなるミセル化剤にて可溶化し、
次に得られるミセル溶液を電解すれば、電極（即ち、導
電性基体）上に薄膜が形成されるのである。この操作は
、具体的には、電解槽にミセル化剤（濃度は限界ミセル
濃度基」−）支持塩ならびに疎水性物質を入れて、超音
波、ホモジナイザーあるいは撹拌機等により充分に分散
させてミセルを形成せしめ、その後必要に応じて過剰の
疎水性物質を除去し、得られたミセル溶液を静置したま
まあるいは若干の撹拌を加えながら上述の電極を用いて
電解処理する。また、電解処理中に疎水性物質をミセル
溶液に補充添加してもよく、あるいは陽極近傍のミセル
溶液を系外へ抜き出し、抜き出したミセル溶液に疎水性
物質を加えて充分に混合撹拌し、しかる後にこの液を陰
極近傍へ戻す循環回路を併設してもよい。この際の電解
条件は、各種状況に応じて適宜選定すればよいが、通常
は液温０〜７０°Ｃ１好ましくは２０〜３０°Ｃ１電圧
０．０３〜１．５■、好ましくは０．１〜０．５■とし
、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２以下、好ましくは５０〜３
００μＡ ／ ｃｒｎ ２とする。
この電解処理を行うと、フェロセン誘導体の酸化還元反
応が進行する。これをフェロセン誘導体中のＦｅイオン
の挙動に着目すると、陽極ではフェロセンのＦｅ”がＦ
ｅ３＋となって、ミセルが崩壊し、疎水性物質の粒子（
６００〜９００人程度）が陽極上に析出する。一方、陰
極では陽極で酸化されたＦｅ”がＦｅ２４に還元されて
もとのミセルに戻るので、繰返し同じ溶液で製膜操作を
行うことができる。
応が進行する。これをフェロセン誘導体中のＦｅイオン
の挙動に着目すると、陽極ではフェロセンのＦｅ”がＦ
ｅ３＋となって、ミセルが崩壊し、疎水性物質の粒子（
６００〜９００人程度）が陽極上に析出する。一方、陰
極では陽極で酸化されたＦｅ”がＦｅ２４に還元されて
もとのミセルに戻るので、繰返し同じ溶液で製膜操作を
行うことができる。
ここで、薄膜の材料である疎水性物質としては、有機物
質に限られず、無機物質でもよく、様々なものがある。
質に限られず、無機物質でもよく、様々なものがある。
例えば有機物質としては、フタロシアニン フタロシア
ニンの金属錯体およびこれらの誘導体、ナフタロシアニ
ン、ナフタロシアニンの金属錯体およびこれらの誘導体
、ポルフィリン。
ニンの金属錯体およびこれらの誘導体、ナフタロシアニ
ン、ナフタロシアニンの金属錯体およびこれらの誘導体
、ポルフィリン。
ポルフィリンの金属錯体およびこれらの誘導体などの光
メモリー用色素や有機色素をはじめ１，１ジヘプチル−
４，４″−ビピリジニウムジブロマイド、１，１″−ジ
ドデシル−４，４゛−ビピリジニウムジブロマイドなど
のエレクトロクロミック材料、６−ニトロ−１，３，３
−１−リメチルスピロー（２’Ｈ−１’−ベンゾビラン
−２，２゛−インドリン）（通称スピロピラン）などの
感光材料（フォトクロミック材料）や光センサー材料、
Ｐ−アゾキシアニソールなどの液晶表示用色素、更に「
カラーケミカル事典」株式会社シーエムシ、１９８８年
３月２８日発行の第５４２〜７１７頁に列挙されている
エレクトロニクス用色素、記録用色素、環境クロミズム
用色素、写真用色素。
メモリー用色素や有機色素をはじめ１，１ジヘプチル−
４，４″−ビピリジニウムジブロマイド、１，１″−ジ
ドデシル−４，４゛−ビピリジニウムジブロマイドなど
のエレクトロクロミック材料、６−ニトロ−１，３，３
−１−リメチルスピロー（２’Ｈ−１’−ベンゾビラン
−２，２゛−インドリン）（通称スピロピラン）などの
感光材料（フォトクロミック材料）や光センサー材料、
Ｐ−アゾキシアニソールなどの液晶表示用色素、更に「
カラーケミカル事典」株式会社シーエムシ、１９８８年
３月２８日発行の第５４２〜７１７頁に列挙されている
エレクトロニクス用色素、記録用色素、環境クロミズム
用色素、写真用色素。
エネルギー用色素、バイオメディカル用色素５食品・化
粧用色素、染料、顔料、特殊着色用色素のうちの疎水性
の化合物などがあげられる。また、７７８８−テトラシ
アノキノンジメタン（ＴＣＮＱ）とテトラチアフルバレ
ン（Ｔ Ｔ Ｆ ）との１：１錯体などの有機導電材料
やガスセンサー材料、ペンタエリスリトールジアクリレ
ートなどの光硬化性塗料、ステアリン酸などの絶縁材料
１−フェニルアゾ−２−ナフトールなどのジアゾタイプ
の感光材料や塗料等をあげることができる。
粧用色素、染料、顔料、特殊着色用色素のうちの疎水性
の化合物などがあげられる。また、７７８８−テトラシ
アノキノンジメタン（ＴＣＮＱ）とテトラチアフルバレ
ン（Ｔ Ｔ Ｆ ）との１：１錯体などの有機導電材料
やガスセンサー材料、ペンタエリスリトールジアクリレ
ートなどの光硬化性塗料、ステアリン酸などの絶縁材料
１−フェニルアゾ−２−ナフトールなどのジアゾタイプ
の感光材料や塗料等をあげることができる。
さらには、水に不溶性のポリマー、例えばポリカーボネ
ートポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リアミド、ポリフェニレンサルファイド（Ｐ Ｐ Ｓ）
、ポリフェニレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリアクリロ
ニトリル（ＰＡＮ）などの汎用ポリマー、またポリフェ
ニレン、ポリピロール ポリアニリン、ポリチオフェン
、アセチルセルロース、ポリビニルアセテート５ポリビ
ニルフチラールをはじめ、各種各様のポリマー（ポリビ
ニルピリ□ジンなど）あるいはコポリマー（メタクリル
酸メチルとメタクリル酸とのコポリマーなど）をあげる
ことができる。
ートポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リアミド、ポリフェニレンサルファイド（Ｐ Ｐ Ｓ）
、ポリフェニレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリアクリロ
ニトリル（ＰＡＮ）などの汎用ポリマー、またポリフェ
ニレン、ポリピロール ポリアニリン、ポリチオフェン
、アセチルセルロース、ポリビニルアセテート５ポリビ
ニルフチラールをはじめ、各種各様のポリマー（ポリビ
ニルピリ□ジンなど）あるいはコポリマー（メタクリル
酸メチルとメタクリル酸とのコポリマーなど）をあげる
ことができる。
また、無機物質としては、Ｔｉ０ｚ、Ｃ，ＣｄＳ。
Ｗ Ｏ３１Ｆ ｅ ｚ ０３＋ Ｙ ２０３ Ｚ ｒ
０２ 、 Ａ Ｉ ｚ Ｏ３，Ｃｕ Ｓ 。
０２ 、 Ａ Ｉ ｚ Ｏ３，Ｃｕ Ｓ 。
ＺｎＳ、Ｔｅ０ｚ、ＬｉＮｂ０ｚ、Ｓｉ３Ｎ４など、さ
らには各種の超電導酸化物など各種各様のものがある。
らには各種の超電導酸化物など各種各様のものがある。
また、このミセル電解法で使用するミセル化剤であるフ
ェロセン誘導体としては、例えば特願昭６３−１４７９
５９号明細書に列挙されている公知の化合物及び新規な
化合物をはじめ、様々なものをあげることができ、薄膜
形成材料の種類に応じて、適宜選定すればよい。
ェロセン誘導体としては、例えば特願昭６３−１４７９
５９号明細書に列挙されている公知の化合物及び新規な
化合物をはじめ、様々なものをあげることができ、薄膜
形成材料の種類に応じて、適宜選定すればよい。
このような電解処理により、陽極上には所望する疎水性
物質の６００〜９００人程度の粒子による薄膜が形成さ
れる。
物質の６００〜９００人程度の粒子による薄膜が形成さ
れる。
また、このミセル電解法で用いる電極は、フェロセンの
酸化電位（＋０．１５ Ｖ対飽和甘コウ電極）より責な
金属もしくは導電体であればよい。具体的にはＩＴＯ（
酸化インジウムと酸化スズとの混合酸化物）、白金、金
、銀、グラジ−カーボン、導電性金属酸化物、有機ポリ
マー導電体などがあげられる。
酸化電位（＋０．１５ Ｖ対飽和甘コウ電極）より責な
金属もしくは導電体であればよい。具体的にはＩＴＯ（
酸化インジウムと酸化スズとの混合酸化物）、白金、金
、銀、グラジ−カーボン、導電性金属酸化物、有機ポリ
マー導電体などがあげられる。
ここで、例えば第１図に示す如きＩＴＯパターンに各種
色調の薄膜を形成する場合、まず、部分Ａを陽極１部分
Ｂを陰極（対極）として（第１図（ａ）参照）赤色色素
を薄膜材料に用いてミセル電解法を行えば、部分Ａに赤
色薄膜（Ｒ）が形成される。一方、陰極（対極）である
部分Ｂには、この赤色色素が付着して汚れ１が生ずる。
色調の薄膜を形成する場合、まず、部分Ａを陽極１部分
Ｂを陰極（対極）として（第１図（ａ）参照）赤色色素
を薄膜材料に用いてミセル電解法を行えば、部分Ａに赤
色薄膜（Ｒ）が形成される。一方、陰極（対極）である
部分Ｂには、この赤色色素が付着して汚れ１が生ずる。
なお、このＩＴＯパターンに、上記部分Ａの薄膜形成時
に通電していない部分Ｃ（図示せず）がある場合には、
この部分Ｃにも同様に汚れが生ずる。
に通電していない部分Ｃ（図示せず）がある場合には、
この部分Ｃにも同様に汚れが生ずる。
本発明の洗浄方法によれば、上記ＩＴＯパターンを、水
をはじめとする水性媒体や有機溶媒中に入れ、上記部分
Ｂを電極として通電処理すれば、汚れ１は洗浄され、し
かも部分Ａの赤色薄膜は、何ら損傷を受けることがない
（第１図（ｂ）参照）。
をはじめとする水性媒体や有機溶媒中に入れ、上記部分
Ｂを電極として通電処理すれば、汚れ１は洗浄され、し
かも部分Ａの赤色薄膜は、何ら損傷を受けることがない
（第１図（ｂ）参照）。
また、上述した部分Ｃについても、薄膜を形成するに先
立って、本発明の洗浄方法を適用して洗浄しておけば、
汚れのない薄膜を得ることができる。
立って、本発明の洗浄方法を適用して洗浄しておけば、
汚れのない薄膜を得ることができる。
この際、使用可能な水性媒体や有機溶媒は、炭酸プロピ
レンをはしめ、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（
ＴＩ（Ｆ）、 ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）メタノール、エタノー
ル、水など、さらにはこれらの混合液などをあげること
ができるが、特にこれらに限定されることなく、各種の
状況に応じて適宜選定すればよい。また、この水性媒体
や有機溶媒には、必要に応じてＬｉＢｒをはじめ、ＴＭ
Ａ−ＢＦ、（ＴＭＡはテトラメチルアミンを示す、）Ｔ
ＭＡ−ＣＩ！、Ｏ，、ＴＢＡ−ＢＦ４（ＴＢＡはテトラ
ブチルアミンを示す−）、ＬｉＢ Ｆ４＋ ＬｉＣ４２
０ａ。
レンをはしめ、アセトニトリル、テトラヒドロフラン（
ＴＩ（Ｆ）、 ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジ
メチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）メタノール、エタノー
ル、水など、さらにはこれらの混合液などをあげること
ができるが、特にこれらに限定されることなく、各種の
状況に応じて適宜選定すればよい。また、この水性媒体
や有機溶媒には、必要に応じてＬｉＢｒをはじめ、ＴＭ
Ａ−ＢＦ、（ＴＭＡはテトラメチルアミンを示す、）Ｔ
ＭＡ−ＣＩ！、Ｏ，、ＴＢＡ−ＢＦ４（ＴＢＡはテトラ
ブチルアミンを示す−）、ＬｉＢ Ｆ４＋ ＬｉＣ４２
０ａ。
ＫＢＦ、などの支持塩を加えることも有効である。
さらに、上記洗浄すべき電極である部分Ｂに印加する電
圧は、特に制限はないが、負電圧あるいは負電圧を含む
電圧波形が好ましく、特に０〜−２．０■の範囲で適宜
選定すればよい。なお、使用できる電圧波形は、様々で
あるが、直流、三角波、パルス、正弦波等があげられる
。また、上記部分Ｂの通電処理にあたっては、対極に薄
膜の形成されている部分Ａを用いてもよく、あるいは他
の電極を用いてもよい。
圧は、特に制限はないが、負電圧あるいは負電圧を含む
電圧波形が好ましく、特に０〜−２．０■の範囲で適宜
選定すればよい。なお、使用できる電圧波形は、様々で
あるが、直流、三角波、パルス、正弦波等があげられる
。また、上記部分Ｂの通電処理にあたっては、対極に薄
膜の形成されている部分Ａを用いてもよく、あるいは他
の電極を用いてもよい。
上述の部分Ｂの洗浄処理後、この部分Ｂを陽極として、
緑色色素等の薄膜材料を用いてミセル電解法を繰り返せ
ば、部分Ｂに緑色薄膜（Ｇ）が形成される（第１図（ｃ
、）参照）。
緑色色素等の薄膜材料を用いてミセル電解法を繰り返せ
ば、部分Ｂに緑色薄膜（Ｇ）が形成される（第１図（ｃ
、）参照）。
このようにミセル電解法による薄膜形成と本発明の洗浄
方法を繰り返すことによって、部分ＣＤ、Ｅ・・・に高
純度かつ高品質で、しかも異なる種類の薄膜を順次形成
することができる。具体的には、部分Ｂを陽極としてミ
セル電解法を行う場合には、部分Ｃあるいは他の部分を
陰極（対極）として用い、部分Ｃを陽極としてミセル電
解法を行う場合には、部分りあるいは他の部分を陰極（
対極）として用いるという手順を繰り返すことによって
、所望する不純物を含有しない高純度の薄膜を次々と形
成することができる。なお、この場合、白金電極などを
独立に用い、これを繰返し行うミセル電解法において常
に対極として使用してもよい。
方法を繰り返すことによって、部分ＣＤ、Ｅ・・・に高
純度かつ高品質で、しかも異なる種類の薄膜を順次形成
することができる。具体的には、部分Ｂを陽極としてミ
セル電解法を行う場合には、部分Ｃあるいは他の部分を
陰極（対極）として用い、部分Ｃを陽極としてミセル電
解法を行う場合には、部分りあるいは他の部分を陰極（
対極）として用いるという手順を繰り返すことによって
、所望する不純物を含有しない高純度の薄膜を次々と形
成することができる。なお、この場合、白金電極などを
独立に用い、これを繰返し行うミセル電解法において常
に対極として使用してもよい。
［実施例〕
次に本発明を実施例及び比較例によりさらに詳しく説明
する。
する。
製造例１
１９０■を加え、攪拌して均一なミセル溶液を調製した
。このミセル溶液５０ｃｃにフタロシアニンを０，２ｇ
加えて、超音波で１ｏ分間撹拌した後、スターラーで３
日間攪拌した。この可溶化ミセル溶液を１日自然沈降さ
せ、上澄液を採取した。
。このミセル溶液５０ｃｃにフタロシアニンを０，２ｇ
加えて、超音波で１ｏ分間撹拌した後、スターラーで３
日間攪拌した。この可溶化ミセル溶液を１日自然沈降さ
せ、上澄液を採取した。
この上澄液に、０．１０４ ｇのＬｉＢｒを加え、０．
２Ｍ ＬｉＢｒ／２ｍＭ Ｆ ＰＥＧ／４． Ｉ ｍＭ
フタロシアニン溶液を得た。これを電解液として、第２
図に示すＩＴＯパターンの部分Ａを陽極３部分Ｂを陰極
、飽和甘コウ電極を参照電極として、２５°Ｃで、印加
電圧０．５Ｖ、電流密度１７．２μＡ／ ｃＡの定電位
電解を３０分間行った。その結果、部分Ａにフタロシア
ニン薄膜が形成されるとともに、部分Ｂ（陰極）にフタ
ロシアニンにょるｌηれ１が生ずることを、実体顕微鏡
によりｉ１１認した。
２Ｍ ＬｉＢｒ／２ｍＭ Ｆ ＰＥＧ／４． Ｉ ｍＭ
フタロシアニン溶液を得た。これを電解液として、第２
図に示すＩＴＯパターンの部分Ａを陽極３部分Ｂを陰極
、飽和甘コウ電極を参照電極として、２５°Ｃで、印加
電圧０．５Ｖ、電流密度１７．２μＡ／ ｃＡの定電位
電解を３０分間行った。その結果、部分Ａにフタロシア
ニン薄膜が形成されるとともに、部分Ｂ（陰極）にフタ
ロシアニンにょるｌηれ１が生ずることを、実体顕微鏡
によりｉ１１認した。
実施例１
上記製造例１で製造した部分Ａにフタロシアニン薄膜が
形成されたＩＴＯパターンを、０．１ ＭＩｊＢｒ水溶
液中に入れ、＋ｏ、ａｖの範囲、１００ｍＶ／秒の速度
で掃引を繰り返した。その結果、実体顕微鏡で部分Ｂに
はフタロシアニンが存在しないことが確認され、付着し
ていたフタロシアニンによる汚れ１が洗浄除去されたこ
とがわかった。
形成されたＩＴＯパターンを、０．１ ＭＩｊＢｒ水溶
液中に入れ、＋ｏ、ａｖの範囲、１００ｍＶ／秒の速度
で掃引を繰り返した。その結果、実体顕微鏡で部分Ｂに
はフタロシアニンが存在しないことが確認され、付着し
ていたフタロシアニンによる汚れ１が洗浄除去されたこ
とがわかった。
実施例２
上記製造例１で製造した部分Ａにフタロシアニン薄膜が
形成されたＩＴＯパターンを、０．１ Ｍテトラブチル
アンモニウム−四フフ化ホウ素のプロピレンカーボネー
ト溶液に入れたこと以外は、実施例１と同様の操作を行
った。
形成されたＩＴＯパターンを、０．１ Ｍテトラブチル
アンモニウム−四フフ化ホウ素のプロピレンカーボネー
ト溶液に入れたこと以外は、実施例１と同様の操作を行
った。
その結果、実体顕微鏡で部分Ｂにはフタロシアニンが存
在しないことが確認され、付着していたフタロシアニン
による汚れ１が洗浄除去されたことがわかった。
在しないことが確認され、付着していたフタロシアニン
による汚れ１が洗浄除去されたことがわかった。
また、この際の電流電位曲線を第３図に示す。
このように、負電位でフタロシアニンが溶解除去される
ことがわかる。
ことがわかる。
実施例３
上記製造例１で製造した部分Ａにフタロシアニン薄膜が
形成されたＩＴＯパターンを、実施例２と同じ溶液に入
れ、部分Ｂを作動棒１部分Ａを対極、飽和甘コウ電極を
参照電極として、部分Ｂの作動棒が−０，８Ｖとなるよ
うに電位を印加した。
形成されたＩＴＯパターンを、実施例２と同じ溶液に入
れ、部分Ｂを作動棒１部分Ａを対極、飽和甘コウ電極を
参照電極として、部分Ｂの作動棒が−０，８Ｖとなるよ
うに電位を印加した。
その結果、部分Ｂに付着していたフタロシアニンのみが
溶解し、部分へのフタロシアニン薄膜には何ら変化がな
いことが、実体顕微鏡観察で確認された。
溶解し、部分へのフタロシアニン薄膜には何ら変化がな
いことが、実体顕微鏡観察で確認された。
実施例４
溶液を０．１Ｍテトラメチルアンモニウム−四フッ化ホ
ウ素のアセトニトリル溶液に変えたこと以外は、実施例
３と同様の操作を行った。
ウ素のアセトニトリル溶液に変えたこと以外は、実施例
３と同様の操作を行った。
その結果、部分Ａのフタロシアニン薄膜を傷つけること
なく、部分Ｂのフタロシアニンを洗浄できることを、実
体顕微鏡観察で確認した。
なく、部分Ｂのフタロシアニンを洗浄できることを、実
体顕微鏡観察で確認した。
比較例１
上記製造例１で製造した部分Ａにフタロシアニン薄膜が
形成されたＩＴ○パターンを、水１０００ｃｃの入った
水槽内で、スターシーで攪拌しながら１０分間洗浄を行
い、その後メタノール５００ｃｃの入った槽内で、スタ
ーシーで攪拌しながら１０分間洗浄を行った。
形成されたＩＴ○パターンを、水１０００ｃｃの入った
水槽内で、スターシーで攪拌しながら１０分間洗浄を行
い、その後メタノール５００ｃｃの入った槽内で、スタ
ーシーで攪拌しながら１０分間洗浄を行った。
しかし、製造例１で観察した部分Ｂ上のフタロシアニン
による汚れは、そのまま残存し、はとんど洗浄されてい
なかった。
による汚れは、そのまま残存し、はとんど洗浄されてい
なかった。
本発明の方法によれば、目的とする電極のみを効率よく
洗浄することができ、他の電極などに形成されている薄
膜等に悪影響を及ばずことがない。
洗浄することができ、他の電極などに形成されている薄
膜等に悪影響を及ばずことがない。
したがって、本発明の洗浄方法とミセル電解法をはしめ
とする各種の電気的処理を組み合わせて行えば、不純物
を含有しない高品質の光電変換材料、カラーフィルター
（ＲＧＢ）、感光材料、太陽電池等を製造することがで
きる。
とする各種の電気的処理を組み合わせて行えば、不純物
を含有しない高品質の光電変換材料、カラーフィルター
（ＲＧＢ）、感光材料、太陽電池等を製造することがで
きる。
第１図（ａ）、 （ｂ）、 （Ｃ）は、ＩＴＯパターン
に薄膜の形成と洗浄を行う手順を示す説明図である。ま
た第２図は、製造例１で用いたＩＴＯパターンの概略図
である。第３図は、実施例２で使用した電流電位曲線で
ある。
に薄膜の形成と洗浄を行う手順を示す説明図である。ま
た第２図は、製造例１で用いたＩＴＯパターンの概略図
である。第３図は、実施例２で使用した電流電位曲線で
ある。
Claims (3)
- （１）水性媒体または有機溶媒中で、電極を通電処理す
ることを特徴とする電極の洗浄方法。 - （２）疎水性物質を水性媒体中でフェロセン誘導体より
なるミセル化剤にて可溶化し、得られるミセル溶液を電
解して前記疎水性物質の薄膜を電極上に形成する際に対
極として用いた電極を、通電処理することを特徴とする
請求項１記載の洗浄方法。 - （３）電極の通電処理にあたり、該電極に負電圧あるい
は負電圧を含む電圧波形を印加することを特徴とする請
求項１あるいは２記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25291688A JPH02101199A (ja) | 1988-10-08 | 1988-10-08 | 電極の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25291688A JPH02101199A (ja) | 1988-10-08 | 1988-10-08 | 電極の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02101199A true JPH02101199A (ja) | 1990-04-12 |
Family
ID=17243953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25291688A Pending JPH02101199A (ja) | 1988-10-08 | 1988-10-08 | 電極の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02101199A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS602684A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-08 | Permelec Electrode Ltd | 不溶性電極の再活性化方法 |
-
1988
- 1988-10-08 JP JP25291688A patent/JPH02101199A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS602684A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-08 | Permelec Electrode Ltd | 不溶性電極の再活性化方法 |
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