JPH02106755A - パターン形成方法 - Google Patents
パターン形成方法Info
- Publication number
- JPH02106755A JPH02106755A JP63260099A JP26009988A JPH02106755A JP H02106755 A JPH02106755 A JP H02106755A JP 63260099 A JP63260099 A JP 63260099A JP 26009988 A JP26009988 A JP 26009988A JP H02106755 A JPH02106755 A JP H02106755A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- colored
- resist
- exposure
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラーフィルターの製造等に使用される着色
レジストのパターン形成方法に関するものである。
レジストのパターン形成方法に関するものである。
従来の技術
一般に着色レジストを用いたパターンの形成法は、第１
図（ｂ）に示したように、基板１上に着色レジスト２を
所定の膜厚で塗布した後、プリベータを行い、マスク３
を介して露光を行った後現像によって不要部分を除去し
、最後にポストベークを行う工程よりなっている。
図（ｂ）に示したように、基板１上に着色レジスト２を
所定の膜厚で塗布した後、プリベータを行い、マスク３
を介して露光を行った後現像によって不要部分を除去し
、最後にポストベークを行う工程よりなっている。
ネガ型の着色レジストの露光特性曲線を第２図に示す。
横軸が露光量で、縦軸が残膜率である。
露光量を変えて行くと露光量ＥＴの所で、残膜率が０か
ら１へと変化する。すなはち、Ｅｙ以下の露光量の場合
、重合不足のため現像後膜が残らない、ＥＴ以上の露光
量の場合、重合が十分に行なわれているため現像後膜は
完全に残る。また、着色フォトレジストは、顔料等の光
吸収因子を含んでいるため膜内での光吸収が大きいため
膜厚方向に光の強度分布がつきレジストの下部でＥ□を
確保するためには表面で非常に大きな露光量が必要とな
る。
ら１へと変化する。すなはち、Ｅｙ以下の露光量の場合
、重合不足のため現像後膜が残らない、ＥＴ以上の露光
量の場合、重合が十分に行なわれているため現像後膜は
完全に残る。また、着色フォトレジストは、顔料等の光
吸収因子を含んでいるため膜内での光吸収が大きいため
膜厚方向に光の強度分布がつきレジストの下部でＥ□を
確保するためには表面で非常に大きな露光量が必要とな
る。
例えば、透明なレジストにカーボンを２５％分散した場
合、膜厚１μｍで透過率が１％以下（波長３６５〜４３
６ｎｍ）となり第２図の（ｂ）に示したように膜厚が１
μｍの場合、約１００００Ｊ／ｃｍの露光量が必要とな
る。
合、膜厚１μｍで透過率が１％以下（波長３６５〜４３
６ｎｍ）となり第２図の（ｂ）に示したように膜厚が１
μｍの場合、約１００００Ｊ／ｃｍの露光量が必要とな
る。
発明が解決しようとする課題
しかし、従来の方法では、最初から所定の膜厚で塗布し
て露光した場合レジストの下部まで十分に露光エネルギ
ーが到達しないためレジスト下部での光反応が不十分と
なり、ネガレジストの場合は、サイドエッチ９が生じ、
パターンの欠けや剥離が起こる。また、下部まで十分に
露光しようとした場合非常に多くの露光量を必要とする
ため、露光に要する時間が長（なり、また更に回折等に
よるマスクとの寸法差が大きくなる。
て露光した場合レジストの下部まで十分に露光エネルギ
ーが到達しないためレジスト下部での光反応が不十分と
なり、ネガレジストの場合は、サイドエッチ９が生じ、
パターンの欠けや剥離が起こる。また、下部まで十分に
露光しようとした場合非常に多くの露光量を必要とする
ため、露光に要する時間が長（なり、また更に回折等に
よるマスクとの寸法差が大きくなる。
本発明はかかる従来技術の課題に鑑み、欠陥のない安定
なパターンををするカラーフィルタを容易に製造するパ
ターン形成方法を提供することを目的とする。
なパターンををするカラーフィルタを容易に製造するパ
ターン形成方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、基板上に顔料もしくは、染料等を混入、分散
した着色フォトレジストを通常使用している露光量範囲
内でレジスト下面まで充分露光エネルギーが到達する膜
厚で塗布し、露光、現像を行いパターンを形成し、更に
、前記パターンの上に前記着色フォトレジストを前記膜
厚で塗布し、露光、現像を行い更に厚いパターンを形成
する工程を数回繰り返すことによって所定の膜厚を打す
るパターンを形成することを可能にするものである。
した着色フォトレジストを通常使用している露光量範囲
内でレジスト下面まで充分露光エネルギーが到達する膜
厚で塗布し、露光、現像を行いパターンを形成し、更に
、前記パターンの上に前記着色フォトレジストを前記膜
厚で塗布し、露光、現像を行い更に厚いパターンを形成
する工程を数回繰り返すことによって所定の膜厚を打す
るパターンを形成することを可能にするものである。
作用
本発明の技術的手段による作用としては、着色レジスト
の膜厚が薄いため、露光時において回折などによるパタ
ーンのマスクとの誤差が小さい領域で露光量を設定して
も、下面まで十分に露光されているため重合不足による
サイドエッチが生じない。そのため、欠けや剥離の無い
パターンを精度良く形成可能となる。
の膜厚が薄いため、露光時において回折などによるパタ
ーンのマスクとの誤差が小さい領域で露光量を設定して
も、下面まで十分に露光されているため重合不足による
サイドエッチが生じない。そのため、欠けや剥離の無い
パターンを精度良く形成可能となる。
実施例
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第１図（ａ）において、基板４に顔料やカーボン等を分
散させた着色フォトレジスト５を塗布、乾燥したものを
、所望のパターンが描画されたマスク６を介して、高圧
水銀ランプより出射され光学系（図示せず）により均一
露光パワーで平行化された紫外光線で照射しマスクのパ
ターンを前記フォトレジストに焼きつける。ついで、別
の工程である現像工程で、非照射部のレジストをエツチ
ングして剥離させ、続いて硬化工程で残っている光照射
部のレジストを熱的に硬化させて、前記基板上にパター
ン７を形成する。更に、前記パターン７の上から前記着
色フォトレジスト５を塗布し、前記一連の工程をおこな
う。このとき、１回の工程に於ける前記着色レジスト層
の膜厚は、通常露光範囲（４００ｍＪ／ｃｍ２以下）で
レジスト下部で露光量ＥＴを十分確保できるよう所定の
膜厚よりも薄く設定している。これら一連の工程を１回
もしくは複数回繰り返すことによって所定の膜厚のパタ
ーン８を形成する。
散させた着色フォトレジスト５を塗布、乾燥したものを
、所望のパターンが描画されたマスク６を介して、高圧
水銀ランプより出射され光学系（図示せず）により均一
露光パワーで平行化された紫外光線で照射しマスクのパ
ターンを前記フォトレジストに焼きつける。ついで、別
の工程である現像工程で、非照射部のレジストをエツチ
ングして剥離させ、続いて硬化工程で残っている光照射
部のレジストを熱的に硬化させて、前記基板上にパター
ン７を形成する。更に、前記パターン７の上から前記着
色フォトレジスト５を塗布し、前記一連の工程をおこな
う。このとき、１回の工程に於ける前記着色レジスト層
の膜厚は、通常露光範囲（４００ｍＪ／ｃｍ２以下）で
レジスト下部で露光量ＥＴを十分確保できるよう所定の
膜厚よりも薄く設定している。これら一連の工程を１回
もしくは複数回繰り返すことによって所定の膜厚のパタ
ーン８を形成する。
例エバ、カーボンを２５％分散したネガ型の着色レジス
トを用いた場合、第２図（ａ）に示すように、１回のレ
ジストの膜厚を０．５μｍに設定し２回の工程で所定の
膜厚１μｍのパターンを形成する。このとき１回の露光
量は、約１５０（ｍＪ／ｃｍ２）でこの程度の露光量で
あれば、十分実用的な露光範囲である。
トを用いた場合、第２図（ａ）に示すように、１回のレ
ジストの膜厚を０．５μｍに設定し２回の工程で所定の
膜厚１μｍのパターンを形成する。このとき１回の露光
量は、約１５０（ｍＪ／ｃｍ２）でこの程度の露光量で
あれば、十分実用的な露光範囲である。
その他、着色フォトレジストの材料としては、アクリロ
イド系感光樹脂より成る、例えば富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製の顔料充填レジスト、すなわち
青色レジスト（商標名カラ−モザイクＲ１略称ＣＲ）、
緑色レジスト（商標名カラーモザイクＧ１ 略称
ＣＧ）、赤色レジスト（商標名カラーモザイクＲ１略称
ＣＲ）、黒色レジスト（商標名カラーモザイクに１
略称ＣＫ）を用いた。現像剤としては、１重量％の炭酸
ソーダ水溶液を用いた。
イド系感光樹脂より成る、例えば富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製の顔料充填レジスト、すなわち
青色レジスト（商標名カラ−モザイクＲ１略称ＣＲ）、
緑色レジスト（商標名カラーモザイクＧ１ 略称
ＣＧ）、赤色レジスト（商標名カラーモザイクＲ１略称
ＣＲ）、黒色レジスト（商標名カラーモザイクに１
略称ＣＫ）を用いた。現像剤としては、１重量％の炭酸
ソーダ水溶液を用いた。
また、本実施例では、着色レジスト剤について述べたが
、フォトレジスト中に顔料や着色剤め代わりに光吸収性
の機能材料等を混入した場合も同様にしてパターンを形
成することによって、精度良く安定したパターンが得ら
れる。
、フォトレジスト中に顔料や着色剤め代わりに光吸収性
の機能材料等を混入した場合も同様にしてパターンを形
成することによって、精度良く安定したパターンが得ら
れる。
発明の詳細
な説明したように、本発明によって、光吸収が多いフォ
トレジストにおいて精度良くかつサイドエッチが無く欠
けや、剥離の生じない安定したパターニングが可能とな
る。
トレジストにおいて精度良くかつサイドエッチが無く欠
けや、剥離の生じない安定したパターニングが可能とな
る。
第１図は本発明の一実施例と従来例の比較を示すパター
ンの形成の工程図、第２図は着色フォトレジストの特性
図である。 １、４・・・・基板、 ２、 スト、３．６・・・・マスク、
ンの形成の工程図、第２図は着色フォトレジストの特性
図である。 １、４・・・・基板、 ２、 スト、３．６・・・・マスク、
Claims (3)
- （１）基板上に顔料もしくは、染料等の着色剤を混入、
分散した着色フォトレジストを通常使用している露光量
範囲内でレジスト下面まで充分露光エネルギーが到達す
る膜厚で塗布し、露光、現像を行いパターンを形成し、
更に、前記パターンの上に前記着色フォトレジストを前
記膜厚で塗布し、露光、現像を行い更に厚いパターンを
形成する工程を数回繰り返すことによって所定の膜厚を
有するパターンを形成することを特徴とするパターン形
成方法 - （２）着色レジスト材料が、多官能アクリレートモノマ
ー、有機重合体結合剤及びトリハロメチル−ｓ−トリア
ジン系化合物を含む光重合開始剤を組成とした感光性樹
脂と顔料を含有する着色材料であることを特徴とする請
求項１記載のパターン形成方法 - （３）露光量Ｅを数１００ｍＪ以下とし、基板上に塗布
した前記着色レジストの下面での露光エネルギーがＥ＿
Ｔ（前記着色レジストの残膜率が０から１となる露光量
）以上である膜厚範囲であることを特徴とする請求項１
記載のパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63260099A JPH02106755A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | パターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63260099A JPH02106755A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | パターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02106755A true JPH02106755A (ja) | 1990-04-18 |
Family
ID=17343280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63260099A Pending JPH02106755A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | パターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02106755A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05100553A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-23 | Sharp Corp | 電子写真装置のスクリーン装置 |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63260099A patent/JPH02106755A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05100553A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-23 | Sharp Corp | 電子写真装置のスクリーン装置 |
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