JPH02106091A - 両面パターンの形成方法 - Google Patents

両面パターンの形成方法

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JPH02106091A
JPH02106091A JP25998188A JP25998188A JPH02106091A JP H02106091 A JPH02106091 A JP H02106091A JP 25998188 A JP25998188 A JP 25998188A JP 25998188 A JP25998188 A JP 25998188A JP H02106091 A JPH02106091 A JP H02106091A
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JP
Japan
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insulator
resist
holes
thin film
deposited thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP25998188A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Takenoiri
竹野入 康夫
Kazuhiro Yamashita
和宏 山下
Takao Okuhara
隆夫 奥原
Yasuo Izumi
泉 恭夫
Tsukasa Aoki
司 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HITAKE SEIKO KK
Original Assignee
HITAKE SEIKO KK
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
    • H05K3/146—By vapour deposition

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、配線板等の両面にパターンを形成する方法
に関するものである。
(従来の技術および課題) 従来は、配線板等のパターンを形成するためには、クロ
ム酸エツチングおよびプラスチソクスメソキ工程を経て
無電解メッキをしていたが、公害が発生する問題がある
。
この発明は上記のエツチングやメッキ工程を採用しない
で、乾式の蒸着薄膜を形成して直接電気メッキし、公害
の発生を防ぎ、かつ、両面にパタンを容易に形成できる
両面パターンの形成方法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 第1の方法は、フィルムまたはシート状の絶縁体に、ス
ルーホール用穴を設けた後、少なくとも穴の周囲を除い
て絶縁体の両面に任意のパターンのレジストを設け、穴
の内面をも含めてレジストで覆われていない絶縁体の面
に蒸着薄膜を設け、蒸着薄膜の面にメッキ層を設け、か
つ、穴をメッキ層で埋めて、レジストを除去するか、ま
たは、除去しないで、パターンを絶縁体の両面に形成す
る。
第2の方法は、フィルムまたはシート状の絶縁体に、ス
ルーホール用穴を設けた後、少なくとも穴の周囲を除い
て絶縁体の両面に水可溶性の材料で任意のパターンのレ
ジストを設け、穴の内面を含めてレジストで覆われてい
ない絶縁体の面に蒸着薄膜を設けた後に、レジストを除
去し、再び蒸着薄膜で覆われていない絶縁体の面にレジ
ストを設け、蒸着薄膜の面にメッキ層を設け、かつ、穴
をメッキ層で埋めて、レジストを除去するか、または、
除去しないで、パターンを両面に形成する。
第3の方法は、フィルムまたはシート状の絶縁体に、ス
ルーホール用穴を設けた後、穴の内面をも含めて絶縁体
の両面全面に蒸着薄膜を形成し、蒸着薄膜の面にメッキ
層を設け、かつ、メッキ層で穴を埋め、少なくとも穴に
対応する位置を含めてメッキ層の両面に任意のパターン
の導電性材料によるレジストを設け、そのレジストで覆
われていないメッキ層およびその下の蒸着薄膜を除去し
、レジストを除去するか、または,、除去しないで、両
面にパターンを形成する。
(実施例) 以下この発明の実施例を図面に示す工程図により説明す
る。
第1図に示す実施例の工程は次のとおりである。
■絶縁体1にスルーボール用の穴2を設ける。
絶縁体1は、フェノール、紙、ガラス、エポキシ樹脂等
の絶縁体よりなるフィルムまたはシートとする。
■印刷マスキングその他の方法で絶縁体1の両面にレジ
スト3を形成する。
■レジスト3で覆われていない絶縁体lの面に、真空蒸
着、イオンブレーティング、スパッターなどのドライブ
レーティングにより蒸着薄膜4を形成する。
この蒸着薄膜4は穴2により絶縁体1の両面に連続する
。
■蒸着薄膜4の面にメッキ層5を設ける。
蒸着薄膜4で覆われた穴2はメッキ層5で埋まる。
■レジスト3をサンドブラストにより除去し、両面パタ
ーンが完成する。
この際メッキ層5の面もサンドブラストによりン青面さ
れる。
第2図に示す実施例の工程は次のとおりである。
■絶縁体1にスルーホール用の穴2を設ける。
■水可溶性インキで絶縁体1の両面にレジスト6を形成
する。
■レジスト6で覆われていない絶縁体1の両面に蒸着薄
膜4を形成する。
■水洗シャワー等によりレジスト6を除去する。
■蒸着薄膜4で覆われていない絶縁体1面にメッキ用レ
ジストを印刷して、レジスト3を形成する。
■蒸着薄膜4の面にメッキrM5を設ける。
この際穴2はメッキ層5で埋まる。
■サンドブラストエツチング等の方法でレジスト3を除
去する。
第3図に示す実施例の工程は次のとおりである。
■絶縁体1にスルーホール用の穴2を設ける。
■穴2の表面を含み、絶縁体1の両面に蒸着薄膜4を形
成する。
■蒸着薄膜4の面にメンキして、メッキ層5を設ける。
メッキ層5は穴2を埋める。
■穴2の位置に対応する面を含み、メッキ層50両面に
レジストペースト等でパターンを印刷し、レジスト3を
形成する。
■エツチングまたはサンドブラストによりレジスト3で
覆われていないメッキN5および蒸着薄膜4を除去する
。
■レジスト3を除去する。
上記の第1および第2の実施例で、レジスト3を絶縁材
料で形成した場合には、レジスト3を除去しないでその
まま残して使用することもできる。
また第3の実施例では、レジスト3を導電性材料で形成
した場合には、レジスト3を除去しないでそのまま残し
て使用することができる。
(作用および効果) この発明に係る両面パターンの形成方法においては、フ
ィルムまたはシート状の絶縁体に設けた穴が絶縁体両面
の導電体を連通させて両面のパターンを電気的に接続す
る。従って、この発明による両面パターンの形成方法は
、材料の両面に他の部材等の取付けを必要としない互い
に接続する両面パターンを極めて容易確実に形成するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は、 程図である。 1・・ 2・・ 3・・ 4・・ 5・・ 6・・ この説明の実施例の工 ・絶縁体 ° Δ ・レジスト ・蒸着薄膜 ・メッキ層 ・レジスト

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 フィルムまたはシート状の絶縁体にスルーホール用
    穴を設けた後、少なくとも穴の周囲を除いて絶縁体の両
    面に任意のパターンのレジストを設け、・穴の内面をも
    含めてレジストで覆われていない絶縁体の面に蒸着薄膜
    を設け、蒸着薄膜の面にメッキ層を設け、かつ、穴をメ
    ッキ層で埋めて、レジストを除去するか、または、除去
    しないでパターンを完成させることを特徴とする両面パ
    ターンの形成方法 2 フィルムまたはシート状の絶縁体にスルーホール用
    穴を設けた後、少なくとも穴の周囲を除いて絶縁体の両
    面に水可溶性の材料で任意のパターンのレジストを設け
    、穴の内面を含めてレジストで覆われていない絶縁体の
    面に蒸着薄膜を設けた後に、レジストを除去し、再び蒸
    着薄膜で覆われていない絶縁体の面にレジストを設け、
    蒸着薄膜の面にメッキ層を設け、かつ、穴をメッキ層で
    埋めて、レジストを除去するか、または、除去しないで
    、パターンを完成させることを特徴とする両面パターン
    の形成方法。 3 フィルムまたはシート状の絶縁体にスルーホール用
    穴を設けた後、穴の内面をも含めて絶縁体の両面全面に
    蒸着薄膜を形成し、蒸着薄膜の面にメッキ層を設け、か
    つ、メッキ層で穴を埋め、少なくとも穴に対応する位置
    を含めてメッキ層の両面に任意のパターンの導電性材料
    によるレジストを設け、そのレジストで覆われていない
    メッキ層およびその下の蒸着薄膜を除去し、レジストを
    除去するか、または,、除去しないでパターンを形成す
    ることを特徴とする両面パターンの形成方法。
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