JPH02104688A - Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法 - Google Patents
Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、リードフレーム材、磁性材料等に用いられる
Fe−Ni合金箔を電解によって製造するためのFe−
Ni合金電解析出方法に関する。
Fe−Ni合金箔を電解によって製造するためのFe−
Ni合金電解析出方法に関する。
(従来技術の問題点)
42%Ni−Fe合金をはじめとするFe−Ni合金は
それが有する物理的特性のためリードフレーム材、磁性
材料等に用いられている。最近では、従来用いてきた材
料よりさらに薄いFe−Ni合金箔が望まれ、今後これ
らの合金箔の需要はさらに拡大するものと考えられる。
それが有する物理的特性のためリードフレーム材、磁性
材料等に用いられている。最近では、従来用いてきた材
料よりさらに薄いFe−Ni合金箔が望まれ、今後これ
らの合金箔の需要はさらに拡大するものと考えられる。
従来Fe−Ni合金箔の製造方法には、(1)目的の化
学組成を有する合金を圧延により板厚を減少させ目的と
する箔を得る方法、 (2)Fe−Ni合金を電解法に
より陰極面に析出させた後これを剥にする方法とがあっ
た。
学組成を有する合金を圧延により板厚を減少させ目的と
する箔を得る方法、 (2)Fe−Ni合金を電解法に
より陰極面に析出させた後これを剥にする方法とがあっ
た。
圧延によりFe−Ni合金箔を製造する場合、圧延によ
り材料は加工硬化し、目的とする板厚を得るためには焼
鈍により材料を軟化しなければならない。そのため箔の
製造は極めて困難となり、コスト高の原因となる。また
、圧延法による合金箔は、金属組織が圧延方向に成長す
るため磁気特性に劣る。
り材料は加工硬化し、目的とする板厚を得るためには焼
鈍により材料を軟化しなければならない。そのため箔の
製造は極めて困難となり、コスト高の原因となる。また
、圧延法による合金箔は、金属組織が圧延方向に成長す
るため磁気特性に劣る。
一方、電解法によりFe−Ni合金箔を製造する場合
pe2 +、N x 24pを含む電解液を用い目的と
する合金組成を有する電着層を得なければならない。従
来より磁性めっき、装飾めっきとして普通鋼等にFe−
Ni合金をめっきする方法はあった。しかし、これらの
電解液ではFe含有量10%未満の合金しか得られず磁
気的性質に優れる42%Ni−Fe合金は得られない。
pe2 +、N x 24pを含む電解液を用い目的と
する合金組成を有する電着層を得なければならない。従
来より磁性めっき、装飾めっきとして普通鋼等にFe−
Ni合金をめっきする方法はあった。しかし、これらの
電解液ではFe含有量10%未満の合金しか得られず磁
気的性質に優れる42%Ni−Fe合金は得られない。
また電解条件によって析出組成および材料の特性が異な
る。この電解液より得られる電着層は内部応力が高く合
金箔を形成しにくい。さらに従来より用いられる電解液
は酸化が起こり浴の管理が難しい。
る。この電解液より得られる電着層は内部応力が高く合
金箔を形成しにくい。さらに従来より用いられる電解液
は酸化が起こり浴の管理が難しい。
本発明は、Fe −Ni合金箔を上記の問題点を解決し
て製造できるFe −Ni合金電解析出方法を提供する
ことを目的とする。
て製造できるFe −Ni合金電解析出方法を提供する
ことを目的とする。
(問題解決に関する知見)
発明者は、金属箔の特性を考えた場合、圧延による方法
は圧延による集合組織により磁気特性が劣るが、電解析
出による方法は、結晶粒の微細化により、磁気特性が優
れ、また電解箔の方が圧延箔に比較しより薄い材料を低
コストで製造可能であることから、Fe −Ni合金箔
を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法を検討し
た。
は圧延による集合組織により磁気特性が劣るが、電解析
出による方法は、結晶粒の微細化により、磁気特性が優
れ、また電解箔の方が圧延箔に比較しより薄い材料を低
コストで製造可能であることから、Fe −Ni合金箔
を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法を検討し
た。
その結果、電解析出層の内部応力を減少する方法として
は、電解液に応力除去剤を添加すればよく、またFe−
Ni合金電解液中のFe2ゝイオンの酸化を防止するた
めには酸化防止剤(還元剤)を添加すればよいこと、浴
中のFe”+イオンの酸化を防止するためには、可溶性
陽極の使用が不可欠であることを知見した。さらに電解
析出するFe −Ni合金の組成を自由に制御するため
の電解液の組成及びpH1陰極電流密度(OK)、 I
!電解液温度に関しても検討し、この目的を達するため
の電解液の組成、電解条件を見出した。
は、電解液に応力除去剤を添加すればよく、またFe−
Ni合金電解液中のFe2ゝイオンの酸化を防止するた
めには酸化防止剤(還元剤)を添加すればよいこと、浴
中のFe”+イオンの酸化を防止するためには、可溶性
陽極の使用が不可欠であることを知見した。さらに電解
析出するFe −Ni合金の組成を自由に制御するため
の電解液の組成及びpH1陰極電流密度(OK)、 I
!電解液温度に関しても検討し、この目的を達するため
の電解液の組成、電解条件を見出した。
(発明の構成)
上記目的は、不動態皮膜を有する陰極上にFe−Ni合
金を電解析出させ、得られた合金箔を陰極面より剥離す
る方法によるFe −Ni合金電解箔を製造する方法に
おいて: 電解液中のFe源としてFeの硫酸塩、Ni源としてN
iのスルファミン酸塩を用い、Feイオン濃度は1〜6
0g/l、Niイオン濃度は1〜60gIQとし、目的
とするFe −Ni合金の組成によりその濃度を変化さ
せた電解液を用いて、電着応力緩和剤としてラウリル基
、スルフォンイミド基を有する化合物及び電解液酸化防
止剤としてヒドロキシル基、アミノ基を有する化合物を
目的に応じ適量(0,1〜5g/l)添加し、電解液の
pHを1.5〜3.5に維持するため緩衝剤としてほう
酸を添加し、可溶性陽極を用いて7陰横電流密度25〜
40A/dイ、電解液温度50〜60℃でFa−Ni合
金を、陰極上に電解析出する方法によって達成される。
金を電解析出させ、得られた合金箔を陰極面より剥離す
る方法によるFe −Ni合金電解箔を製造する方法に
おいて: 電解液中のFe源としてFeの硫酸塩、Ni源としてN
iのスルファミン酸塩を用い、Feイオン濃度は1〜6
0g/l、Niイオン濃度は1〜60gIQとし、目的
とするFe −Ni合金の組成によりその濃度を変化さ
せた電解液を用いて、電着応力緩和剤としてラウリル基
、スルフォンイミド基を有する化合物及び電解液酸化防
止剤としてヒドロキシル基、アミノ基を有する化合物を
目的に応じ適量(0,1〜5g/l)添加し、電解液の
pHを1.5〜3.5に維持するため緩衝剤としてほう
酸を添加し、可溶性陽極を用いて7陰横電流密度25〜
40A/dイ、電解液温度50〜60℃でFa−Ni合
金を、陰極上に電解析出する方法によって達成される。
(発明の具体的開示)
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
Fe −Ni合金電解液のFe源としてFeの硫酸塩を
用い、Ni源としてNiのスルファミン酸塩を用いる。
用い、Ni源としてNiのスルファミン酸塩を用いる。
Fe源としては硫酸塩を使用するのがよく、Fe源とし
てスルファミン酸塩を用いると、スルファミン酸鉄の溶
解度が小さいためFe源としては不適当である。またF
e源として塩化物等その他の塩を使用した場合、電解析
出した電解析出層の内部応力は高く、脆い電解析出層し
か得られない。Ni源としてNiのスルファミン酸塩を
用いるのはNiの電着応力を緩和させるためである。ス
ルファミン酸塩が陰極で還元されて亜硫酸イオンとなり
、そのイオンがさらに還元されて、硫化物として金属中
に組み込まれて共析することにより電着応力が緩和され
るものと考えられる。Ni源として塩化物、硫酸液およ
びその他の塩を使用した場合、電解析出した電着層の内
部応力は高く、脆い電着層しか得られず、電解箔とはな
りにくい。Fe源として硫酸塩、N1源としてスルファ
ミン酸塩を使用することにより比較的内部応力の低いF
e −Ni合金電解析出層を得ることができる。
てスルファミン酸塩を用いると、スルファミン酸鉄の溶
解度が小さいためFe源としては不適当である。またF
e源として塩化物等その他の塩を使用した場合、電解析
出した電解析出層の内部応力は高く、脆い電解析出層し
か得られない。Ni源としてNiのスルファミン酸塩を
用いるのはNiの電着応力を緩和させるためである。ス
ルファミン酸塩が陰極で還元されて亜硫酸イオンとなり
、そのイオンがさらに還元されて、硫化物として金属中
に組み込まれて共析することにより電着応力が緩和され
るものと考えられる。Ni源として塩化物、硫酸液およ
びその他の塩を使用した場合、電解析出した電着層の内
部応力は高く、脆い電着層しか得られず、電解箔とはな
りにくい。Fe源として硫酸塩、N1源としてスルファ
ミン酸塩を使用することにより比較的内部応力の低いF
e −Ni合金電解析出層を得ることができる。
上記Feイオン濃度は1〜60gIn、 Niイオン濃
度は1〜60gInとし、目的とする合金の組成により
その濃度を変化させる。金属イオン濃度に対する析出金
属の組成を第1図に示す。図に示されるようにFe源と
して硫酸塩、Ni源としてスルファミン酸塩を使用した
Fe −Ni合金電解液から全組成範囲のFe−Ni合
金を電解析出させることが可能である。
度は1〜60gInとし、目的とする合金の組成により
その濃度を変化させる。金属イオン濃度に対する析出金
属の組成を第1図に示す。図に示されるようにFe源と
して硫酸塩、Ni源としてスルファミン酸塩を使用した
Fe −Ni合金電解液から全組成範囲のFe−Ni合
金を電解析出させることが可能である。
従って、必要な組成の合金を得るためには第1図にもと
づいて電解液の組成を決定すればよい。
づいて電解液の組成を決定すればよい。
本発明における電解液には応力緩和および浴酸化防止の
ために数種の添加剤を用いる。その添加剤として電着応
力を緩和し、かつ均一電着性を高めるためにラウリル基
を有するラウリル硫酸ナトリウム、スルフォンイミド基
を有するサッカリンナトリウムを用いる。また、 Fe
酸化防止剤としてヒドロキシル基およびアミノ基を有す
る硫酸ヒドロキシルアミンを用いる。これらの錯化剤は
金属イオン濃度にかかわらず目的に応し一定量(0,I
g/l〜5gIQ)を添加する。なお本発明においては
ラウリル基、スルフォン基、ヒドロキシル基、アミノ基
を有する錯化剤としてラウリル硫酸ナトリウム、サッカ
リンナトリウム、硫酸ヒドロキシルアミンを用いている
がその他にもそれらの基を有する錯化剤であればFe
−Ni@解液の添加剤として有効である。その例として
パラトルエン、スルフオン酸ソーダ、アミノベンゼンス
ルフォン酸、ロッセル塩、クマリン、クエン酸アンモニ
ウム、オキシカルボン酸、グルコン酸ナトリウム、ヒド
ロキシカルボキシレート、マンニトールがある。
ために数種の添加剤を用いる。その添加剤として電着応
力を緩和し、かつ均一電着性を高めるためにラウリル基
を有するラウリル硫酸ナトリウム、スルフォンイミド基
を有するサッカリンナトリウムを用いる。また、 Fe
酸化防止剤としてヒドロキシル基およびアミノ基を有す
る硫酸ヒドロキシルアミンを用いる。これらの錯化剤は
金属イオン濃度にかかわらず目的に応し一定量(0,I
g/l〜5gIQ)を添加する。なお本発明においては
ラウリル基、スルフォン基、ヒドロキシル基、アミノ基
を有する錯化剤としてラウリル硫酸ナトリウム、サッカ
リンナトリウム、硫酸ヒドロキシルアミンを用いている
がその他にもそれらの基を有する錯化剤であればFe
−Ni@解液の添加剤として有効である。その例として
パラトルエン、スルフオン酸ソーダ、アミノベンゼンス
ルフォン酸、ロッセル塩、クマリン、クエン酸アンモニ
ウム、オキシカルボン酸、グルコン酸ナトリウム、ヒド
ロキシカルボキシレート、マンニトールがある。
また本発明における電解液のpHを1.5〜3.5に維
持す°るため緩衝剤としてほう酸を添加する。電解液の
pHが1,5より低い場合電流効率の低下を招き陰極(
ステンレス鋼等)と電着金属との密着性が増し、電解箔
として剥離し難くなる。一方、電解液のpHが3.5よ
り高い場合水酸化第二鉄の沈澱を生じやすくなる。この
理由より電解液のpHを1.5〜3.5に維持する必要
がある。
持す°るため緩衝剤としてほう酸を添加する。電解液の
pHが1,5より低い場合電流効率の低下を招き陰極(
ステンレス鋼等)と電着金属との密着性が増し、電解箔
として剥離し難くなる。一方、電解液のpHが3.5よ
り高い場合水酸化第二鉄の沈澱を生じやすくなる。この
理由より電解液のpHを1.5〜3.5に維持する必要
がある。
陰極電流密度ば25〜40A/d rrf好ましくは3
0A/dイとする。陰極電流密度が25A/d n(よ
りも低い場合電解析出した合金の組成が変動し易く、ま
た電流効率も低下する。陰極電流密度が40A/d r
lより高い場合電解析出した合金は脆くなり、電解箔と
しては不適当である。陰極電流密度が25〜40A/d
rfの場合のみ電解箔の製造に適した電着層を得るこ
とができる。
0A/dイとする。陰極電流密度が25A/d n(よ
りも低い場合電解析出した合金の組成が変動し易く、ま
た電流効率も低下する。陰極電流密度が40A/d r
lより高い場合電解析出した合金は脆くなり、電解箔と
しては不適当である。陰極電流密度が25〜40A/d
rfの場合のみ電解箔の製造に適した電着層を得るこ
とができる。
電解温度は50〜60℃に保つ必要がある。電解温度が
50℃より低い場合電解液の電導性が悪くなり、電解電
圧は上昇する。電解温度が60℃より高い場合電解液の
蒸散が速くなり、またFe”+の酸化速度も速くなる。
50℃より低い場合電解液の電導性が悪くなり、電解電
圧は上昇する。電解温度が60℃より高い場合電解液の
蒸散が速くなり、またFe”+の酸化速度も速くなる。
本発明においてはFe−Ni合金の析出組成の経時変化
をなくし、組成を安定させるために陽極にFe板とNi
板の可溶性陽極を用いる。pt板のような不溶性陽極を
用いて電解を行なった場合は浴の変化にともない定期的
に金属イオンを補給しなければならない。また1作業上
でもガスが発生することや浴が酸化しやすいという問題
が生じる。従って。
をなくし、組成を安定させるために陽極にFe板とNi
板の可溶性陽極を用いる。pt板のような不溶性陽極を
用いて電解を行なった場合は浴の変化にともない定期的
に金属イオンを補給しなければならない。また1作業上
でもガスが発生することや浴が酸化しやすいという問題
が生じる。従って。
Fe −Ni合金電解箔の製造、には可溶性陽極が適し
ている。
ている。
以上説明してきたように本発明によれば、FeとNiと
の組成を自由に調整でき、任意の組成を有するFe −
Ni合金電解箔を製造できる。また本発明によるFe−
Ni合金電解箔は表面の光沢に優れており。
の組成を自由に調整でき、任意の組成を有するFe −
Ni合金電解箔を製造できる。また本発明によるFe−
Ni合金電解箔は表面の光沢に優れており。
液側面、母材側面とも光沢面であるFe−Ni合金電解
箔の製造が可能である。
箔の製造が可能である。
(実施例1)
母材に市販の5US430光輝焼鈍仕上げステンレス鋼
を使用して電解法によるFe−Ni合金箔の製造実験を
行なった。本発明法と比較法として一般的なFe−Ni
合金電解液を用いて実験を行なった。電解条件としては
pH=1.5〜3.5浴温=50〜60℃に保ち、陰極
電流密度(OK) 25〜40A/d rrfで実験を
行なった。
を使用して電解法によるFe−Ni合金箔の製造実験を
行なった。本発明法と比較法として一般的なFe−Ni
合金電解液を用いて実験を行なった。電解条件としては
pH=1.5〜3.5浴温=50〜60℃に保ち、陰極
電流密度(OK) 25〜40A/d rrfで実験を
行なった。
表1に各電解浴による箔試作結果を示す。その結果、本
発明方法でしか目的とする合金組成をもつ箔は得られな
かった。
発明方法でしか目的とする合金組成をもつ箔は得られな
かった。
表1゜
(実施例2)
実施例1と同じ実験条件で浴中の金属イオン濃度を変え
てFe−Ni合金電解箔の製造実験を行なった。第1図
に本発明方法における浴中の金属イオン濃度に対する析
出組成を示す。この実験結果より、本発明方法では表2
に示す金属イオン濃度の浴組成で目的の合金組成をもっ
Fe−Ni合金電解箔が得られた。
てFe−Ni合金電解箔の製造実験を行なった。第1図
に本発明方法における浴中の金属イオン濃度に対する析
出組成を示す。この実験結果より、本発明方法では表2
に示す金属イオン濃度の浴組成で目的の合金組成をもっ
Fe−Ni合金電解箔が得られた。
表2゜
(実施例3)
実施例1と同じ実験条件で添加剤の影響を調査した。本
発明法と、比較法として一般的な応力緩和剤を添加した
場合と無添加の場合についてFe−Ni合金電解箔の製
造実験を行なった。表3に本発明方法における添加剤の
影響を示す。その結果、本発明で挙げている基を有する
錯化剤を用いないとFe−Ni合金電解箔の製造は不可
能であった。
発明法と、比較法として一般的な応力緩和剤を添加した
場合と無添加の場合についてFe−Ni合金電解箔の製
造実験を行なった。表3に本発明方法における添加剤の
影響を示す。その結果、本発明で挙げている基を有する
錯化剤を用いないとFe−Ni合金電解箔の製造は不可
能であった。
(実施例4)
実施例1と同じ実験条件で陰極電流密度を変えてFe
−Ni合金電解箔の製造実験を行なった。第2図に本発
明方法における陰極電流密度に対する析出組成および電
流効率の関係を示す。図より電流効率が高く安定する2
5〜40A/d d、好ましくは30A/dd以上の電
解電流密度が適しているが、40A/drrl’より高
い場合電解析出した合金は脆くなり電解箔として不適当
である。
−Ni合金電解箔の製造実験を行なった。第2図に本発
明方法における陰極電流密度に対する析出組成および電
流効率の関係を示す。図より電流効率が高く安定する2
5〜40A/d d、好ましくは30A/dd以上の電
解電流密度が適しているが、40A/drrl’より高
い場合電解析出した合金は脆くなり電解箔として不適当
である。
(実施例5)
実施例1と同じ実験条件で浴温を変えてFe−Ni合金
電解箔の製造実験を行なった。表4に本発明方法におけ
る浴温の影響を示す。その結果浴温は析出組成にはほと
んど影響はないが、箔の表面状態に影響を及ぼし光沢、
レベリング性の優れた箔を得るためには50〜60℃が
適していた。
電解箔の製造実験を行なった。表4に本発明方法におけ
る浴温の影響を示す。その結果浴温は析出組成にはほと
んど影響はないが、箔の表面状態に影響を及ぼし光沢、
レベリング性の優れた箔を得るためには50〜60℃が
適していた。
表4゜
(実施例6)
実施例1と同じ実験条件で陽極を変えてFe−Ni合金
電解箔の製造実験を行なった。本発明法では可溶性陽極
であるFe板とNi板を用いているが、比較法として不
溶性陽極のpt板を用いて実験を行なった。表5に本発
明方法における陽極の影響を示した。その結果、析出組
成や浴組成を安定させるためには可溶性陽極の方が適し
ていた。
電解箔の製造実験を行なった。本発明法では可溶性陽極
であるFe板とNi板を用いているが、比較法として不
溶性陽極のpt板を用いて実験を行なった。表5に本発
明方法における陽極の影響を示した。その結果、析出組
成や浴組成を安定させるためには可溶性陽極の方が適し
ていた。
表5゜
(発明の効果)
本発明によればFe−Ni合金電解箔の工業的製造が可
能となる。従って、圧延法で製造している4 2Ni、
46NiなどのFe−Ni合金を電解析出法で製造でき
る。電解析出法の場合は圧延法と比較して結晶粒が微細
化するために磁気特性において優位に立ち、また圧延で
は得られない薄さの箔を低コストで製造可能である。従
って、その特性をいかしてハイテク材や磁性材料として
用途が広がるものと思われる。また本発明法による電解
析出方法は表面状態が非常に美しいために、装飾材用の
めっき法としても適用できる。
能となる。従って、圧延法で製造している4 2Ni、
46NiなどのFe−Ni合金を電解析出法で製造でき
る。電解析出法の場合は圧延法と比較して結晶粒が微細
化するために磁気特性において優位に立ち、また圧延で
は得られない薄さの箔を低コストで製造可能である。従
って、その特性をいかしてハイテク材や磁性材料として
用途が広がるものと思われる。また本発明法による電解
析出方法は表面状態が非常に美しいために、装飾材用の
めっき法としても適用できる。
第1図は本発明電解液Fe”+およびN x 2 +イ
オン中のFe2+イオン濃度に対するFe電解析出量と
陰極電流効率との関係す示す図。 第2図は2本発明電解液における陰極電流密度に対する
Fe電解析出量と陰極電流効率との関係を示す図である
。
オン中のFe2+イオン濃度に対するFe電解析出量と
陰極電流効率との関係す示す図。 第2図は2本発明電解液における陰極電流密度に対する
Fe電解析出量と陰極電流効率との関係を示す図である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 不動態皮膜を有する陰極上にFe−Ni合金を電着し、
得られた合金箔を陰極面より剥離することによりFe−
Ni合金箔を製造する方法において:電解液中のFe源
としてFeの硫酸塩、Ni源としてNiのスルファミン
酸塩を用い、Feイオン濃度は1〜60g/l、Niイ
オン濃度は1〜60g/lとし、目的とするFe−Ni
電解析出合金の組成によりその濃度を変化させた電解液
を用い、電着応力緩和剤としてラウリル基、スルフォン
イミド基を有する化合物及び電解液酸化防止剤としてヒ
ドロキシル基、アミノ基を有する化合物を目的に応じて
一定量(0.1〜5g/l)添加し、電解液のpHを1
.5〜3.5に維持するため緩衝剤としてほう酸を添加
し、 可溶性陽極を用い、 陰極電流密度25〜40A/dm^2、 電解液温度50〜60℃ で電解析出を行うことを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25594388A JPH02104688A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25594388A JPH02104688A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02104688A true JPH02104688A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=17285732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25594388A Pending JPH02104688A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | Fe−Ni合金箔を製造するためのFe−Ni合金電解析出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02104688A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04311594A (ja) * | 1990-12-24 | 1992-11-04 | Stork Screens Bv | 低内部応力の網目状材料の形成法及び得られた網目状材料 |
| KR100394741B1 (ko) * | 2001-04-11 | 2003-08-14 | 연합철강공업 주식회사 | 철-니켈합금 박판의 제조를 위한 전해액 |
| CN100449038C (zh) * | 2005-12-06 | 2009-01-07 | 安泰科技股份有限公司 | 因瓦合金箔的制备方法 |
| WO2011062031A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | Jx日鉱日石金属株式会社 | ニッケル鉄合金めっき液 |
| JP2012151285A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP2018040055A (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | ポスコPosco | 鉄‐ニッケル合金箔及びその製造方法 |
| JP2019023349A (ja) * | 2018-09-25 | 2019-02-14 | 日立造船株式会社 | 水溶液電解用電極の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP25594388A patent/JPH02104688A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04311594A (ja) * | 1990-12-24 | 1992-11-04 | Stork Screens Bv | 低内部応力の網目状材料の形成法及び得られた網目状材料 |
| KR100394741B1 (ko) * | 2001-04-11 | 2003-08-14 | 연합철강공업 주식회사 | 철-니켈합금 박판의 제조를 위한 전해액 |
| CN100449038C (zh) * | 2005-12-06 | 2009-01-07 | 安泰科技股份有限公司 | 因瓦合金箔的制备方法 |
| WO2011062031A1 (ja) * | 2009-11-18 | 2011-05-26 | Jx日鉱日石金属株式会社 | ニッケル鉄合金めっき液 |
| TWI422715B (zh) * | 2009-11-18 | 2014-01-11 | 吉坤日鑛日石金屬有限公司 | 鎳鐵合金鍍覆液 |
| US9234292B2 (en) | 2009-11-18 | 2016-01-12 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Nickel-iron alloy plating solution |
| JP2012151285A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP2018040055A (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | ポスコPosco | 鉄‐ニッケル合金箔及びその製造方法 |
| CN107805761A (zh) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 株式会社Posco | 铁‑镍合金箔及其制造方法 |
| JP2019023349A (ja) * | 2018-09-25 | 2019-02-14 | 日立造船株式会社 | 水溶液電解用電極の製造方法 |
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