JPH02106918A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
- Publication number
- JPH02106918A JPH02106918A JP63259544A JP25954488A JPH02106918A JP H02106918 A JPH02106918 A JP H02106918A JP 63259544 A JP63259544 A JP 63259544A JP 25954488 A JP25954488 A JP 25954488A JP H02106918 A JPH02106918 A JP H02106918A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- stage
- mask
- electron beam
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体集積回路の生産工程で、ホトマスクの
製造に用いられる電子ビーム露光装置に関するものであ
る。
製造に用いられる電子ビーム露光装置に関するものであ
る。
（従来の技術）
従来の電子ビーム露光装置について、第３図に示す要部
側面断面図により説明する。電子ビームを用いてマスク
パターンが描画されるマスク乾板１は、マスクホルダ２
と呼ばれる治具に固定され。
側面断面図により説明する。電子ビームを用いてマスク
パターンが描画されるマスク乾板１は、マスクホルダ２
と呼ばれる治具に固定され。
電子ビーム震光装置の真空室内に配置されたステージ３
と呼ばれる基台の上に、ホルダ固定爪４によって固定さ
れる。
と呼ばれる基台の上に、ホルダ固定爪４によって固定さ
れる。
ステージ３は、上面の側端に突堤状の鏡面部６が形成さ
れており、真空室外に設けられた電動機５に１ψ動され
て、真空室の底面上を自在に移動できる。なお、上記の
ホルダ固定爪４は、ステージ３に内蔵された駆動装置（
図示せず）によって、上下方向に摺動し、上記のマスク
ホルダ２をステージ３の上面に固定する。マスクパター
ンが、電子ビームの偏向範囲を超える場合には、電動機
５を運転してステージ３を動かし、再度−１向範囲内に
マスク乾板１を入れ、描画を続ける。この時のマスク乾
板１の位置検出は、鏡面部６にレーザ光をあて、レーザ
干渉？１１！ｌ定方式により行われる。
れており、真空室外に設けられた電動機５に１ψ動され
て、真空室の底面上を自在に移動できる。なお、上記の
ホルダ固定爪４は、ステージ３に内蔵された駆動装置（
図示せず）によって、上下方向に摺動し、上記のマスク
ホルダ２をステージ３の上面に固定する。マスクパター
ンが、電子ビームの偏向範囲を超える場合には、電動機
５を運転してステージ３を動かし、再度−１向範囲内に
マスク乾板１を入れ、描画を続ける。この時のマスク乾
板１の位置検出は、鏡面部６にレーザ光をあて、レーザ
干渉？１１！ｌ定方式により行われる。
（発明が解決しようとする課題）
半導体集積回路は、製造技術の進歩とともに、マスク乾
板１が大形となり、これを支持するマスクホルダ２も大
形化する。一方、電子ビーム露光装置のステージ３は、
マスクパターン描画時に描両区域を移動するため、加減
速を繰り返すので。
板１が大形となり、これを支持するマスクホルダ２も大
形化する。一方、電子ビーム露光装置のステージ３は、
マスクパターン描画時に描両区域を移動するため、加減
速を繰り返すので。
ステージ３に対するマスクホルダ２の位置がずれ易いと
いう問題があった。今後、マスク乾板１およびマスクホ
ルダ２の大形化が進むに伴ない、ますますマスクホルダ
２の位置ずれが出易くなると予測される。しかしながら
上記の構成では、ステージ３の位置を検出するため、マ
スクホルダ２の位置ずれによって、マスクパターンの描
画精度が悪くなるという問題があった１本発明は上記の
問題を解決するもので、マスクホルダの位置ずれに影響
されない、高精度なマスクパターン描画が可能な電子ビ
ーム露光装置を提供するものである。
いう問題があった。今後、マスク乾板１およびマスクホ
ルダ２の大形化が進むに伴ない、ますますマスクホルダ
２の位置ずれが出易くなると予測される。しかしながら
上記の構成では、ステージ３の位置を検出するため、マ
スクホルダ２の位置ずれによって、マスクパターンの描
画精度が悪くなるという問題があった１本発明は上記の
問題を解決するもので、マスクホルダの位置ずれに影響
されない、高精度なマスクパターン描画が可能な電子ビ
ーム露光装置を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
上記の課題を解決するため、本発明は、マスクホルダの
側面に鏡面部を設け、且つ、マスクホルダをばね装置を
利用してステージ上に固定するものである。
側面に鏡面部を設け、且つ、マスクホルダをばね装置を
利用してステージ上に固定するものである。
（作 用）
上記の構成によれば、ステージ上のマスクホルダの鏡面
部に直接レーザ光を照射し、レーザ干渉測長器によって
、マスクホル”ダの位置を測定することができるためマ
スクホルダの位置ずれの影響を受けることがない。
部に直接レーザ光を照射し、レーザ干渉測長器によって
、マスクホル”ダの位置を測定することができるためマ
スクホルダの位置ずれの影響を受けることがない。
（実施例）
本発明の一実施例を、第１図および第２図により説明す
る。
る。
第１図（ａ）は、本発明による電子ビーム露光装置の真
空室内部を示す要部側面断面図、第１図（ｂ）および（
ｃ）は、第１図（ａ）に示した丸印部を拡大した側面断
面図および正面断面図である。
空室内部を示す要部側面断面図、第１図（ｂ）および（
ｃ）は、第１図（ａ）に示した丸印部を拡大した側面断
面図および正面断面図である。
第１図（ａ）において、本発明による電子ビーム震光装
置が、第３図に示した従来例と異なる点は、マスクホル
ダ２の側面に鏡面部２ａを設け、ステージ３に形成され
ていた鏡面部６に替えた点と。
置が、第３図に示した従来例と異なる点は、マスクホル
ダ２の側面に鏡面部２ａを設け、ステージ３に形成され
ていた鏡面部６に替えた点と。
ステージ３に設けられていたホルダ固定爪４を、第１図
（ｂ）および（ｃ）に示す固定装置に変えた点である。
（ｂ）および（ｃ）に示す固定装置に変えた点である。
その他は変らないので、同じ構成部品には同一符号を付
して、その説明を省略する。
して、その説明を省略する。
第１図（ｂ）において、マスクホルダ２には、その鏡面
部２ａ側の下面に、頭部の断面形状が楕円の傾斜したＴ
溝２ｂが形成され、その末端部が逆に傾斜して係合凹み
２ｃが設けられている。ステージ３には、上記のＴ溝２
ｂが嵌合するホルダ固定釦７が、ステージ３に設けられ
た収納空間３ａに収納された圧縮コイルばね８によって
、常に下方に付勢された状態で、上下に自在に摺動する
ように装着されている。
部２ａ側の下面に、頭部の断面形状が楕円の傾斜したＴ
溝２ｂが形成され、その末端部が逆に傾斜して係合凹み
２ｃが設けられている。ステージ３には、上記のＴ溝２
ｂが嵌合するホルダ固定釦７が、ステージ３に設けられ
た収納空間３ａに収納された圧縮コイルばね８によって
、常に下方に付勢された状態で、上下に自在に摺動する
ように装着されている。
このように構成された電子ビーム露光装置の動作につい
て、説明する。
て、説明する。
まず、マスク乾板１をマスクホルダ２に取り付け、真空
室内のステージ３の後方、すなりち電動機５の側に、鏡
面部２ａを前方にして載せ、ステージ３に装着されたホ
ルダ固定釦７に、Ｔ溝２ｂの位置を合わせて、前方に押
すと、ホルダ固定釦７は、Ｔ溝２ｂの傾斜に沿って突出
し、圧縮コイルばね８を圧縮して付勢力を貯積する。ホ
ルダ固定釦７が係合凹み２ｃに到達すると、その付勢力
で、第１図（ｃ）に示すように、マスクホルダ２をステ
ージ３の上面に圧着させて固定する。
室内のステージ３の後方、すなりち電動機５の側に、鏡
面部２ａを前方にして載せ、ステージ３に装着されたホ
ルダ固定釦７に、Ｔ溝２ｂの位置を合わせて、前方に押
すと、ホルダ固定釦７は、Ｔ溝２ｂの傾斜に沿って突出
し、圧縮コイルばね８を圧縮して付勢力を貯積する。ホ
ルダ固定釦７が係合凹み２ｃに到達すると、その付勢力
で、第１図（ｃ）に示すように、マスクホルダ２をステ
ージ３の上面に圧着させて固定する。
このようにしてマスクホルダ２は、直接ステージ３に固
定されるので、レーザ干渉測長器のレーザ光が、障害物
なしにマスクホルダ２の鏡面部２ａにあたる。従って、
レーザ干渉測長器によりマスクホルダ２の位置を直接検
出することが可能となる。
定されるので、レーザ干渉測長器のレーザ光が、障害物
なしにマスクホルダ２の鏡面部２ａにあたる。従って、
レーザ干渉測長器によりマスクホルダ２の位置を直接検
出することが可能となる。
第２図は、電子ビーム露光装置を用いて、マスク乾板１
上に形成したマスクパターンの位置のばらつきを示す分
布図で、曲線ａが本発明による実施例、曲線すが従来例
を示す。
上に形成したマスクパターンの位置のばらつきを示す分
布図で、曲線ａが本発明による実施例、曲線すが従来例
を示す。
これから明らかなように、本発明による電子ビーム露光
装置は、マスクパターンの位置のばらつきが小さく、高
精度のマスクパターンの描画が可能であることがわかる
。
装置は、マスクパターンの位置のばらつきが小さく、高
精度のマスクパターンの描画が可能であることがわかる
。
（発明の効果）
以−ヒ説明したように、本発明によれば、レーザ干渉ｆ
ｉｌ’！長器で直接マスクホルダの位置が検出できるの
で、ステージ上のマスクホルダの位置ずれの影響のない
マスクパターンの位置精度の良好な電子ビーム躇光装置
が得られる。
ｉｌ’！長器で直接マスクホルダの位置が検出できるの
で、ステージ上のマスクホルダの位置ずれの影響のない
マスクパターンの位置精度の良好な電子ビーム躇光装置
が得られる。
第１図（ａ）は本発明による電子ビーム露光装置の要部
側面断面図、第１図（ｂ）および（ｃ）はその−部を拡
大した要部側面断面図および要部正面断面図、第２図は
電子ビーム露光装置の位置のばらつき分布図、第３図は
従来の電子ビーム露光装置の要部側面断面図である。 １ ・・・マスク乾板、 ２・・・マスクホルダ、２ａ
、６・・・鏡面部、 ２ｂ・・・Ｔ溝、２ｃ・・・係
合凹み、 ３・・・ステージ、３ａ・・・収納空間、
４ ・・・ホルダ固定爪、５・・・電動機、 ７・・・
ホルダ固定釦、８ ・・・圧縮コイルばね。 特許出願人 松下電子工業株式会社 （ａ）
側面断面図、第１図（ｂ）および（ｃ）はその−部を拡
大した要部側面断面図および要部正面断面図、第２図は
電子ビーム露光装置の位置のばらつき分布図、第３図は
従来の電子ビーム露光装置の要部側面断面図である。 １ ・・・マスク乾板、 ２・・・マスクホルダ、２ａ
、６・・・鏡面部、 ２ｂ・・・Ｔ溝、２ｃ・・・係
合凹み、 ３・・・ステージ、３ａ・・・収納空間、
４ ・・・ホルダ固定爪、５・・・電動機、 ７・・・
ホルダ固定釦、８ ・・・圧縮コイルばね。 特許出願人 松下電子工業株式会社 （ａ）
Claims (1)
- 露光する基板を装着した治具を着脱自在に固定し、ＸＹ
方向に自在に移動する基台と、基台の移動位置を検出す
るレーザ干渉測長器を備えた電子ビーム露光装置におい
て、上記の治具の側面をレーザ干渉測長器のレーザ光を
反射する鏡面としたことを特徴とする電子ビーム露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63259544A JPH02106918A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63259544A JPH02106918A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02106918A true JPH02106918A (ja) | 1990-04-19 |
Family
ID=17335583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63259544A Pending JPH02106918A (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02106918A (ja) |
-
1988
- 1988-10-17 JP JP63259544A patent/JPH02106918A/ja active Pending
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