JPH02107791A - 2級アルコールからケトンへの酸化方法 - Google Patents
2級アルコールからケトンへの酸化方法Info
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- JPH02107791A JPH02107791A JP63259908A JP25990888A JPH02107791A JP H02107791 A JPH02107791 A JP H02107791A JP 63259908 A JP63259908 A JP 63259908A JP 25990888 A JP25990888 A JP 25990888A JP H02107791 A JPH02107791 A JP H02107791A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は2級アルコールからケトンを高収率でうること
かできる2級アルコールがらケトンへの酸化り法に関す
る。
かできる2級アルコールがらケトンへの酸化り法に関す
る。
[従来の技術]
2級アルコールを酸化して相当するケトン類に変換する
ことは有機合成化学において重要な反応技術であり、と
くに医薬品、農薬などに有用な化合物や工業原料中間体
などの合成の際に広く用いられている。
ことは有機合成化学において重要な反応技術であり、と
くに医薬品、農薬などに有用な化合物や工業原料中間体
などの合成の際に広く用いられている。
2級アルコールを酸化してケトンをつる方法は種々開発
されているが、たとえば酸化剤にクロム酸、過マンガン
酸およびそれらの塩類や四酢酸鉛などの重金属化合物を
用いる方法では、化学量論量またはそれ以上の量の毒性
のある酸化剤を必要とするので、反応後の廃棄物の処理
などに問題を残している。
されているが、たとえば酸化剤にクロム酸、過マンガン
酸およびそれらの塩類や四酢酸鉛などの重金属化合物を
用いる方法では、化学量論量またはそれ以上の量の毒性
のある酸化剤を必要とするので、反応後の廃棄物の処理
などに問題を残している。
また酸化剤を化学量論量用いる他の方法としては、DM
SO(ジメチルスルホキシド)を用いる酸化法があるが
、無水溶媒中で−e o ’cというきわめて低温で反
応を行なう必要があるので、工業的には問題が多い。
SO(ジメチルスルホキシド)を用いる酸化法があるが
、無水溶媒中で−e o ’cというきわめて低温で反
応を行なう必要があるので、工業的には問題が多い。
これらの方法以外にも貴金属を触媒に用いる空気酸化法
や接触脱水素法が知られているが、反応は一般に高温で
行なわれるため、副反応をおこしやすいという欠点があ
り、経済的にも高価な方法である。
や接触脱水素法が知られているが、反応は一般に高温で
行なわれるため、副反応をおこしやすいという欠点があ
り、経済的にも高価な方法である。
そこで、穏和な条件下でアルコールを触媒的に酸化する
方法の開発が注目され、四酸化ルテニウムの強い酸化能
を活用する2級アルコールの酸化法が開発されている(
L、M、Bcrkowltz;JAm、Chem、So
s、 、 80.8682(1958) ;R,M、M
orlarty;Tctrahcdron Lett、
、4003(1970);M、NJhcng米国特許第
3,997.578号明細書: S、Torll;J。
方法の開発が注目され、四酸化ルテニウムの強い酸化能
を活用する2級アルコールの酸化法が開発されている(
L、M、Bcrkowltz;JAm、Chem、So
s、 、 80.8682(1958) ;R,M、M
orlarty;Tctrahcdron Lett、
、4003(1970);M、NJhcng米国特許第
3,997.578号明細書: S、Torll;J。
Org、Cbei、、155(1986) :特公昭[
13−42711号公fり。かかる酸化法によれば、二
酸化ルテニウムから四酸化ルテニウムを再生する工程に
電解反応が利用されているが、二酸化ルテニウムは高僅
であり、また電極上にスラリーが付着し、生産効率が低
くなるという欠点がある。
13−42711号公fり。かかる酸化法によれば、二
酸化ルテニウムから四酸化ルテニウムを再生する工程に
電解反応が利用されているが、二酸化ルテニウムは高僅
であり、また電極上にスラリーが付着し、生産効率が低
くなるという欠点がある。
またニトロソニウム塩を用いた比較的穏和な条件での2
級アルコールに相当するケトンへの酸化法が開発されて
いる。N−オキシル化合物からニトロソニウム塩の生成
には、臭素、塩素などのハロゲンにより酸化する方法(
J、Ats、Cham。
級アルコールに相当するケトンへの酸化法が開発されて
いる。N−オキシル化合物からニトロソニウム塩の生成
には、臭素、塩素などのハロゲンにより酸化する方法(
J、Ats、Cham。
Soc、、L06,3877(1984):J、Org
、Chem、、50.3930(1985)) 、銅、
鉄などの金属化合物により酸化する方法(J 、Am、
Chem、Soc、 、 106.3374(1984
) : J 。
、Chem、、50.3930(1985)) 、銅、
鉄などの金属化合物により酸化する方法(J 、Am、
Chem、Soc、 、 106.3374(1984
) : J 。
Mo1.Cat、、32.357(1985):31.
217(1985))、過酸化物により酸化する方法(
J、Org、Chem、、40,1998(1975)
:4(1,1860(1975) :42,2077
(1977))などが知られている。しかしながら、こ
れらの方法は無水系で行なう必要があったり、化学量論
量以上のN−オキシル化合物を必要とするばあいがある
ため、工業的には実施しがたい方法である。
217(1985))、過酸化物により酸化する方法(
J、Org、Chem、、40,1998(1975)
:4(1,1860(1975) :42,2077
(1977))などが知られている。しかしながら、こ
れらの方法は無水系で行なう必要があったり、化学量論
量以上のN−オキシル化合物を必要とするばあいがある
ため、工業的には実施しがたい方法である。
またこれらの方法を改良する目的で次亜塩素酸ナトリウ
ムを酸化剤に用いる方法(J、Org。
ムを酸化剤に用いる方法(J、Org。
Chea+、、52.2559<1987) )が開発
されている。かかる方法によるとN−オキシル化合物が
触媒量用いられ、ニトロソニウム塩を連続的に発生させ
ることにより循環使用するように工夫されている。しか
しながら、この方法でも次亜塩素酸ナトリウムが大量に
必要なため、工業的な規模で実施するばあいには、以下
の点が問題となる。
されている。かかる方法によるとN−オキシル化合物が
触媒量用いられ、ニトロソニウム塩を連続的に発生させ
ることにより循環使用するように工夫されている。しか
しながら、この方法でも次亜塩素酸ナトリウムが大量に
必要なため、工業的な規模で実施するばあいには、以下
の点が問題となる。
すなわち、次亜塩素酸ナトリウムは高濃度では不安定な
ため、一般に入手し、取り扱うことができるのは約12
%濃度品であり、当量以上の次亜塩素酸ナトリウムを使
用すると反応液口が増加するため、生産効率の低下、廃
液の増加などをまねき経済的に不利となる。
ため、一般に入手し、取り扱うことができるのは約12
%濃度品であり、当量以上の次亜塩素酸ナトリウムを使
用すると反応液口が増加するため、生産効率の低下、廃
液の増加などをまねき経済的に不利となる。
また、N−オキシル化合物を直接法で電解酸化してニト
ロソニウム塩をつくり、このものを酸化剤に用いて2級
アルコールを相当するケトンに酸化する方法がある(J
、Am、CherA、Soc、 、 105゜4492
(1983))。この方法は化学酸化剤は必要としない
が、N−オキシル化合物を2級アルコールに対して2倍
モル用い、電解酸化によるニトロソニウム塩の調整はア
ルコールの酸化とは別の反応器で行なわれる、いわゆる
エクセルメソド(Ex−Cel I Method)で
あり、電解装置には構造的に腹雑な分離セルが必要とさ
れるなど工業的に実施するには不利である。
ロソニウム塩をつくり、このものを酸化剤に用いて2級
アルコールを相当するケトンに酸化する方法がある(J
、Am、CherA、Soc、 、 105゜4492
(1983))。この方法は化学酸化剤は必要としない
が、N−オキシル化合物を2級アルコールに対して2倍
モル用い、電解酸化によるニトロソニウム塩の調整はア
ルコールの酸化とは別の反応器で行なわれる、いわゆる
エクセルメソド(Ex−Cel I Method)で
あり、電解装置には構造的に腹雑な分離セルが必要とさ
れるなど工業的に実施するには不利である。
[発明が解決しようとする課題]
そこで本発明者らは前記従来技術に鑑みて鋭意研究を重
ねた結果、電解にょるN−オキシル化合物のニトロソニ
ウム塩への酸化と、ニトロソニウム塩による2級アルコ
ールの相当するケトンへの酸化を単一の電解槽内で行な
うことができ、しかもN−オキシル化合物を触媒的に用
いてニトロソニウム塩の再生とアルコールの酸化を連続
的に行なうことができる、高収率かつ高電流効率でケト
ンを製造しつるまったく新しい方法を初めて見出し、本
発明を完成するにいたった。
ねた結果、電解にょるN−オキシル化合物のニトロソニ
ウム塩への酸化と、ニトロソニウム塩による2級アルコ
ールの相当するケトンへの酸化を単一の電解槽内で行な
うことができ、しかもN−オキシル化合物を触媒的に用
いてニトロソニウム塩の再生とアルコールの酸化を連続
的に行なうことができる、高収率かつ高電流効率でケト
ンを製造しつるまったく新しい方法を初めて見出し、本
発明を完成するにいたった。
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は2級アルコールをN−オキシル化合
物とともに電解することを特徴とする2級アルコールか
らケトンへの酸化方法に関する。
物とともに電解することを特徴とする2級アルコールか
らケトンへの酸化方法に関する。
[作用および実施例]
ニトロソニウム塩を循環使用して2級アルコールを酸化
してケトンを製造する本発明の方法においては、2級ア
ルコールとN−オキシル化合物とを含む電解液を電解し
、まずニトロソニウム塩を生成させる。この化合物はた
だちに2級アルコールをケトンに酸化し、もとのN−オ
キシル化合物に戻るが、再び電解反応によってニトロソ
ニウム塩に変えられる。したがって、本発明の方法では
ニトロソニウム塩が循環使用される。
してケトンを製造する本発明の方法においては、2級ア
ルコールとN−オキシル化合物とを含む電解液を電解し
、まずニトロソニウム塩を生成させる。この化合物はた
だちに2級アルコールをケトンに酸化し、もとのN−オ
キシル化合物に戻るが、再び電解反応によってニトロソ
ニウム塩に変えられる。したがって、本発明の方法では
ニトロソニウム塩が循環使用される。
本発明では同一電解槽内でアルコールの触媒による酸化
と触媒の電解酸化による再生とを連続的に行なわれるた
め、もっとも構造が簡単な非隔膜式電解槽を使用するこ
とができる。
と触媒の電解酸化による再生とを連続的に行なわれるた
め、もっとも構造が簡単な非隔膜式電解槽を使用するこ
とができる。
本発明においては電解液としてたとえば、水と疎水性溶
媒からなる2相系溶液、含水均一溶液または該含水均一
溶液と親水性溶媒からなる混合溶液が用いられ、水層に
はあらかじめハロゲン含を化合物が溶解される。
媒からなる2相系溶液、含水均一溶液または該含水均一
溶液と親水性溶媒からなる混合溶液が用いられ、水層に
はあらかじめハロゲン含を化合物が溶解される。
ここで本明細書にいうハロゲン含有化合物とは、水中で
ハロゲンイオンを生じる化合物をいつO この電解液に電極を挿入して電解することにより、ハロ
ゲンイオンから活性ハロゲン化合物がつくられ、これを
同一電解槽内に含有されるN−オキシル化合物に作用さ
せてニトロソニウム塩を発生させる。生成したニトロソ
ニウム塩は、2級アルコールをケトンに酸化して自らは
N−オキシル化合物に戻るが、該N−オキシル化合物は
電解反応で発生する前記活性ノ\ロゲン化合物により再
びオキソニウム塩に酸化されるという過程を繰り返し、
結局、N−オキシル化合物は2級アルコールからケトン
への酸化剤として循環使用される。図式化すればつぎの
とおりである。
ハロゲンイオンを生じる化合物をいつO この電解液に電極を挿入して電解することにより、ハロ
ゲンイオンから活性ハロゲン化合物がつくられ、これを
同一電解槽内に含有されるN−オキシル化合物に作用さ
せてニトロソニウム塩を発生させる。生成したニトロソ
ニウム塩は、2級アルコールをケトンに酸化して自らは
N−オキシル化合物に戻るが、該N−オキシル化合物は
電解反応で発生する前記活性ノ\ロゲン化合物により再
びオキソニウム塩に酸化されるという過程を繰り返し、
結局、N−オキシル化合物は2級アルコールからケトン
への酸化剤として循環使用される。図式化すればつぎの
とおりである。
(式中、XはP 、 CI、B「または1を示す)本発
明を実施するばあい、回分方式のみならず連続方式で生
成物を反応系から取り出しつつ、原料を追加供給する、
いわゆるコンティニュアル・タンク・リアクタ装置の使
用も可能である。
明を実施するばあい、回分方式のみならず連続方式で生
成物を反応系から取り出しつつ、原料を追加供給する、
いわゆるコンティニュアル・タンク・リアクタ装置の使
用も可能である。
本発明の方法では、装置的に簡単な非隔膜式電解槽を用
いて電解を行なうことができるので、連続反応プロセス
も可能であり、工業的に有利な方法である。
いて電解を行なうことができるので、連続反応プロセス
も可能であり、工業的に有利な方法である。
本発明の方法において使用される2級アルコールは、一
般式RI R2Cll0I! (式中、R1およびR
2はそれぞれ炭素数1〜50のアルキル基を示す)で表
わされ、かかる2級アルコールは、たとえば2級水酸基
を何する鎖状または環状化合物であり、分子内にニトロ
ソニウム塩の酸化に対して安定なケトン、エステル、ア
ミド、ニトロ、ニトリル、ハロゲン、スルホニル、・オ
レフィン、フェニルなどの官能基を有していてもよい。
般式RI R2Cll0I! (式中、R1およびR
2はそれぞれ炭素数1〜50のアルキル基を示す)で表
わされ、かかる2級アルコールは、たとえば2級水酸基
を何する鎖状または環状化合物であり、分子内にニトロ
ソニウム塩の酸化に対して安定なケトン、エステル、ア
ミド、ニトロ、ニトリル、ハロゲン、スルホニル、・オ
レフィン、フェニルなどの官能基を有していてもよい。
かかる2級アルコールは2級水酸基を分子内に2個以上
有していてもよく、このばあいにはモノケトンを経由し
てジ(ポリ)ケトンに変換される。また同一分子内に1
級水酸基があるばあいには、ヒドロキシアルデヒドを経
由してケ!・アルデヒドに変換される。かかる2級アル
コールの一例としては、たとえば2−ペンタノール、3
−ペンタノール、2−ヘキサノール、3−へキサノール
、2−ヘプタツール、2−オクタツール、3−オクタツ
ール、3−デカノール、■、10−ウンデカンジオール
、α−フェネチルアルコール、■、1−ジクロロ−2ヘ
プタツール、■−フェニルー1〜プロパツール、■−メ
チルスルホニルー2−オクタツール、2−ニトロ−3−
ノニルアルコール、1−カルボエトキシアミノ −2−
プロパツール、L、1,1.−トリクロロ −2−オク
タツール、1.1−ジクロロ2−オクタツール、1.3
−ジクロロ −2−プロパツールなどの脂肪族および芳
香族アルコール;シクロペンタノール、シクロヘキサノ
ール、4−ターシャリープチルシフ0ヘキサノール、2
−メチルシクロヘキサノール、! −メントール、シク
ロヘプタツール、シクロオクタツール O1lシ
クロドデカノール、1,4−シクロヘキサンジオールな
どの脂環式アルコールなどがあげられるが、本発明はか
かる例示のみに限定されるものではない。
有していてもよく、このばあいにはモノケトンを経由し
てジ(ポリ)ケトンに変換される。また同一分子内に1
級水酸基があるばあいには、ヒドロキシアルデヒドを経
由してケ!・アルデヒドに変換される。かかる2級アル
コールの一例としては、たとえば2−ペンタノール、3
−ペンタノール、2−ヘキサノール、3−へキサノール
、2−ヘプタツール、2−オクタツール、3−オクタツ
ール、3−デカノール、■、10−ウンデカンジオール
、α−フェネチルアルコール、■、1−ジクロロ−2ヘ
プタツール、■−フェニルー1〜プロパツール、■−メ
チルスルホニルー2−オクタツール、2−ニトロ−3−
ノニルアルコール、1−カルボエトキシアミノ −2−
プロパツール、L、1,1.−トリクロロ −2−オク
タツール、1.1−ジクロロ2−オクタツール、1.3
−ジクロロ −2−プロパツールなどの脂肪族および芳
香族アルコール;シクロペンタノール、シクロヘキサノ
ール、4−ターシャリープチルシフ0ヘキサノール、2
−メチルシクロヘキサノール、! −メントール、シク
ロヘプタツール、シクロオクタツール O1lシ
クロドデカノール、1,4−シクロヘキサンジオールな
どの脂環式アルコールなどがあげられるが、本発明はか
かる例示のみに限定されるものではない。
使用されるN−オキシル化合物は一般式(I):(式中
、R3、R4、Rs R6、R7およびR8はそれ
ぞれ炭素数1〜30のアルキル基であり R3と86は
結合して環状化合物となっていてもよく、そのばあいに
は環内に不飽和結合してもよい。また環を形成した炭素
上にアミノ基、カルボニル基、アミド基、ハロゲン、ニ
トリルなどの官能基が結合していてもよ(、分子内に2
個以上のN−オキンル基を有していてもよい)で表わさ
れる化合物があげられる。かかるN−オキシル化合物の
具体例としては、たとえば2,2゜4.4−テトラメチ
ルアゼチジン−1−オキシル、2゜2−ジメチル−4,
4−ジプロピルアゼチジン−1−オキシル、2.2,5
.5−テトラメチルピロリジン−1−オキシル、2,2
,5.5−テトラメチル−3−オキソピロリジン−1−
オキシル、2,2,5.5−テトラメチルピロリジン−
1−オキシル、2.2,5.5−テトラメチルピロリジ
ン−1−オキシル−3−カルボキシアミド、2,2,5
.5−テトラメチル−3−ビロリン −1−オキシル−
3−カルボン酸、4−アミノ −2,2,8.6−テト
ラメチルビペリジン−1−オキシル、4−オキソ−2,
2,6,B−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、
4−メトキシ−2,2,8,6−チトラメチルピベリジ
ンー1−オキシル、4−ベンゾイルオキシ−2,2゜C
16−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、2゜2
、(i、6−チトラメチルピベリジンー1−オキシル4
−カルボン酸、4−ヒドロキシ−2,213,6−チト
ラメチルピベリジンーl−オキシル、4−シアノ −2
゜2.6.8−テトラメチルピペリジン−1−オキシル
、ジ−t−ブチルアミン−〇−オキシル、一般式=R9
000(CH2)8 CO2R9 C)+3 一般式: CH2−CHCHCH2 CO2RI CO2R9CO2R9CO2R9(式
中、R9は前記と同じ)などがあげられる。
、R3、R4、Rs R6、R7およびR8はそれ
ぞれ炭素数1〜30のアルキル基であり R3と86は
結合して環状化合物となっていてもよく、そのばあいに
は環内に不飽和結合してもよい。また環を形成した炭素
上にアミノ基、カルボニル基、アミド基、ハロゲン、ニ
トリルなどの官能基が結合していてもよ(、分子内に2
個以上のN−オキンル基を有していてもよい)で表わさ
れる化合物があげられる。かかるN−オキシル化合物の
具体例としては、たとえば2,2゜4.4−テトラメチ
ルアゼチジン−1−オキシル、2゜2−ジメチル−4,
4−ジプロピルアゼチジン−1−オキシル、2.2,5
.5−テトラメチルピロリジン−1−オキシル、2,2
,5.5−テトラメチル−3−オキソピロリジン−1−
オキシル、2,2,5.5−テトラメチルピロリジン−
1−オキシル、2.2,5.5−テトラメチルピロリジ
ン−1−オキシル−3−カルボキシアミド、2,2,5
.5−テトラメチル−3−ビロリン −1−オキシル−
3−カルボン酸、4−アミノ −2,2,8.6−テト
ラメチルビペリジン−1−オキシル、4−オキソ−2,
2,6,B−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、
4−メトキシ−2,2,8,6−チトラメチルピベリジ
ンー1−オキシル、4−ベンゾイルオキシ−2,2゜C
16−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、2゜2
、(i、6−チトラメチルピベリジンー1−オキシル4
−カルボン酸、4−ヒドロキシ−2,213,6−チト
ラメチルピベリジンーl−オキシル、4−シアノ −2
゜2.6.8−テトラメチルピペリジン−1−オキシル
、ジ−t−ブチルアミン−〇−オキシル、一般式=R9
000(CH2)8 CO2R9 C)+3 一般式: CH2−CHCHCH2 CO2RI CO2R9CO2R9CO2R9(式
中、R9は前記と同じ)などがあげられる。
これらN−オキシル化合物の触媒としての使用;は、2
級アルコール1モルに対して0.0(101〜10モル
、好ましくは0o03〜0.5モルである。
級アルコール1モルに対して0.0(101〜10モル
、好ましくは0o03〜0.5モルである。
o、ooiモルより少ないばあいには収率が低下し、1
0モルよりも多量に使用してもそれ以上の効果の向上は
望めず、不経済である。
0モルよりも多量に使用してもそれ以上の効果の向上は
望めず、不経済である。
ハロゲン含有化合物としては、たとえばフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素などのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属
塩、アンモニウム塩、遷移金属塩およびハロゲン化水素
などがあげられる。
臭素、ヨウ素などのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属
塩、アンモニウム塩、遷移金属塩およびハロゲン化水素
などがあげられる。
かかるハロゲン含を化合物の具体例としては、たとえば
塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マ
グネシウム、塩化カルシウム、塩化ストロンチウム、塩
化バリウム、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化スズ、
塩化ニッケル、塩化コバルト、塩化アンモニウムなどの
塩化物;臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム
、臭化マグネシウム、臭化カルシウム、臭化亜鉛、臭化
アンモニウムなどの臭化物;臭化水素酸などのハロゲン
化水素酸などがあげられる。これらハロゲン合釘化合物
のなかでは効率よくケトンをうるうえにおいては、臭化
物がとくに好ましい。ハロゲン合釘化合物の水溶液にお
けるハロゲン含有化合物の濃度はQ、f型口%〜飽和水
溶液、好ましくは5重量%〜飽和水溶液の範囲である。
塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マ
グネシウム、塩化カルシウム、塩化ストロンチウム、塩
化バリウム、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化スズ、
塩化ニッケル、塩化コバルト、塩化アンモニウムなどの
塩化物;臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム
、臭化マグネシウム、臭化カルシウム、臭化亜鉛、臭化
アンモニウムなどの臭化物;臭化水素酸などのハロゲン
化水素酸などがあげられる。これらハロゲン合釘化合物
のなかでは効率よくケトンをうるうえにおいては、臭化
物がとくに好ましい。ハロゲン合釘化合物の水溶液にお
けるハロゲン含有化合物の濃度はQ、f型口%〜飽和水
溶液、好ましくは5重量%〜飽和水溶液の範囲である。
0.1 m2%よりも低濃度では反応が遅くなる傾向が
ある。
ある。
水溶液の911は1〜13、好ましくは4〜12である
。2111未満では反応か遅<、pH3をこえると生成
物が不安定となり収率が低下する傾向がある。
。2111未満では反応か遅<、pH3をこえると生成
物が不安定となり収率が低下する傾向がある。
反応溶液としては反応基質である2級アルコールが水溶
性のばあいには、水溶液中で反応2行なうことができる
が、一般には疎水性を機溶媒とハロゲン含有化合物を溶
かした水溶液の二相系からなる不均一系混合溶液中また
はハロゲンイオンを含む水溶液と親水性有機溶媒の混合
溶液中で行なう。前記有機溶媒は、ニトロソニウム塩の
酸化に対して安定な有機溶媒であればよく、かかる有機
溶媒の具体例としては、たとえばアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、3−ペンタノンな
どのケトン;アセトニトリル、プロピオンニトリル、ベ
ンゾニトリルなどのニトリル二四塩化炭素、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン
、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;ペンタン
、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロオクタンなどの脂肪族系または脂環式炭化水素;ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳
香族系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロ
ラクトンなどのエステル;テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル;その他スルホ
ランなどがあげられる。これらの有機溶媒は単独でまた
は2種以上混合した混合溶媒として用いられる。
性のばあいには、水溶液中で反応2行なうことができる
が、一般には疎水性を機溶媒とハロゲン含有化合物を溶
かした水溶液の二相系からなる不均一系混合溶液中また
はハロゲンイオンを含む水溶液と親水性有機溶媒の混合
溶液中で行なう。前記有機溶媒は、ニトロソニウム塩の
酸化に対して安定な有機溶媒であればよく、かかる有機
溶媒の具体例としては、たとえばアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、3−ペンタノンな
どのケトン;アセトニトリル、プロピオンニトリル、ベ
ンゾニトリルなどのニトリル二四塩化炭素、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン
、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;ペンタン
、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロオクタンなどの脂肪族系または脂環式炭化水素;ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳
香族系炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロ
ラクトンなどのエステル;テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル;その他スルホ
ランなどがあげられる。これらの有機溶媒は単独でまた
は2種以上混合した混合溶媒として用いられる。
なお、水と疎水性有機溶媒からなる不均一系溶液を用い
るばあいには、充分なかきまぜを行ない、反応を円滑に
行なうことが好ましい。
るばあいには、充分なかきまぜを行ない、反応を円滑に
行なうことが好ましい。
電極には通常の電解反応に用いられる電極を使用するこ
とができるが、本発明はかかる電極の種類によりとくに
限定されるものではない。
とができるが、本発明はかかる電極の種類によりとくに
限定されるものではない。
かかる電極の具体例としては、たとえば白金、白金ブラ
ック、炭素、チタン、ステンレス、ニッケル、酸化鉛な
どやその他たとえば表面処理などの加工が施された電極
があげられ、陽極および陰極には同一材料または異種材
料が用いられる。
ック、炭素、チタン、ステンレス、ニッケル、酸化鉛な
どやその他たとえば表面処理などの加工が施された電極
があげられ、陽極および陰極には同一材料または異種材
料が用いられる。
電解槽には陽陰極室が隔膜で分けられた電解槽および無
隔膜式電解槽のいずれを使用することもできるが、通常
は無隔膜式電解槽が用いられる。
隔膜式電解槽のいずれを使用することもできるが、通常
は無隔膜式電解槽が用いられる。
電流密度は2級アルコール、触媒であるN−オキシル化
合物およびハロゲンイオンを含有する水溶液ならびに溶
媒を入れた電解槽に電極を挿入し、かきまぜながら0.
001〜IOA/c−の範囲、好ましくは0.01〜0
.2A/cdの範囲となるように調整される。電流密度
は0.0’01A/cdよりも低いばあいには、反応に
長時間を要し、IOA/cdよりも高いばあいには、高
電圧を必要とし副反応か増大する傾向がある。
合物およびハロゲンイオンを含有する水溶液ならびに溶
媒を入れた電解槽に電極を挿入し、かきまぜながら0.
001〜IOA/c−の範囲、好ましくは0.01〜0
.2A/cdの範囲となるように調整される。電流密度
は0.0’01A/cdよりも低いばあいには、反応に
長時間を要し、IOA/cdよりも高いばあいには、高
電圧を必要とし副反応か増大する傾向がある。
本発明において反応に必要な電気量は、理論的には水酸
基1当量に対して2フアラデーであるが、反応を完結さ
せるためには2〜10フアラデー、好ましくは2〜6フ
アラデーであるのが望ましい。
基1当量に対して2フアラデーであるが、反応を完結さ
せるためには2〜10フアラデー、好ましくは2〜6フ
アラデーであるのが望ましい。
反応温度は一20〜100℃の範囲、好ましくは一10
〜50℃の範囲である。かかる反応温度は一20℃より
も低いばあいには、反応は遅くなり、100℃よりも高
いばあいには、副反応が反応かおこり、収率が低下する
傾向がある。
〜50℃の範囲である。かかる反応温度は一20℃より
も低いばあいには、反応は遅くなり、100℃よりも高
いばあいには、副反応が反応かおこり、収率が低下する
傾向がある。
反応時間は使用する電極の大きさ、電流密度、反応温度
、2級アルコールの種類およびその濃度、その他の条件
によって異なるが、2級アルコール1モルあたりの通電
量によってほぼ決定される。
、2級アルコールの種類およびその濃度、その他の条件
によって異なるが、2級アルコール1モルあたりの通電
量によってほぼ決定される。
反応終了後、疎水性溶媒を分液し、溶媒を留去すること
により粗生成物が入手される。もし必要ならば、蒸留、
再結晶、クロマト精製などの常法の後処理を行なうこと
により、相当するケトン体がえられる。
により粗生成物が入手される。もし必要ならば、蒸留、
再結晶、クロマト精製などの常法の後処理を行なうこと
により、相当するケトン体がえられる。
つぎに実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はかかる実施例によって限定されるものではな
い。
、本発明はかかる実施例によって限定されるものではな
い。
実施例1
20m1ガラス製反応容器に4−t−ブチルシクロヘキ
サノール15B、3mg(1,0mmol)、4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6,6−チトラメチルピベリジ
ンー1−オキシル2.8mg(0,01mmol) 、
塩化メチレン3mlおよび重曹を飽和させた25%臭化
ナトリウム水溶液5 mlを秤り、この混合液に2枚の
白金電極(表面積各1.5cd)を挿入して撹拌下で室
温にて電流値を30mAにとって定電流電解を行なった
。
サノール15B、3mg(1,0mmol)、4−ベン
ゾイルオキシ−2,2,6,6−チトラメチルピベリジ
ンー1−オキシル2.8mg(0,01mmol) 、
塩化メチレン3mlおよび重曹を飽和させた25%臭化
ナトリウム水溶液5 mlを秤り、この混合液に2枚の
白金電極(表面積各1.5cd)を挿入して撹拌下で室
温にて電流値を30mAにとって定電流電解を行なった
。
2.6フアラデ一1モルの電気口を通電して反応を中+
L L、反応混合物の塩化メチレン層と水層を分離し、
水層は塩化メチレンで抽出を行なった。塩化メチレン抽
出液を1つにまとめて濃縮し、残液をシリカゲルカラム
、Lでn−ヘキサン−酢酸エチル(10:l)の混合溶
媒で溶出して精製し、4−t−ブチルシクロへキサノン
143.5mgをえた。
L L、反応混合物の塩化メチレン層と水層を分離し、
水層は塩化メチレンで抽出を行なった。塩化メチレン抽
出液を1つにまとめて濃縮し、残液をシリカゲルカラム
、Lでn−ヘキサン−酢酸エチル(10:l)の混合溶
媒で溶出して精製し、4−t−ブチルシクロへキサノン
143.5mgをえた。
なお、IRスペクトルにより1720cm−’吸収ピー
クが認められ、ンC−Oの存在が確かめられた。収率は
93%で、電流効率は67%であった。
クが認められ、ンC−Oの存在が確かめられた。収率は
93%で、電流効率は67%であった。
以下にえられた4−t−ブチルシクロヘキサノンのN1
4RスペクトルのM1定結果を示す。
4RスペクトルのM1定結果を示す。
(NMRスペクトル(60M1lz(CDCIs) )
、単位: ppm(TMS)) 60.69(s、 9H,t−Bu) IJO〜2.50(m、 911) 実施例2〜6 実施例1において用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2
,G、G−テトラメチルピペリジン−1−オキシルのか
わりに、第1表に示したN−オキシル化合物を使用し、
反応完結まで通電した以外は実施例1と同様に反応を行
ない、4−1−ブチルシクロヘキサンをえた。なお、I
Rスペクトルにより1720cm−’に吸収ピーフカ認
メラレ、;c−oノ存在が確かめられた。えられた4−
1−ブチルシクロヘキサノンの収率を第1表に併記する
。
、単位: ppm(TMS)) 60.69(s、 9H,t−Bu) IJO〜2.50(m、 911) 実施例2〜6 実施例1において用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2
,G、G−テトラメチルピペリジン−1−オキシルのか
わりに、第1表に示したN−オキシル化合物を使用し、
反応完結まで通電した以外は実施例1と同様に反応を行
ない、4−1−ブチルシクロヘキサンをえた。なお、I
Rスペクトルにより1720cm−’に吸収ピーフカ認
メラレ、;c−oノ存在が確かめられた。えられた4−
1−ブチルシクロヘキサノンの収率を第1表に併記する
。
[以下余白〕
実施例7〜9
実施例1で用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.
6−チトラメチルピベリジンー1−オキシルの添加二を
第2表に示すように調整し、2.0フアラデ一1モルの
電気量を通電した以外は実施例1と同様にして4−t−
ブチルシクロヘキサノンをえた。えられた4−1−ブチ
ルシクロヘキサノンの収率を第2表に示す。
6−チトラメチルピベリジンー1−オキシルの添加二を
第2表に示すように調整し、2.0フアラデ一1モルの
電気量を通電した以外は実施例1と同様にして4−t−
ブチルシクロヘキサノンをえた。えられた4−1−ブチ
ルシクロヘキサノンの収率を第2表に示す。
第 2 表
実施例10〜12
実施例1において用いた重曹を飽和させた25%臭化ナ
トリウム水溶液(pit 8〜9)のかわりに第3表に
示した臭化ナトリウム濃度を有する重曹を飽和させた水
溶液を使用した以外は実施例1と同様に実施し、2フア
ラデ一1モルの電気量を通電し、4−t−ブチルシクロ
ヘキサノンをえた。えられた4−t−ブチルシクロヘキ
サノンの収率を第3表に示す。
トリウム水溶液(pit 8〜9)のかわりに第3表に
示した臭化ナトリウム濃度を有する重曹を飽和させた水
溶液を使用した以外は実施例1と同様に実施し、2フア
ラデ一1モルの電気量を通電し、4−t−ブチルシクロ
ヘキサノンをえた。えられた4−t−ブチルシクロヘキ
サノンの収率を第3表に示す。
実施例13〜18
実施例1において用いた重曹を飽和させた25%臭化ナ
トリウム水溶液のかわりに第4表に示したハロゲン含有
化合物濃度を有する重曹を飽和させた水溶液を使用した
以外は実施例1と同様にして第4表に示す電気量を通電
し、4−t−ブチルシクロヘキサノンをえた。その収率
を第4表に併記する。
トリウム水溶液のかわりに第4表に示したハロゲン含有
化合物濃度を有する重曹を飽和させた水溶液を使用した
以外は実施例1と同様にして第4表に示す電気量を通電
し、4−t−ブチルシクロヘキサノンをえた。その収率
を第4表に併記する。
第 4 表
第 3 表
実施例19および20
実施例1で用いた白金板のかわりに第5表に示した電極
を用いた以外は、実施例1と同様に実施し、4−t−ブ
チルシクロヘキサノンをえた。
を用いた以外は、実施例1と同様に実施し、4−t−ブ
チルシクロヘキサノンをえた。
その収率を第5表に併記する。
た。えられた4−t−ブチルシクロヘキサノンの収率を
第6表に併記する。
第6表に併記する。
[以下余白]
第 5 表
実施例21〜29
実施例1で用いた塩化メチレンのかわりに第6表に示し
た有機溶媒を用い、電気量を第6表に示すように調整し
たほかは実施例1と同様にして通電し、4−1−ブチル
シクロヘキサノンをえ第 表 6.0フアラデ一1モルにて実施し、第7表に示す生成
物をえた。えられた生成物の収率を第7表に併記する。
た有機溶媒を用い、電気量を第6表に示すように調整し
たほかは実施例1と同様にして通電し、4−1−ブチル
シクロヘキサノンをえ第 表 6.0フアラデ一1モルにて実施し、第7表に示す生成
物をえた。えられた生成物の収率を第7表に併記する。
[以下余白]
実施例30〜37
実施例1で用いた4−t−プチルンクロヘキサノールの
かわりに第7表で示した2級アルコールを用いた以外は
実施例1と同様に電気ff12,0〜なお、実施例30
〜37でえられた生成物のNMRスペクトル(60MH
z(CDC& 3>、単位: ppc (TMS))お
よびIRスペクトルは以下のとおりである。
かわりに第7表で示した2級アルコールを用いた以外は
実施例1と同様に電気ff12,0〜なお、実施例30
〜37でえられた生成物のNMRスペクトル(60MH
z(CDC& 3>、単位: ppc (TMS))お
よびIRスペクトルは以下のとおりである。
(実施例30;シクロオクタノン)
(A) NMRスペクトル
δ 1.20〜2.05 (m、 IOH、−C
)+2− )2.41 (+1.4H1−CH2−)
(B)IRスペクトル 1710cm−’吸収(ンC−0) (実施例31;2−オクタノン) (A) NMRスペクトル δ 0.89 (m、 3H,−C)13)1.28〜
L、[io (11,8)1.−CH2−)2.14
(s、 3H,−CH3) 2.42 (t、 2H,−CH2−)(B)IRスペ
クトル 1715cm−1吸収(ンC−0) (実施例32;3−デカノン) (A) NMRスペクトル 60.89 (fll、 3tL −CH3)1.05
(s、311、−CH5)1.28〜1.80
(m、IOH、−CH2−)2 、38 (q 、
2 Hl−CH2−)2.42 (q、2H,−C
H2−)(B)IRスペクトル 1715cm−’吸収(ンc−o> (実施例33. 10−ケトウンデカナール)(A)
NMRスペクトル δ 1.20〜1.80 (brd、 1211 、−
CH2−)2.10 (S、 3H,−CH5) 2.30〜2.55 (a+、 4H,−CH2−)9
.64 (III、 −CHo) (B)IRスペクトル 1720cm−1吸収(;c−o> (実施例34;4−ヒドロキシンクロヘキサノン)(A
) NMRスペクトル 61.82〜2.92 (m、91])4.06〜4.
38 (m、 1ll)(B)IRスペクトル 1700ca+−’吸収(ンC−0) 、(実施例35;1,1−ジクロロ −2−ヘプタノン
)(A) NMRスペクトル 60.89 (3H1−CH3) ■、15〜1.75 (Ill、811、−CH2−)
2.79 (t、 21i、−C)12−)5.75
(s、 11(、−011(J 2)(B)IRスペク
トル 1735ca+−1吸収< ンc−o>(A) NMR
スペクトル 60.82 (s、 3H,−CH3)0.90 (s
、 3H,−C)13 )0.95 (s、 3H,−
CH3) 1.20〜2.30 (m、−CH2−:;CI−)(
B)IRスペクトル 1725cm−’吸収< ;c−o> 比較例1 実施例1で用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.
6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルを添加しな
かった以外は、実施例1と同様に実施したところ、4−
t−ブチルシクロヘキサノンはまったく生成しなかった
。
)+2− )2.41 (+1.4H1−CH2−)
(B)IRスペクトル 1710cm−’吸収(ンC−0) (実施例31;2−オクタノン) (A) NMRスペクトル δ 0.89 (m、 3H,−C)13)1.28〜
L、[io (11,8)1.−CH2−)2.14
(s、 3H,−CH3) 2.42 (t、 2H,−CH2−)(B)IRスペ
クトル 1715cm−1吸収(ンC−0) (実施例32;3−デカノン) (A) NMRスペクトル 60.89 (fll、 3tL −CH3)1.05
(s、311、−CH5)1.28〜1.80
(m、IOH、−CH2−)2 、38 (q 、
2 Hl−CH2−)2.42 (q、2H,−C
H2−)(B)IRスペクトル 1715cm−’吸収(ンc−o> (実施例33. 10−ケトウンデカナール)(A)
NMRスペクトル δ 1.20〜1.80 (brd、 1211 、−
CH2−)2.10 (S、 3H,−CH5) 2.30〜2.55 (a+、 4H,−CH2−)9
.64 (III、 −CHo) (B)IRスペクトル 1720cm−1吸収(;c−o> (実施例34;4−ヒドロキシンクロヘキサノン)(A
) NMRスペクトル 61.82〜2.92 (m、91])4.06〜4.
38 (m、 1ll)(B)IRスペクトル 1700ca+−’吸収(ンC−0) 、(実施例35;1,1−ジクロロ −2−ヘプタノン
)(A) NMRスペクトル 60.89 (3H1−CH3) ■、15〜1.75 (Ill、811、−CH2−)
2.79 (t、 21i、−C)12−)5.75
(s、 11(、−011(J 2)(B)IRスペク
トル 1735ca+−1吸収< ンc−o>(A) NMR
スペクトル 60.82 (s、 3H,−CH3)0.90 (s
、 3H,−C)13 )0.95 (s、 3H,−
CH3) 1.20〜2.30 (m、−CH2−:;CI−)(
B)IRスペクトル 1725cm−’吸収< ;c−o> 比較例1 実施例1で用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.
6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルを添加しな
かった以外は、実施例1と同様に実施したところ、4−
t−ブチルシクロヘキサノンはまったく生成しなかった
。
比較例2
実施例1で用いた4−ベンゾイルオキシ−2,2゜6.
6−チトラメチルピベリジンー1−オキシルのかわりに
2.2,8.6−テトラメチル−4−ペンゾイルオキシ
ビベリジン2.6mgを用いた以外は実施例1と同様に
実施したところ、4−t−ブチルシクロヘキサノンはま
ったく生成しなかった。
6−チトラメチルピベリジンー1−オキシルのかわりに
2.2,8.6−テトラメチル−4−ペンゾイルオキシ
ビベリジン2.6mgを用いた以外は実施例1と同様に
実施したところ、4−t−ブチルシクロヘキサノンはま
ったく生成しなかった。
比較例3
実施例1で用いた重曹を飽和させた25%臭化ナトリウ
ム水溶液のかわりに重曹を飽和させた5%過塩素酸リチ
ウム水溶液を用いた以外は実施例1と同様に実施したと
ころ、2,0フアラデ一1モルの通電量で4−1−ブチ
ルシクロヘキサノンが収率5%でえられた。
ム水溶液のかわりに重曹を飽和させた5%過塩素酸リチ
ウム水溶液を用いた以外は実施例1と同様に実施したと
ころ、2,0フアラデ一1モルの通電量で4−1−ブチ
ルシクロヘキサノンが収率5%でえられた。
[発明の効果]
本発明の方法によれば、電解によるN−オキシル化合物
のニトロソニウム塩への酸化と、ニトロソニウム塩によ
る2級アルコールに相当するケトンへの酸化を単一の電
解槽内でしかもN−オキシル化合物を触媒的に用いてニ
トロソニウム塩の再生とアルコールの酸化を連続的に行
なうことができ、高収率かつ高電流効率で工業的にケト
ンを製造しつるという効果が奏される。
のニトロソニウム塩への酸化と、ニトロソニウム塩によ
る2級アルコールに相当するケトンへの酸化を単一の電
解槽内でしかもN−オキシル化合物を触媒的に用いてニ
トロソニウム塩の再生とアルコールの酸化を連続的に行
なうことができ、高収率かつ高電流効率で工業的にケト
ンを製造しつるという効果が奏される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 2級アルコールをN−オキシル化合物とともに電解
することを特徴とする2級アルコールからケトンへの酸
化方法。 2 ハロゲン含有化合物の水溶液を電解液とし用いる請
求項1記載の酸化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63259908A JP2604827B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 2級アルコールからケトンへの酸化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63259908A JP2604827B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 2級アルコールからケトンへの酸化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02107791A true JPH02107791A (ja) | 1990-04-19 |
| JP2604827B2 JP2604827B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=17340604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63259908A Expired - Fee Related JP2604827B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 2級アルコールからケトンへの酸化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2604827B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913382A1 (de) * | 1997-06-06 | 1999-05-06 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Aldehyden und Ketonen |
| JP2002146575A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-22 | Otsuka Chem Co Ltd | N−オキシル化合物、シリカゲル結合n−オキシル化合物及びそれを用いたアルコールより高次な酸化物の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63259908A patent/JP2604827B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J AM CHEM SOC=1983 * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913382A1 (de) * | 1997-06-06 | 1999-05-06 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Verfahren zur Herstellung von Aldehyden und Ketonen |
| US6069282A (en) * | 1997-06-06 | 2000-05-30 | Consortium Fur Elektrochemische Industrie Gmbh | Process for the preparation of aldehydes and ketones |
| US6169213B1 (en) * | 1997-06-06 | 2001-01-02 | Consortium f{umlaut over (u)}r elektrochemische Industrie GmbH | Process for the preparation of heteroaryl aldehydes and heteroaryl ketones |
| JP2002146575A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-22 | Otsuka Chem Co Ltd | N−オキシル化合物、シリカゲル結合n−オキシル化合物及びそれを用いたアルコールより高次な酸化物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2604827B2 (ja) | 1997-04-30 |
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