JPH02110558A - 印刷材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/268—Processing baths not provided for elsewhere, e.g. pre-treatment, stop, intermediate or rinse baths
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、印刷材料、特にハロゲン化銀写真感光材料を
現像処理した印刷材料に関するものである。
現像処理した印刷材料に関するものである。
〔発明の背ill
近年、印刷製版の分野においては、省力化及び合理化作
業環境の改善の為、暗室下で行われていたいわゆる返し
工程作業を明るい部屋でできるようにする為の技術が要
求され、感光材料、その他の材料及び装置の改良の研究
が行われている。
業環境の改善の為、暗室下で行われていたいわゆる返し
工程作業を明るい部屋でできるようにする為の技術が要
求され、感光材料、その他の材料及び装置の改良の研究
が行われている。
明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に富む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等に感光するハロゲン化銀写
真感光材料が挙げられる。
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等に感光するハロゲン化銀写
真感光材料が挙げられる。
これらのハロゲン化銀写真感光材料は、100〜300
ルクスという明るい一般蛍光灯又は紫外線量の少ない専
用の蛍光灯下で取り扱うことができる。
ルクスという明るい一般蛍光灯又は紫外線量の少ない専
用の蛍光灯下で取り扱うことができる。
ところで、このような利点を有する一方、現像処理後に
得られる黒化画像中にピンホールと言われる欠陥が認め
られる。
得られる黒化画像中にピンホールと言われる欠陥が認め
られる。
尚、ここで言うピンホールとは、黒化画像中に約30ミ
クロン以内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形
もしくは不定形であるが、あたかもピンで刺した穴状に
見えることからつけられたものである。
クロン以内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形
もしくは不定形であるが、あたかもピンで刺した穴状に
見えることからつけられたものである。
そして、発生したピンホールに対してはオペ−キング(
穴埋め、画像修正作業)で対処しなければならず、著し
く作業効率を悪くしていた。
穴埋め、画像修正作業)で対処しなければならず、著し
く作業効率を悪くしていた。
このような観点から、ピンホールの発生のない、あるい
は著しく少ない技術の開発が待たれていたのである。
は著しく少ない技術の開発が待たれていたのである。
本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料が現像処理
されてなる印刷材料にピンホールの発生がないもしくは
著しく少ない印刷材料を提供することにある。
されてなる印刷材料にピンホールの発生がないもしくは
著しく少ない印刷材料を提供することにある。
上記の本発明の目的は、ヒドラジン化合物及びテトラゾ
リウム化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化
合物と、感光性ハロゲン化銀粒子とを含有するハロゲン
化銀写真感光材料が現像処理されてなる印刷材料であっ
て、現像処理工程より後の工程で帯電防止処理が施され
たことを特徴とする印刷材料によって達成される。
リウム化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化
合物と、感光性ハロゲン化銀粒子とを含有するハロゲン
化銀写真感光材料が現像処理されてなる印刷材料であっ
て、現像処理工程より後の工程で帯電防止処理が施され
たことを特徴とする印刷材料によって達成される。
尚、ここで現像処理工程とは現像、定着、水洗からなる
各工程をいい、現像処理工程より後の工程とは、上記工
程中(例えば現像処理中、定着処理中、水洗処理中)あ
るいはこれより後の工程、例えば上記の工程後に設けら
れた後述の帯電防止処理槽に搬送する工程等を挙げるこ
とができる。
各工程をいい、現像処理工程より後の工程とは、上記工
程中(例えば現像処理中、定着処理中、水洗処理中)あ
るいはこれより後の工程、例えば上記の工程後に設けら
れた後述の帯電防止処理槽に搬送する工程等を挙げるこ
とができる。
そして、帯電防止処理としては、帯電防止剤を含む液体
又は気体に接触処理させることが考えられ、例えば第1
図に示す如く、帯電防止剤を含有する水溶液又はジエチ
レングリコール、ジェタノールアミン、メタノール、エ
タノール、イソプロパツール等の有機溶媒若しくはこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒に帯電防止剤を溶解せし
めた溶液を作り、この溶液に含浸させた後、乾燥処理し
たり、第2図に示す如く、含浸ローラーを介して処理し
たり、第3図に示す如く、ノズル塗布(ノズル角度は0
−180″の任意)と含浸ローラーとで処理したり、第
4図に示す如(、ノズルで供給された帯電防止剤を含む
溶液をローラーを介して処理したり、第5図に示す如く
、垂直方向に搬送される現像済のハロゲン化銀写真材料
に対してその両側からノズルで帯電防止剤を含む溶液を
供給して処理したり、第6図に示す如く、帯電防止剤を
含む溶液をノズルで噴霧供給して処理したり、第7図に
示す如く、現像済のハロゲン化銀写真感光材料に電荷を
与え、そして帯電防止剤を含む溶液をノズルで供給した
り、あるいは第8図に示す如く、帯電防止剤を含む溶液
を供給した後、光(紫外線あるいは可視光)や熱(赤外
線)、その他電子線で処理することによって、帯電防止
剤を介在させることができる。
又は気体に接触処理させることが考えられ、例えば第1
図に示す如く、帯電防止剤を含有する水溶液又はジエチ
レングリコール、ジェタノールアミン、メタノール、エ
タノール、イソプロパツール等の有機溶媒若しくはこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒に帯電防止剤を溶解せし
めた溶液を作り、この溶液に含浸させた後、乾燥処理し
たり、第2図に示す如く、含浸ローラーを介して処理し
たり、第3図に示す如く、ノズル塗布(ノズル角度は0
−180″の任意)と含浸ローラーとで処理したり、第
4図に示す如(、ノズルで供給された帯電防止剤を含む
溶液をローラーを介して処理したり、第5図に示す如く
、垂直方向に搬送される現像済のハロゲン化銀写真材料
に対してその両側からノズルで帯電防止剤を含む溶液を
供給して処理したり、第6図に示す如く、帯電防止剤を
含む溶液をノズルで噴霧供給して処理したり、第7図に
示す如く、現像済のハロゲン化銀写真感光材料に電荷を
与え、そして帯電防止剤を含む溶液をノズルで供給した
り、あるいは第8図に示す如く、帯電防止剤を含む溶液
を供給した後、光(紫外線あるいは可視光)や熱(赤外
線)、その他電子線で処理することによって、帯電防止
剤を介在させることができる。
尚、第1図〜第8図中、Wは水洗槽、Fは現像処理済の
写真材料、Aは帯電防止剤含有液槽、Nはノズル、Rは
ローラーである。
写真材料、Aは帯電防止剤含有液槽、Nはノズル、Rは
ローラーである。
そして、上記本発明の帯電防止処理に用いられる帯電防
止剤としては各種の導電性材料、例えばイオン性又はノ
ニオン系の界面活性剤あるいは高分子導電材料等が挙げ
られるものの、フッ素系のアニオン性化合物が望ましい
。
止剤としては各種の導電性材料、例えばイオン性又はノ
ニオン系の界面活性剤あるいは高分子導電材料等が挙げ
られるものの、フッ素系のアニオン性化合物が望ましい
。
尚、このフッ素系のアニオン性化合物としては、例えば
酸性基を有するアニオン性弗素系界面活性剤があり、こ
の化合物の好ましい代表例として、下記−層成(1−a
) (1−b) (1−c)N−d)(1−e)で
表される化合物を挙げることができる。但し、本発明に
用い得るアニオン性弗素系界面活性剤はこれらに限定さ
れるものではない。
酸性基を有するアニオン性弗素系界面活性剤があり、こ
の化合物の好ましい代表例として、下記−層成(1−a
) (1−b) (1−c)N−d)(1−e)で
表される化合物を挙げることができる。但し、本発明に
用い得るアニオン性弗素系界面活性剤はこれらに限定さ
れるものではない。
一般式(1−a)
(但し、−層成(r−a)中、R8は炭素原子数1〜3
2のアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基等を表すが、これらの基は少なくとも1つの弗素原
子で置換されている。しは2価の結合基を表し、例えば
−(−C1lIC1l!0ヒ1SOJ (CHs )
、 5OJH−を表す、Aはスルホン酸基又はカ
ルボン酸基を表す、又、n+ + n 1はO〜4の整
数を表す。
2のアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基等を表すが、これらの基は少なくとも1つの弗素原
子で置換されている。しは2価の結合基を表し、例えば
−(−C1lIC1l!0ヒ1SOJ (CHs )
、 5OJH−を表す、Aはスルホン酸基又はカ
ルボン酸基を表す、又、n+ + n 1はO〜4の整
数を表す。
一般式(1−b)
一般式(1−c)
Rs OCO−CH*
Kq LJl、;IJ L;It Hm(但し、
−層成(+−b)、(1−c)中、h。
−層成(+−b)、(1−c)中、h。
Rs、Rs、R&及びR1は、それぞれ炭素原子数1〜
32の直鎖又は分岐状のアルキル基で、例えばメチル基
、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、オクタデシル基等を表すが、環状をなすアルキル基
でもよく、これらの基は少なくとも1つの弗素原子で置
換されている。又、Rx、 Rs、Rs、Rh及びR1
は、それぞれアリール基、例えばフェニル基、ナフチル
基等を表し、これらのアリール基は少なくとも1つの弗
素原子又は少なくとも1つの弗素原子で置換された基で
置換されている。
32の直鎖又は分岐状のアルキル基で、例えばメチル基
、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、オクタデシル基等を表すが、環状をなすアルキル基
でもよく、これらの基は少なくとも1つの弗素原子で置
換されている。又、Rx、 Rs、Rs、Rh及びR1
は、それぞれアリール基、例えばフェニル基、ナフチル
基等を表し、これらのアリール基は少なくとも1つの弗
素原子又は少なくとも1つの弗素原子で置換された基で
置換されている。
さらに、R4及びR1はカルボキシラド基、スルホナト
基又はリン酸基等の酸基を表す、)−層成(1−d) (但し、−触式(+−d)中、R9は炭素原子数1〜3
2の飽和、不飽和の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し
、例えば飽和アルキル基としては、メチル基、エチル基
、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ドデシル基、
オクタデシル基等を表し、不飽和アルキル基としては例
えばアリル基、ブテニル基、オクテニル基等を表す、そ
してこれらの飽和、不飽和のアル、キル基は少なくとも
1つの弗素原子で置換されている。R8及びn、はI〜
3の整数を示す、又、R4はO〜6の整数を表す、)−
IQ式(I−e) (但し、−層成(1−e)中、Yは硫黄原子、セレン原
子、酸素原子、窒素原子又はll++基(こN− こでR8は水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基
、例えばメチル基、エチル基を表す)を表し、R5,は
、前記−層成〔夏−a〕におけるR5で表される基と同
義の基又は少なくとも1つの弗素原子で置換されたアリ
ール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)を表す、又
、Zは、5貝又は6員ヘテロ環を形成するのに必要な原
子群を表し、これらの例としては、チアゾール環、セレ
ナゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、ピラゾ
ール環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリミジン
環、トリアジン環等を挙げることができる。
基又はリン酸基等の酸基を表す、)−層成(1−d) (但し、−触式(+−d)中、R9は炭素原子数1〜3
2の飽和、不飽和の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し
、例えば飽和アルキル基としては、メチル基、エチル基
、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、ドデシル基、
オクタデシル基等を表し、不飽和アルキル基としては例
えばアリル基、ブテニル基、オクテニル基等を表す、そ
してこれらの飽和、不飽和のアル、キル基は少なくとも
1つの弗素原子で置換されている。R8及びn、はI〜
3の整数を示す、又、R4はO〜6の整数を表す、)−
IQ式(I−e) (但し、−層成(1−e)中、Yは硫黄原子、セレン原
子、酸素原子、窒素原子又はll++基(こN− こでR8は水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基
、例えばメチル基、エチル基を表す)を表し、R5,は
、前記−層成〔夏−a〕におけるR5で表される基と同
義の基又は少なくとも1つの弗素原子で置換されたアリ
ール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)を表す、又
、Zは、5貝又は6員ヘテロ環を形成するのに必要な原
子群を表し、これらの例としては、チアゾール環、セレ
ナゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、ピラゾ
ール環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリミジン
環、トリアジン環等を挙げることができる。
上記のへテロ環には更にアルキル基、アリール基等の置
換基を有してもよく、又これらの置換基には弗素原子が
置換されてもよい。
換基を有してもよく、又これらの置換基には弗素原子が
置換されてもよい。
次に、上記−層成(+−a)乃至〔■〜e]で表される
酸性基を有するアニオン性弗素系界面活性剤の具体例を
以下(1)〜(39)に示すが、本発明に用いることが
できる化合物はこれらに限定されるものではない。
酸性基を有するアニオン性弗素系界面活性剤の具体例を
以下(1)〜(39)に示すが、本発明に用いることが
できる化合物はこれらに限定されるものではない。
(例示化合物ン
CF!(Crt)++OOC−C)ItCFs(CFt
)++OOCCHSOs−(13)Ch(Ch)scF
(CtFs)CFtOOC−CLl CFs(CFt)sCF(CmFs)CFtOOCCH
30sCh(CFt)?− 0C −SO。
)++OOCCHSOs−(13)Ch(Ch)scF
(CtFs)CFtOOC−CLl CFs(CFt)sCF(CmFs)CFtOOCCH
30sCh(CFt)?− 0C −SO。
CFscPcF3
hCFCh
CPg−CF−CFz
CHlCOOCstllt(isO)
C,lIS
以下余白)
尚、上記した帯電防止剤の帯電防止処理による介在量は
約10−s〜10−8モル/−8あればよい。
約10−s〜10−8モル/−8あればよい。
又、本発明に用いられるヒドラジン化合物には、好まし
くは下記−層成(n−a)で表される化合物がある。
くは下記−層成(n−a)で表される化合物がある。
一般式(II−a)
式中、RIは1価の有機残基を表し、R1は水素原子又
は1価の有機残基を表し、01及びQ2は水素原子、ア
ルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、ア
リールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表
し、X、は酸素原子又はイオウ原子を表す、−層成〔■
−a〕で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR寞が水素原子である化合物が特に好ましい。
は1価の有機残基を表し、01及びQ2は水素原子、ア
ルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、ア
リールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表
し、X、は酸素原子又はイオウ原子を表す、−層成〔■
−a〕で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR寞が水素原子である化合物が特に好ましい。
上記R1及びR1の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基等)のついたものを含む、置換基のついた
ものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル基、
4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基、
4−ドデシルフェニルli、4−4ルポキシフエニル基
、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノ
フェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセ
トアミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル基、4− (2−(2,4−ジー
tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フェニル
基、4−(2−(2,4−ジーtar t−ブチルフェ
ノキシ)ブチルアミド〕フェニル基等を挙げることがで
きる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基等)のついたものを含む、置換基のついた
ものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル基、
4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基、
4−ドデシルフェニルli、4−4ルポキシフエニル基
、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノ
フェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセ
トアミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル基、4− (2−(2,4−ジー
tert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フェニル
基、4−(2−(2,4−ジーtar t−ブチルフェ
ノキシ)ブチルアミド〕フェニル基等を挙げることがで
きる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、又はセレン原
子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の単
環又は縮合環で、これらに置換基がついてもよい、具体
的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン環、
インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環
、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、ベン
ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環等の残基を挙
げることが出来る。
子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の単
環又は縮合環で、これらに置換基がついてもよい、具体
的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン環、
インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環
、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、ベン
ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環等の残基を挙
げることが出来る。
これらの複素環、は、炭素数1〜4のアルキル基、炭素
数1〜4のアルコキシ基、炭素数6〜18のアリール基
や、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、アミノ基等で置換されていてもよい。
数1〜4のアルコキシ基、炭素数6〜18のアリール基
や、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、シアノ基
、アミノ基等で置換されていてもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、!−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、!−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロへキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基等を挙げることがで
きる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロへキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基等を挙げることがで
きる。
又、アルケニル基としては例えばアリル(allyl)
基、アルキニルとしては例えばプロパルギル基を挙げる
ことができる。
基、アルキニルとしては例えばプロパルギル基を挙げる
ことができる。
尚、本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下
に示すが、本発明は何等これによって限定されるもので
はない。
に示すが、本発明は何等これによって限定されるもので
はない。
(II−1) 1−ホルミル−2−(4−(2−(2,
4−ジーtertブチルフェノキシ)ブチルアミド)フ
ェニル)ヒドラジン (■−2) 1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (n−3)!−ホルミルー2−(p−トリル)ヒドラジ
ン(n−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル
)ヒドラジン (■−5) 1−ホルミル−2−(4−アセトアミド−
2−メチルフェニル)ヒドラジン (II−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフ
ヱニル)ヒドラジン (■−7)1−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒドラジン (n−8)1−ホルミル−2−(4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジン (n−9)1−チオホルミル−2−(4−(2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミドフ
ェニル)ヒドラジン (n−10)1−ホルミル−2−(4−ベンジルアミノ
フェニル)ヒドラジン (n−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (It−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェ
ニル)ヒドラジン (■−13)l−アセチル−2−(4−2−2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミドフェニル )ヒドラジン (ll−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(n
−15)1−アセチル−1−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−2−フェニルヒドラジン (II−16)l−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジン(
It−17)1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン <1148)1−(4−アセトキシフェニル)−2−ホ
ルミル1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラ
ジン (It−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシ
フェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−
ヒドラジン (II −20) 1−ホルミル−2−〔4−テトラヒ
ドロ−2トビラン−2−イルオキシ〕−フェニル) −
2−(4メチルフエニルスルホニル)−ヒドラジン(n
−21)1−ホルミル−2−(4−(3−へキシルウレ
イドフェニル) )−2−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジン (n−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−[4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル)−ヒドラジン(II−23)1−
(4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)−2−
ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (n−24N−ホルミル−2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)−2−(4−(3− メチル−3− フェニル−2 (If −29) 一チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン (■弓ツ)1− (3−(4−(2,4− フェノキシ)− ブチル〕 ビス−1 アミル ウレイド) フエ (M −30) ニル) 2−ホルミル−1− (4−メ チルフェニルスルホニル)−ヒドラジン(II −26
) II −31) (II −27) (n −32) (II−28) (n −33) (II−34) (II −39) (n−35) (n −4’0) (II −36) (If−41) (II −37) (■−42) (n −38) (II −43) CsL t (t) (■ (n −45> (n −47) (n −48) (以下余白) (II −55) (II −56) (n−57> (■ (■−59) 上記−触式(II−a)で表されるヒドラジン化合物の
添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/又は支持体上のハ
ロゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましく
はハロゲン化銀乳剤層及び/又はその下層である。
4−ジーtertブチルフェノキシ)ブチルアミド)フ
ェニル)ヒドラジン (■−2) 1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (n−3)!−ホルミルー2−(p−トリル)ヒドラジ
ン(n−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル
)ヒドラジン (■−5) 1−ホルミル−2−(4−アセトアミド−
2−メチルフェニル)ヒドラジン (II−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフ
ヱニル)ヒドラジン (■−7)1−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒドラジン (n−8)1−ホルミル−2−(4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジン (n−9)1−チオホルミル−2−(4−(2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミドフ
ェニル)ヒドラジン (n−10)1−ホルミル−2−(4−ベンジルアミノ
フェニル)ヒドラジン (n−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (It−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェ
ニル)ヒドラジン (■−13)l−アセチル−2−(4−2−2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミドフェニル )ヒドラジン (ll−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(n
−15)1−アセチル−1−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−2−フェニルヒドラジン (II−16)l−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジン(
It−17)1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン <1148)1−(4−アセトキシフェニル)−2−ホ
ルミル1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラ
ジン (It−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシ
フェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−
ヒドラジン (II −20) 1−ホルミル−2−〔4−テトラヒ
ドロ−2トビラン−2−イルオキシ〕−フェニル) −
2−(4メチルフエニルスルホニル)−ヒドラジン(n
−21)1−ホルミル−2−(4−(3−へキシルウレ
イドフェニル) )−2−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジン (n−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−[4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル)−ヒドラジン(II−23)1−
(4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)−2−
ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (n−24N−ホルミル−2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)−2−(4−(3− メチル−3− フェニル−2 (If −29) 一チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン (■弓ツ)1− (3−(4−(2,4− フェノキシ)− ブチル〕 ビス−1 アミル ウレイド) フエ (M −30) ニル) 2−ホルミル−1− (4−メ チルフェニルスルホニル)−ヒドラジン(II −26
) II −31) (II −27) (n −32) (II−28) (n −33) (II−34) (II −39) (n−35) (n −4’0) (II −36) (If−41) (II −37) (■−42) (n −38) (II −43) CsL t (t) (■ (n −45> (n −47) (n −48) (以下余白) (II −55) (II −56) (n−57> (■ (■−59) 上記−触式(II−a)で表されるヒドラジン化合物の
添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/又は支持体上のハ
ロゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましく
はハロゲン化銀乳剤層及び/又はその下層である。
そして、添加量はto−’〜10−1モル/銀1モルが
(■−49) (II−50) (If −51) (II−52) (II−53) (If −54) 好ましく、さらに好ましくは10− ’〜10−”モル
/根1モルである。
(■−49) (II−50) (If −51) (II−52) (II−53) (If −54) 好ましく、さらに好ましくは10− ’〜10−”モル
/根1モルである。
又、本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
説明する。
このテトラゾリウム化合物の好ましいものとして、次の
一般式〔■−b]、(II−c)又は[l]−d)で示
されるものがある。
一般式〔■−b]、(II−c)又は[l]−d)で示
されるものがある。
一般式〔■−b〕
一般式(■
C〕
一般式(II−d)
式中、Ra、 Rs、 Ra1Rs、 Ra、 Rq、
R+*及びRoは、それぞれアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケ
ニル基(例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)
、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキ
シフェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル
基、メルカプトフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基、ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフチル基
、アミノナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾ
リル基、ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミ
ジニル基、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これ
らはいずれも金属キレートあるいは錯体を形成するよう
な基でもよい。
R+*及びRoは、それぞれアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケ
ニル基(例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)
、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキ
シフェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル
基、メルカプトフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基、ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフチル基
、アミノナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾ
リル基、ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミ
ジニル基、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これ
らはいずれも金属キレートあるいは錯体を形成するよう
な基でもよい。
R1,R4及びR7は、それぞれアリル基、置換基を有
してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル
基、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メチル
カプトエチル基等)、ヒドロキシ基、カルボキシル基又
はその塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メル
カプト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を表
し、Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基、
アリレン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、X
−はアニオンを表し、nは1又は2の整数を表す、ただ
し化合物が分子内塩を形成する場合nは1である。
してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル
基、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メチル
カプトエチル基等)、ヒドロキシ基、カルボキシル基又
はその塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メル
カプト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を表
し、Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基、
アリレン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、X
−はアニオンを表し、nは1又は2の整数を表す、ただ
し化合物が分子内塩を形成する場合nは1である。
次に前記一般式(II−b)、(n−c)又は(II−
d)で表されるテトラゾリウム化合物の具体例を示すが
、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
d)で表されるテトラゾリウム化合物の具体例を示すが
、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
(II−61) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3−フェニル−5−ドデシル−2トチトラゾリウム(
II−62) 2.3−ジフェニル−5−(4−t−オ
クチルオキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II −63) 2.3.5− )リフユニルー2
トチトラゾリウム (II −64) 2.3.5− )す(p−カルボ
キシエチルフェニル)−2トチトラゾリウム (■−65) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3−フェニル−5−(o−クロロフェニル)−2H−
テトラゾリウム (II−66) 2.3−ジフェニル−2H−テトラ
ゾリウム(■−67) 2.3−ジフェニル−5−メ
チル−2トテトラゾリウ゛ム (II −68) 3− (p−ヒドロキシフェニル
)−5−メチル−2−フェニル−2トチトラゾリウム (If−69) 2.3−ジフェニル−5−エチル−
2H−テトラゾリウム (n−70) 2.3−ジフェニル−5−n−ヘキシ
ル−2トチトラゾリウム (n−71) 5−シアノ−2,3−ジフェニル−2
トチトラゾリウム (n−72> 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−5−フェニル−3−(4−トリル)−2トチトラゾリ
ウム (I[−73) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル
)−5−(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフ
ェニル)−2トチトラゾリウム (If−74) 5−エトキシカルボニル、2.3−
ジ(3−ニトロフェニル)−2トチトラゾリウム (II−75) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エ
トキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−76) 2.5−ジフェニル−3−(p−)
リル)−2トチトラゾリウム (II−77) 2.5−ジフェニル−3−(p−コ
ードフェニル)−2トチトラゾリウム (II−78) 2.3−ジフェニル−5−(p−ジ
フェニル)−2H−テトラゾリウム (n −79) 5− (p−ブロモフェニル)−2
−フェニル−3−(2,4,6−ドリクロロフエニル)
−2トチトラゾリウム (II −80) 3− (p−ヒドロキシフェニル
) −5−(p−二トロフェニル)−2−フェニル−2
トチトラゾリウム (II−81) 5−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−(2−エトキシフェニル) −2−(4−メト
キシフェニル)−2■−テトラゾリウム (TI−82) 5−(4−シアノフェニル)−2,
3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (If −83) 3− (p−アセトアミドフェニ
ル)−2,5−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (u−84) 5−アセチル−2,3−ジフェニル−
2トチトラゾリウム (n−85) 5−(フラン−2−イル) −2,3
−ジフェニル−2トチトラゾリウム (n−86) 5−(チオフェン−2−イル)−2,
3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−87) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−
4−イル)−2H−テトラゾリウム (n−88) 2.3−ジフェニル−5−(キノール
−2−イル)−2トチトラゾリウム (II−89) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾ
オキサゾール−2−イル)−2H−テトラゾリウム(I
I −90) 2.3.5−トリ(p−エチルフェニ
ル)−28−テトラゾリウム (II −9,1) 2.3.5−1−リ(p−アリ
ルフェニル)−28テトラゾリウム (II −92) 2,3.5− トリ(p−ヒドロ
キシエチルオキシエトキシフェニル)−2トチトラゾリ
ウム (II−93) 2.3.5−)す(p−ドデシルフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (![−94) 2.3.5−)す(p−ベンジルフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム 前記−層成(■−b)ないしくII−c)におけるX=
で表されるアニオンとしてはハロゲンイオン、例えばC
i−を挙げることができる。
−3−フェニル−5−ドデシル−2トチトラゾリウム(
II−62) 2.3−ジフェニル−5−(4−t−オ
クチルオキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II −63) 2.3.5− )リフユニルー2
トチトラゾリウム (II −64) 2.3.5− )す(p−カルボ
キシエチルフェニル)−2トチトラゾリウム (■−65) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3−フェニル−5−(o−クロロフェニル)−2H−
テトラゾリウム (II−66) 2.3−ジフェニル−2H−テトラ
ゾリウム(■−67) 2.3−ジフェニル−5−メ
チル−2トテトラゾリウ゛ム (II −68) 3− (p−ヒドロキシフェニル
)−5−メチル−2−フェニル−2トチトラゾリウム (If−69) 2.3−ジフェニル−5−エチル−
2H−テトラゾリウム (n−70) 2.3−ジフェニル−5−n−ヘキシ
ル−2トチトラゾリウム (n−71) 5−シアノ−2,3−ジフェニル−2
トチトラゾリウム (n−72> 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−5−フェニル−3−(4−トリル)−2トチトラゾリ
ウム (I[−73) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル
)−5−(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフ
ェニル)−2トチトラゾリウム (If−74) 5−エトキシカルボニル、2.3−
ジ(3−ニトロフェニル)−2トチトラゾリウム (II−75) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エ
トキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−76) 2.5−ジフェニル−3−(p−)
リル)−2トチトラゾリウム (II−77) 2.5−ジフェニル−3−(p−コ
ードフェニル)−2トチトラゾリウム (II−78) 2.3−ジフェニル−5−(p−ジ
フェニル)−2H−テトラゾリウム (n −79) 5− (p−ブロモフェニル)−2
−フェニル−3−(2,4,6−ドリクロロフエニル)
−2トチトラゾリウム (II −80) 3− (p−ヒドロキシフェニル
) −5−(p−二トロフェニル)−2−フェニル−2
トチトラゾリウム (II−81) 5−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−(2−エトキシフェニル) −2−(4−メト
キシフェニル)−2■−テトラゾリウム (TI−82) 5−(4−シアノフェニル)−2,
3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (If −83) 3− (p−アセトアミドフェニ
ル)−2,5−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (u−84) 5−アセチル−2,3−ジフェニル−
2トチトラゾリウム (n−85) 5−(フラン−2−イル) −2,3
−ジフェニル−2トチトラゾリウム (n−86) 5−(チオフェン−2−イル)−2,
3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−87) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−
4−イル)−2H−テトラゾリウム (n−88) 2.3−ジフェニル−5−(キノール
−2−イル)−2トチトラゾリウム (II−89) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾ
オキサゾール−2−イル)−2H−テトラゾリウム(I
I −90) 2.3.5−トリ(p−エチルフェニ
ル)−28−テトラゾリウム (II −9,1) 2.3.5−1−リ(p−アリ
ルフェニル)−28テトラゾリウム (II −92) 2,3.5− トリ(p−ヒドロ
キシエチルオキシエトキシフェニル)−2トチトラゾリ
ウム (II−93) 2.3.5−)す(p−ドデシルフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (![−94) 2.3.5−)す(p−ベンジルフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム 前記−層成(■−b)ないしくII−c)におけるX=
で表されるアニオンとしてはハロゲンイオン、例えばC
i−を挙げることができる。
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、1種を用い
てもよく、又、2種以上を任意の比率で組み合わせて併
用することもできる。
てもよく、又、2種以上を任意の比率で組み合わせて併
用することもできる。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又、本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する非
感光性親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する
非感光性親水性コロイド層に添加される。
るテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又、本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する非
感光性親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する
非感光性親水性コロイド層に添加される。
又、別の態様としては、本発明に係わるテトラゾリウム
化合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀
乳剤層側の最外層になる部分に直?!塗布して感光材料
に含有せしめてもよい。
化合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀
乳剤層側の最外層になる部分に直?!塗布して感光材料
に含有せしめてもよい。
又、本発明に係わるテトラゾリウム化合物は本発明の感
光材料に含有されるハロゲン化銀1モル当りlXl0−
hモルから10モルまで、特に2X10−’モルから2
X10−’モルまでの範囲で用いるのが好ましい。
光材料に含有されるハロゲン化銀1モル当りlXl0−
hモルから10モルまで、特に2X10−’モルから2
X10−’モルまでの範囲で用いるのが好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の好ましい層構成と
しては、支持体上の支持体側からもっとも近い層として
ハロゲン化銀乳剤層を設ける。
しては、支持体上の支持体側からもっとも近い層として
ハロゲン化銀乳剤層を設ける。
その上層に染料層として、下層のハロゲン化銀乳剤層が
有する感光極大より長波に吸収極大をもつ化合物を含む
層が塗布されたものを挙げることができる。上記二層の
上下あるいは中間には、下引層、中間層あるいは保護層
などの層が設けられていてもよい。
有する感光極大より長波に吸収極大をもつ化合物を含む
層が塗布されたものを挙げることができる。上記二層の
上下あるいは中間には、下引層、中間層あるいは保護層
などの層が設けられていてもよい。
本発明の好ましい実施態様は、上述のハロゲン化銀乳剤
層中にヒドラジン化合物が含有され、その上層に塗布さ
れる該ハロゲン化根粒子の感光極大より50na長波に
吸収極大をもつ化合物を含む層中に金属酸化物を含有さ
せる方法である。
層中にヒドラジン化合物が含有され、その上層に塗布さ
れる該ハロゲン化根粒子の感光極大より50na長波に
吸収極大をもつ化合物を含む層中に金属酸化物を含有さ
せる方法である。
尚、金属酸化物を含む層は感光材料の支持体からもっと
も遠い層でよく、言いかえれば最外層に存在させるのが
もっとも好ましい、この最外層は、乳剤層側が好ましい
が、バッキング層側でもよい。
も遠い層でよく、言いかえれば最外層に存在させるのが
もっとも好ましい、この最外層は、乳剤層側が好ましい
が、バッキング層側でもよい。
層の最外層中に含有させる金属酸化物は、酸化インジウ
ム、酸化スズ或いはアンチモン原子又はリン原子をドー
プした金属酸化物のいづれか又はこれらの組合わせを用
いることができる。
ム、酸化スズ或いはアンチモン原子又はリン原子をドー
プした金属酸化物のいづれか又はこれらの組合わせを用
いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で、少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが
好ましい、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5μ−の範囲のものが好ましく用いられるが、0.
05〜0.30μ−がより好ましい。
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で、少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが
好ましい、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5μ−の範囲のものが好ましく用いられるが、0.
05〜0.30μ−がより好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の稜長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径て割った値を100倍した数値で表す。
晶粒子の稜長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径て割った値を100倍した数値で表す。
ここで、riは粒径、nlは粒径rlの粒子の個数、7
は粒径の平均を表す。
は粒径の平均を表す。
又、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なくと
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる0例えばコア部に塩化銀、シェル部
に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀であ
る塩臭化銀粒子であってもよい、このときヨードは任意
の層に5%モル以内で含有させることができる。
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる0例えばコア部に塩化銀、シェル部
に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀であ
る塩臭化銀粒子であってもよい、このときヨードは任意
の層に5%モル以内で含有させることができる。
又、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることもで
きる0例えば粒子は10モル%以下の塩化銀及び5モル
%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板状の
塩沃臭化銀粒子であり、粒子はヨード5モル%以下で塩
化銀50モル%以上含をする立方晶、八面体又は平板状
塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができる。
きる0例えば粒子は10モル%以下の塩化銀及び5モル
%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板状の
塩沃臭化銀粒子であり、粒子はヨード5モル%以下で塩
化銀50モル%以上含をする立方晶、八面体又は平板状
塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができる。
このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒子の
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、又、
コア/シェル法でコアとシェルの組成を変化させて例え
ば内部に金を用いてカブらせてもよい、主粒子と副粒子
は小粒子種よいが、例えば0.025μIl〜t、o
amの任意の値をとることができる。
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、又、
コア/シェル法でコアとシェルの組成を変化させて例え
ば内部に金を用いてカブらせてもよい、主粒子と副粒子
は小粒子種よいが、例えば0.025μIl〜t、o
amの任意の値をとることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度又は階調をコントロールする事ができ
る。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ましい
が、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
塩を添加して感度又は階調をコントロールする事ができ
る。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ましい
が、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い0代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い0代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられるが、1!!1モルに対して10−雫モル
からlO−′モルの範囲が特に有用である。
由に変えられるが、1!!1モルに対して10−雫モル
からlO−′モルの範囲が特に有用である。
又、ロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い、イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−’モルから
101モルの範囲まで好ましく用いることができる。
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い、イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−’モルから
101モルの範囲まで好ましく用いることができる。
本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレン尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラテート、カリウムク
ロロオーレ−ト、 ナトリウムクロロバラダイト等で代
表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるい
は2種以上併用して用いることができる。尚、金増感剤
を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用するこ
ともできる。
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレン尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラテート、カリウムク
ロロオーレ−ト、 ナトリウムクロロバラダイト等で代
表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるい
は2種以上併用して用いることができる。尚、金増感剤
を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用するこ
ともできる。
本発明は、減感色素及び/又は紫外線吸収剤を本発明に
係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめることに
より、その効果を一層高めることができる。
係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめることに
より、その効果を一層高めることができる。
又、本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米
国特許筒2.444.607号、同第2.716.06
2号、同第3,512.982号、西独国出願公告第1
.189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118.411号、特公昭43−4133号、米国
特許筒3.342.596号、特公昭47−4417号
、西独国出願公告第2.149.789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
又は公報に記載されている化合物、好ましくは例えば5
,6−ドリメチレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレンー
7−ヒドロキシーS−トリアゾロ(1,5−a) ピ
リミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシ−3−)リアゾロ(1,5−a) ピリミジン、
7−ヒドロキシ−5−トリアシロン(1,5−a)
ピリミジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシ
=S−)リアゾロ(1、5−a) ピリミジン、没食
子酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ド
デシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メ
ルカプタン1 (1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール)、ベン
ゾトリアゾールm<s、−yロムベンゾトリアゾール、
5−メチルベンゾトリアゾール)、ベンツイミダゾール
類(6−ニドロベンツイミダゾール)等を用いて安定化
することができる。
国特許筒2.444.607号、同第2.716.06
2号、同第3,512.982号、西独国出願公告第1
.189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118.411号、特公昭43−4133号、米国
特許筒3.342.596号、特公昭47−4417号
、西独国出願公告第2.149.789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
又は公報に記載されている化合物、好ましくは例えば5
,6−ドリメチレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレンー
7−ヒドロキシーS−トリアゾロ(1,5−a) ピ
リミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシ−3−)リアゾロ(1,5−a) ピリミジン、
7−ヒドロキシ−5−トリアシロン(1,5−a)
ピリミジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシ
=S−)リアゾロ(1、5−a) ピリミジン、没食
子酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ド
デシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メ
ルカプタン1 (1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール)、ベン
ゾトリアゾールm<s、−yロムベンゾトリアゾール、
5−メチルベンゾトリアゾール)、ベンツイミダゾール
類(6−ニドロベンツイミダゾール)等を用いて安定化
することができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
ではない。
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
ではない。
ジエチルアミノエタノール
ジエチルアミノブタノール
ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオールジメチルア
ミノプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロビルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロバン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパツール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド11)の少なくとも1層及び/又は現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。
ミノプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロビルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロバン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパツール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド11)の少なくとも1層及び/又は現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。
アミノ化合物の含有量は含有させる対象、アミノ化合物
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
又、現像性を高める為に、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げる為に、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げる為に、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許筒2.614,928号、同第2
,525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許筒2,548.520号
、同第2.831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステルのエチレン基を持つ重
合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を
挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲン
化銀を含有しない層、例えばハレーシラン防止層、保護
層、中間層等にも適用できる。
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許筒2.614,928号、同第2
,525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許筒2,548.520号
、同第2.831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステルのエチレン基を持つ重
合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を
挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲン
化銀を含有しない層、例えばハレーシラン防止層、保護
層、中間層等にも適用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばバライタ紙、ポ
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。
110−(CI−CI)、−OH型現像主薬の代表的な
ものとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコ
ール、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビ
ン酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、
メチルハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロキノ
ン、2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4
−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−
メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、
アスコルビン酸ソーダ等がある。
ものとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコ
ール、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビ
ン酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、
メチルハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロキノ
ン、2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4
−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−
メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、
アスコルビン酸ソーダ等がある。
又、11G−(CI(、CI)、−MHI型現像剤とし
ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的なも
ので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、トメチル−p−アミノフェノール等がある
。
ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的なも
ので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニ
ルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニル
フェノール、トメチル−p−アミノフェノール等がある
。
更に、ItN−(C:H=CI) 、 −NHm型現像
則としては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジ
エチルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチル
アニリン、ト(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モ
ルホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
則としては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジ
エチルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチル
アニリン、ト(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モ
ルホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、!−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、!−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
その他、T」、ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・
ホトグラフィック・プロセス第4版(TheTheor
y or The Photograhlc Proc
ess FourthEditlon)第291〜33
4頁及びジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ(Journal of the
^−erlcan Chemical 5ocie
ty)第73巻、第a、 too頁(1951)に記載
されている如き現像剤が本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組
み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方
が好ましい、又、本発明にかかる感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜
硫酸カリ等の亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわ
れることはない、又、保恒剤としてヒドロキシルアミン
、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合その
使用量は現像液B当たり5〜500gが好ましく、より
好ましくは20〜zoosである。
ホトグラフィック・プロセス第4版(TheTheor
y or The Photograhlc Proc
ess FourthEditlon)第291〜33
4頁及びジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ(Journal of the
^−erlcan Chemical 5ocie
ty)第73巻、第a、 too頁(1951)に記載
されている如き現像剤が本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組
み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方
が好ましい、又、本発明にかかる感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜
硫酸カリ等の亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわ
れることはない、又、保恒剤としてヒドロキシルアミン
、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合その
使用量は現像液B当たり5〜500gが好ましく、より
好ましくは20〜zoosである。
又、現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させ
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液12当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液12当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より、極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より、極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
上記の組成になる現像液のpII値は好ましくは9〜1
3であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜
12の範囲が更に好ましい、現像液中の陽イオンについ
ては、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現
像液の活性度を高めることができるので好ましい。
3であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜
12の範囲が更に好ましい、現像液中の陽イオンについ
ては、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現
像液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好
ましく、又、現像時間は2分以内に終了することが一般
的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好結果を
もたらすことが多い、又、現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に、必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿
現象、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現
像、ハンガー現像等の機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好
ましく、又、現像時間は2分以内に終了することが一般
的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好結果を
もたらすことが多い、又、現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に、必要に応じて前硬膜、
中和等の工程を採用することは任意であり、これらは適
宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿
現象、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現
像、ハンガー現像等の機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例−1
pl(3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェ
ット法によりロジウムをi艮1モル当たり1O−5モル
含有する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成
、分散度の粒子を作成した0粒子の成長は、ベンジルア
デニンを1%のゼラチン水溶液11当たり30■8含有
する系で行った。恨とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−L3t3at7テトラザインデンをハロ
ゲン化$11モル当たり600mg加え、その後水洗、
脱塩した。
ット法によりロジウムをi艮1モル当たり1O−5モル
含有する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成
、分散度の粒子を作成した0粒子の成長は、ベンジルア
デニンを1%のゼラチン水溶液11当たり30■8含有
する系で行った。恨とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−L3t3at7テトラザインデンをハロ
ゲン化$11モル当たり600mg加え、その後水洗、
脱塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60−gの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイン
デンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加えた。
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイン
デンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付置になるよう洲整添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1になるラテッ
クス下引処理した(100Ij−厚さ)ポリエチレンテ
レフタレート支持体上に塗布した。
、特開昭59−19941号の実施例−1になるラテッ
クス下引処理した(100Ij−厚さ)ポリエチレンテ
レフタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/
−寥テドラフェニルホスホニウムクロライド30
mg/m” サポニン 200 m8ノー
3ポリエチレングリコール 100 mg/
m”ドデシルベンゼンスルホン酸ヂトリウム100
mg/■意 ハイドロキノン 200 mg/*
”フェニドン !00 糊g/
、#スチレンーマレイン酸重合体200 ■g/嘗1
没食子酸ブチルエステル 500 mg/■茸
ヒドジヒドラジ数式ロトa〕)の化合物表−1に示す。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/
−寥テドラフェニルホスホニウムクロライド30
mg/m” サポニン 200 m8ノー
3ポリエチレングリコール 100 mg/
m”ドデシルベンゼンスルホン酸ヂトリウム100
mg/■意 ハイドロキノン 200 mg/*
”フェニドン !00 糊g/
、#スチレンーマレイン酸重合体200 ■g/嘗1
没食子酸ブチルエステル 500 mg/■茸
ヒドジヒドラジ数式ロトa〕)の化合物表−1に示す。
5−メチルベンツ゛トリアゾール 30 請君/
−82−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン
酸30 腸g/腸1 イナートオセインゼラチン(等電点4.9)1.5
g/−” 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテ
トラゾール 30 mg/+*
寞銀1
2.8g/−寞(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付置になるよう調製塗布し
た。
−82−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン
酸30 腸g/腸1 イナートオセインゼラチン(等電点4.9)1.5
g/−” 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテ
トラゾール 30 mg/+*
寞銀1
2.8g/−寞(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付置になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300 m
g!■冨 マット剤;ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5
μ■)
100 mg/−寡硝酸リチウム塩
30 mII/s’酸処理ゼラチン(等電
点7.0) 1.2 g/s”コロイダルシリカ
50 mg/s茸スチレン−マレイ
ン酸共重合体 100 +H/−”(以下余白) 媒染剤 バッキング染料 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
g!■冨 マット剤;ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5
μ■)
100 mg/−寡硝酸リチウム塩
30 mII/s’酸処理ゼラチン(等電
点7.0) 1.2 g/s”コロイダルシリカ
50 mg/s茸スチレン−マレイ
ン酸共重合体 100 +H/−”(以下余白) 媒染剤 バッキング染料 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
ハイドロキノン 100 mg/
曽8フェニドン 30 、g/
w*意ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチ
レン共重合体 0.5 g/−諺スチレン
ーマレイン酸共重合体100 sg/a”クエン酸
40 mg/−糞すボニ
ン 20G ag/a”ベンゾ
トリアゾール 100 mg7m寞硝酸リ
チウム塩 30 sg/−露(以下
余白) So)K 0sNa オセインゼラチン 2.0g/m章(バ
ッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
曽8フェニドン 30 、g/
w*意ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチ
レン共重合体 0.5 g/−諺スチレン
ーマレイン酸共重合体100 sg/a”クエン酸
40 mg/−糞すボニ
ン 20G ag/a”ベンゾ
トリアゾール 100 mg7m寞硝酸リ
チウム塩 30 sg/−露(以下
余白) So)K 0sNa オセインゼラチン 2.0g/m章(バ
ッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300mg/*’
マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径 4.O
pm 100mg/■
冨コロイダルシリカ 30mg/霞
1オセインゼラチン(等電点4.9) 1.1g
/s″弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50mg/霞諺
以上のようにして得られ試料を露光し、下記に示す現像
液、定着液を使用して現像処理した。
pm 100mg/■
冨コロイダルシリカ 30mg/霞
1オセインゼラチン(等電点4.9) 1.1g
/s″弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50mg/霞諺
以上のようにして得られ試料を露光し、下記に示す現像
液、定着液を使用して現像処理した。
(露光方法)
400〜420n−に比エネルギーの極大を持つEV球
」と呼ばれる米国ヒエージッン(FIISION) 製
の無電極放電光源、または350〜380n−に比エネ
ルギーの極大を持つ10球」と呼ばれる従来の光源をガ
ラス板下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価
できるように原稿と感光材料を載せ露光した。
」と呼ばれる米国ヒエージッン(FIISION) 製
の無電極放電光源、または350〜380n−に比エネ
ルギーの極大を持つ10球」と呼ばれる従来の光源をガ
ラス板下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価
できるように原稿と感光材料を載せ露光した。
く現像液処方〉
ハイドロキノン 25 g1〜フェ
ニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール 0.3g5
−二トロイミダゾール o、os gジエチ
ルアミノプロパン−1,2−ジオール1G 。
ニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール 0.3g5
−二トロイミダゾール o、os gジエチ
ルアミノプロパン−1,2−ジオール1G 。
亜硫酸カリウム 90 。
5−スルホサリチル酸ナトリウム 75 gエチレ
ンジアミン四酢酸ナトリウム g 水で1ffiに仕上げた。
ンジアミン四酢酸ナトリウム g 水で1ffiに仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5とした。
〈定着液処方〉
(m成A)
チオ硫酸アンモニウム
(72,5wt% 水溶液)
240s+j!
7 g
6.5g
g
13.6■l
亜硫酸ナトリウム
酢酸ナトリウム・3水塩
硼酸
クエン酸ナトリウム・2水塩
酢酸(90w t% 水溶液)
組成り)
純水(イオン交換水) 17 5ffi硫
酸(50wt% の水溶液) 4゜7g硫酸ア
ルミニウム(A I! mis換算含量が8.1wL%
の水溶液) 26.5g定着液の使用
時に水500■l中に上記組成A、II成りの順に溶か
し、11に仕上げて用いた。この定着液のpHは約4.
3であった。
酸(50wt% の水溶液) 4゜7g硫酸ア
ルミニウム(A I! mis換算含量が8.1wL%
の水溶液) 26.5g定着液の使用
時に水500■l中に上記組成A、II成りの順に溶か
し、11に仕上げて用いた。この定着液のpHは約4.
3であった。
〈現像処理条件〉
(工 程) (温 度) (時 間)現像 40℃
15秒 定着 35℃ 10秒 水洗 常温 10秒 く帯電防止処理〉 そして、上記のようにして現像処理されたハロゲン化銀
写真材料を、前記した第1図〜第8図の帯電防止処理法
を採用して、帯電防止処理を行なった。
15秒 定着 35℃ 10秒 水洗 常温 10秒 く帯電防止処理〉 そして、上記のようにして現像処理されたハロゲン化銀
写真材料を、前記した第1図〜第8図の帯電防止処理法
を採用して、帯電防止処理を行なった。
評価は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。
(写真性能評価方法)
(1)ピンホール改良性能
貼り込み用ベース上に網フィルムを載せて、更に網フィ
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を「5」、最も発生が多くて悪いレベルをrl、として
5段階評価した。
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を「5」、最も発生が多くて悪いレベルをrl、として
5段階評価した。
(2)抜き文字品質は、50%の網点面積を持つ部分が
、返し用感光材料に50%の網点面積となる適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μ−の線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最
も悪いレベルをrl、として5段階評価をした。
、返し用感光材料に50%の網点面積となる適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μ−の線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最
も悪いレベルをrl、として5段階評価をした。
得られた結果を表−1に示す。
(以下余白)
第1図〜第8図は、本発明に係る印刷材料における帯電
防止処理の概略図である。 W・・・水洗槽、F・・・写真材料、 A・・・帯電防止剤含有液槽、 N・・・ノズル、R・・・ローラー
防止処理の概略図である。 W・・・水洗槽、F・・・写真材料、 A・・・帯電防止剤含有液槽、 N・・・ノズル、R・・・ローラー
Claims (1)
- ヒドラジン化合物及びテトラゾリウム化合物の群の中か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物と感光性ハロゲン化
銀粒子とを含有するハロゲン化銀写真感光材料が現像処
理されてなる印刷材料であって、現像処理工程より後の
工程で帯電防止処理が施されたことを特徴とする印刷材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26288488A JPH02110558A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26288488A JPH02110558A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02110558A true JPH02110558A (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=17381962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26288488A Pending JPH02110558A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02110558A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0514675A1 (en) | 1991-04-22 | 1992-11-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic materials and method for processing the same |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26288488A patent/JPH02110558A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0514675A1 (en) | 1991-04-22 | 1992-11-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic materials and method for processing the same |
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