JPH02114553A - リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents

リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法

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JPH02114553A
JPH02114553A JP63267731A JP26773188A JPH02114553A JP H02114553 A JPH02114553 A JP H02114553A JP 63267731 A JP63267731 A JP 63267731A JP 26773188 A JP26773188 A JP 26773188A JP H02114553 A JPH02114553 A JP H02114553A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、リードフレーム及びそれを用いた半導体装置
の製造技術に関し、特に、超薄形パッケージ構造を備え
た半導体装置に適用して有効な技術に関するものである
〔従来の技術〕
リードフレームについては、例えば、特開昭52−95
173号公報、及び特開昭55−21128号公報に記
載がある。
特開昭52−95173号公報には、半導体ペレット(
以下、ペレットという)とリードフレームとの熱膨張係
数の差に起因してダイパッドに熱応力が加わり、ペレッ
トにクラックが生じたり、あるいはペレットがダイパッ
ドから剥離したりするという問題を解決するため、ダイ
パッドに四角形状の孔や複数の丸孔を形成することによ
って、熱応力を吸収する技術が記載されている。
また、特開昭55−21128号公報には、ダイパッド
を支持する吊りリードの強度を向上させるため、吊りリ
ードをダイパッドの四隅に配設し、これによってダイパ
ッドを支持するという技術が記載されている。
ところで、近年、ICカードや超薄形電子機器の普及に
伴い、これらに実装される超薄形のパッケージ構造を備
えた半導体装置の開発が進行している。
上記超薄形のパッケージ構造については、例えば、三菱
電機株式会社、1987年12月発行、「トリプル・x
 −(TRIPLE^)N(118Jに記載がある。
上記文献に記載された超薄形のパッケージ構造は、V 
S OP (Very Small 0utline 
Package)形のパッケージ構造であり、パッケー
ジの厚さは1ml11と、従来のSOPの2以下の厚さ
になっている。
また、上記パッケージには、厚さ400μmのペレット
が封止され、このペレットとインナリードとは、ワイヤ
を介して結線されている。さらに、このワイヤの上端が
パッケージ上面から露出するのを防止するため、ペレッ
トを搭載するダイパッドは、リードの下方に配置されて
いる。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、本発明者の検討によれば、上記文献に記載さ
れたパッケージ構造には、以下の問題のあることが見い
出された。
すなわち、上記文献(rTRIPIJ A  Nα18
」)に記載された厚さl m11またはそれ以下の超薄
形のパッケージをトランスファモールド方式で形成する
場合においては、その金型のキャビティが極めて狭いた
め、キャビティ内に注入された樹脂の流動性が低下し、
ダイパッドと樹脂との界面などにボイドが発生し易くな
る。
これを防止するためには、低粘度の樹脂を用いてその流
動性を向上させるとともに、キャビティ内を流れる樹脂
の流動速度をペレット上とダイパッド下とで等しくする
必要がある。
ところが、前記特開昭55−21128号公報に記載さ
れたリードフレームを用いて超薄形のパッケージを形成
する場合、ワイヤ上端がパッケージから露出するのを防
止するためにダイパッドをインナリード面よりも下方に
配置しなければならないので、モールド時にリードフレ
ームを金型に挿入すると、ダイパッドと下型との隙間が
、ペレットと上型との隙間よりも狭くなってしまう。
このため、キャビティ内に注入された樹脂が、隙間の狭
いダイパッド下よりも、隙間の広いペレット上に多く流
入してしまう。すなわち、ペレット上を流れる樹脂の方
が、ダイパッド下を流れる樹脂よりも速く流れ、ペレッ
ト上とダイパッド下とを流れる樹脂の圧力が不均一とな
る。すると、ペレット上を流れる樹脂が、ダイパッドを
下方に押し下げるため、ダイパッド下の樹脂の流れが止
められ、ダイパッド下にボイドが発生したり、ダイパッ
ドがパッケージの下面から露出したりするなどの不良が
発生し、パッケージの製造歩留りが低下する。
一方、前記特開昭52−95174号公報の技術は、ダ
イパッドに孔が形成され、ペレット下面が露出している
ので、ダイパッドの厚さが減った分、その部分における
樹脂の流れは良好になるが、この技術では、ペレット下
を流れる樹脂の流動性や充填性を考慮した技術ではない
ため、パッケージの厚さが薄くなるにつれ、モールド時
にペレット上とダイパッド下を流れる樹脂の流速や圧力
を等しくするという効果を得ることが困難となる。
そして、このような問題は、ペレットサイズの大きな場
合には、さらに顕著となる。
本発明は、上記した問題点に着目してなされたものであ
り、その目的は、超薄形のパッケージ構造を備えた半導
体装置の製造の歩留りを向上させることのできる技術を
提供することにある。
本発明の他の目的は、超薄形のパッケージ構造を備えた
半導体装置の信頼性を向上させることのできる技術を提
供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔課題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
すなわち、請求項1記載の発明は、所定の集積回路が形
成されたペレットを搭載するグイパッドに、前記ペレッ
トをモールドする際に金型のゲートからキャピテイに注
入される樹脂が流動する方向に沿って延びる開孔部を形
成したリードフレーム構造である。
請求項2記載の発明は、グイパッド、及び吊りリードが
、ペレットをモールドする際にゲートからキャビティに
注入される樹脂が流動する方向に沿って延びる開孔部に
よって分割されているリードフレーム構造である。
請求項3記載の発明は、請求項1または2記載のリード
フレームを用いて半導体装置を製造する方法である。
〔作用〕
請求項1記載の発明によれば、このリードツレ−ムラ用
いてペレットヲモールドする際、ペレットの下方を流れ
る樹脂の流路が開孔部によって確保されるため、ペレッ
トの下方を流れる樹脂の流動性が向上し、かつ、開孔部
から露出したペレットの下面と下型との隙間と、ペレッ
トの上面と上型との隙間とをほぼ等しくすることができ
る。
これらにより、ペレットのモールド時に、ペレットの上
方と下方とを流れる樹脂の流速、及び圧力が、はぼ等し
くなるため、ボイドの発生やグイパッドの変形を有効に
防止することができる。
請求項2記載の発明によれば、このリードフレームを用
いてペレットをモールドする際、グイパッドのみならず
、吊りリードにも開孔部が形成されているため、樹脂が
注入されるゲートからグイパッドまでの間の樹脂の流路
がより広く確保されるため、樹脂の流動性がさらに向上
する。
請求項3記載の発明によれば、これらリードフレームを
用いてペレットをモールドする際、ペレットの下方を流
れる樹脂の流路が開孔部によって確保されるため、ペレ
ットの下方を流れる樹脂の流動性を向上させることがで
き、かつ、開孔部から露出したペレットの下面と下型と
の隙間と、ペレットの上面と上型との隙間とをほぼ等し
くすることができため、ペレットの上方と下方とを流れ
る樹脂の流速、及び圧力がほぼ等しくすることができ、
これらの結果、ボイドの発生やグイパッドの変形が有効
に防止され、半導体装Iの製造歩留りを向上させること
ができる。
〔実施例1〕 第1図(a)は、本発明の一実施例である半導体装置の
製造方法に用いるリードフレームの要部平面図、第1図
ら)は、このリードフレームの開孔部を示す第1図(a
)のIB−IB線の断面図、第2図(a)は、このリー
ドフレームにペレットを搭載した場合を示す第1図(a
)のI[A−IIA線の断面図、第2図(b)は、この
リードフレームにペレットを搭載した場合を示す第1図
(a)のIB−IB線の断面図、第3図(a)〜(社)
は、半導体装置の製造方法に用いる金型の要部断面図、
第4図は、このリードフレームを用いて製造された半導
体装置を示す第1図(a)のIB−IB線の断面図であ
る。
第1図(a)、(b)に示す本実施例1の半導体装置の
製造に用いるリードフレーム1aは、例えば、QF P
 (Quad Flat Package)形の半導体
装置に適用される。
このリードフレーム1aは、ペレット2を搭載する、例
えば矩形のグイパッド3と、このグイパッド3の四隅に
配設され、グイパッド3を支持する吊りリード4と、グ
イパッド3の周囲に放射状に配設された複数のリード5
と、各リード5間を連結すると共にグイパッド3を取り
囲むように配設されたダム片6と、これらを取り囲む外
枠部7a1及び内枠部7bからなる枠部7とによって構
成されている。
吊りリード4は、グイパッド3が第1図ら)に示すよう
に、リード5の下方に配置されるように、折り曲げられ
ている。これは、後述するワイヤ8の上端がパッケージ
上面から露出するのを防止するためである。
リード5は、ダム片6の外側が外部リード、また、内側
が内部リードと呼ばれ、製品となった時点では、内部リ
ードがモールド部9に封止され、外部リードがモールド
部9の側面から外方に突出して外部端子を構成するよう
になっている。
外枠部7aには、リードフレーム1aの搬送時や位置決
め時のガイドとなるガイド孔10がプレス等によって打
ち抜き形成されている。
リードフレーム1aは、上記した各部によって構成され
る単位フレームを外枠部7aの延びる方向に複数配設し
た、例えば7連のものをプレスなどによって一体的に形
成したものであり、その材質は、例えば4270イから
なり、その厚さは、例えば150μmである。
上記リードフレーム1aのグイバッド3には、開孔部1
1aが開孔形成されており、グイバッド3は、開孔部に
より2分割されている。この開孔部11aは、後述する
モールド部9の形成工程の際に、ゲート (第3図ら)
に示す)GからキャビティK(第3図(a)に示す)に
注入される樹脂が流動する方向に沿って延びている。そ
して、開孔部11aは、第1図ら)に示すように、ペレ
ット2の下方を流れる樹脂の流路を確保するようになる
また、開孔81B11aは、グイバッド3を2分割する
ので、例えば、モールド部9を構成する樹脂中の水分が
半田リフロー時に気化膨張した際、この気化膨張によっ
てグイバッド3に発生する応力を、ペレット2の1/2
 サイズのペレットをモールドした場合と同じ程度に小
さくすることができる。
次に、本実施例1の半導体装置の製造方法を第2図(a
)、(b)、及び第3図(a)〜(ωを用いて説明する
まず、例えば銀ペーストからなる接着剤12を用いて開
孔部11aが形成されたグイバッド3上にペレット2を
接合し、例えば180℃で接着剤12をキュアする(第
2図(a))。その際、例えば、クリーン・ルームに設
置された開放炉内で徐々に加熱を行うキュア法を用いる
と、接着剤12の膜厚を、例えば10〜30μm程度ま
で薄くすることができる。なお、上記ペレット2の厚さ
は、例えば、400μmであり、その上面が集積回路形
成面となっている。また、接着剤12は、その膜厚を薄
くする必要上、発泡性の少ない材質のものが選択される
次いで、図示しないワイヤボンディング装置を用いて、
ペレット2とリード5との間に、例えば直径25μmの
金線からなるワイヤ8をボンディングする(第2図(b
))。その際、後述するモールド工程において、ワイヤ
8の上端がパッケージ1から露出するのを防ぐため、ペ
レット3の上面からワイヤ8の上端までの高さ(h)を
所定の高さにする必要がある。
その後、ペレット2の上面に、図示はしないが極めて薄
いポリイミド樹脂を塗布する。これは、モールド部9を
構成する樹脂中の水分が集積回路に浸入するのを防止し
、また、樹脂中のフィラーによって集積回路の表面が傷
付けられるのを防止する等のためである。
次に、上記ペレット2を搭載したリードフレーム1aに
モールド部9を形成する工程を第3図(a)〜(d)に
より説明する。
マス、ペレット2を搭載したリードフレーム1aをトラ
ンスファモールド用の金型13の所定位置に設置する。
この金型13のキャビティにの内部における上型13a
と下型13bとの隙間は、例えば、1fflffiであ
る。
この際、グイバッド3には、開孔部11aが穿孔されて
いるため、ペレット2上部と上型13aとの隙間Aと、
開孔部11aから露出したベレット2下邪と下型13b
との隙間Bとが、はぼ等しくなる。
次に、ポット14に予備加熱したタブレット状の樹脂1
5を投入する。この樹脂15は、例えば、シリコーン変
性エポキシ樹脂にンリカ等のフィラーを充填してその熱
膨張係数をシリコンの熱膨張係数に近づけた樹脂であり
、モールド時の粘度が、例えば、lX10”P(ポアズ
)以下となるような低粘度樹脂である。
続いて、プランジャー16を下降させ、溶融した樹脂1
5をランナー17、及びゲートGを経てキャビティKに
注入する(第3図ら))。
この際、上記したようにペレット2上部と上型13aと
の隙間Aと、開孔部11aから露出したベレット2下部
と下型13bとの隙間Bとがほぼ等しいため、第3図ら
)に示すように、ベレット2の上方を流れる樹脂15の
流速と、開孔部11aから露出したベレット2の下方を
流れる樹脂15の流速とがほぼ等しくなる。
すなわち、ベレット2の上方と下方とを流れる樹脂15
の圧力がほぼ均一となるため、グイパッド3が樹脂15
によって押し下げられたり、押し上げられたりすること
がな(、樹脂の充填が充分に行われる。
このようにして樹脂15がキャビティに内に充分に注入
され、所定時間で加熱硬化される(第3図(C))。
そして、キャビティKに注入された樹脂15が硬化した
後、金型13を開き、リードフレーム1aを取り出して
、縦横各辺の長さが、例えば14正、厚さが、例えば1
叩のモールド部9が完成する(第3図(d))。
その後、リードフレーム1aの所定個所を切断し、さら
に、リード5を、例えば、ガルウィング状に折り曲げる
ことにより、第4図に示すQFP形の半導体装置18が
製造される。
このように本実施例1によれば、下記のような効果を得
ることができる。
(1)、  !J−ドフレームlaのダイパッド3に、
モールド部9の形成の際に、ゲートGからキャビティK
に注入される樹脂15が流動する方向に沿って延びる開
孔部11aが形成されているので、開孔部11aから露
出したベレット2の下方を流れる樹脂15の流動性が向
上する。
(2)、モールド部9の形成に際し、ベレット2の上部
と上型13aとの隙間へと、開孔部11aから露出した
ベレット2の下部と下型13aとの隙間Bとがほぼ等し
くなるので、ベレット2の上方と下方とを流れる樹脂1
5の流速もほぼ等しくなり、樹脂15の圧力もほぼ均一
となる。
(3)、上記(1)、(2)により、モールド部9の形
成に際し、従来の技術と異なり、ベレット2の上方を流
れる樹脂15によって、ダイパッド3が押し下げられ、
ボイドが発生したり、ダイパッド3がモールド部9の下
面から露出したりすることが有効に防止できる。(4)
、上記(1)、 (2)により、樹脂の充填性が向上す
る。
(5)、グイパッド3が開孔部11aを介して2分割さ
れているので、ダイパッド3にかかる熱応力が分散され
、この熱応力に起因するモールド部9のクラックを有効
に防止することができる。
(6)、上記(1)〜(4)により、厚さが、例えば、
l wのモールド部9を歩留り良く形成することができ
、半導体装置の製造歩留りが向上する。
(7)、上記(1)〜(5)により、信頼性の高い超薄
型のモールド部9を備えた半導体装置が得られる。
〔実施例2〕 第5図は、本発明の他の実施例である半導体装置の製造
方法に用いるリードフレームの要部平面図である。
本実施例2のリードフレーム1bにおいては、グイパッ
ド3、及び吊りリード4が、モールド部9の形成に際し
、ゲー)Gから注入される樹脂16が流動する方向に沿
って延びる開孔部11bによって分割されている。すな
わち、ダイパッド3、及び吊りリード4は、開孔部11
bによって、それぞれダイパッド3a、3b、及び吊り
リード4a、4bに2分割されている。
本実施例2によれば、モールド部9の形成に際し、ゲー
トGからキャビティにへ注入される樹脂15が、吊りリ
ード4a、4bの間とダイパッド3a、3bの間とを延
びる開孔部11bに導かれ、樹脂15の流路が吊りリー
ド4に阻害されず充分に確保されるため、ベレット2の
下方を流れる樹脂15の流動性がさらに向上する。
これ以外は、実施例1と同じ作用、効果を得ることがで
きる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例1.2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
例えば、ダイパッドに形成される開孔部の形状は、前記
実施例1.2に限定されるものではなく、モールド時に
樹脂が流動する方向に沿って開孔形成されていれば他の
形状であっても良い。
すなわち、例えば、第6図に示すリードフレームlcの
グイパッド3の開孔811!llcのように、櫛歯状で
あっても良い。
また、第7図に示すリードフレームlidのグイパッド
3の開孔部lidのように、矩形状であっても良い。
また、前記実施例のリードフレームの材質は、4270
イであったが、これに限定されるものではなく、例えば
、スズ−ニッケルメッキの施された銅合金であっても良
い。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるQFP形の半導体装
置の製造方法に適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、例えば、T Q F P 
(Thin Quad Flat Pachage)形
、あるいはT S OP (Thin S+nall 
0utline Package)形や5OJ(釦al
l 0utline J−1ead Package)
形の半導体装置の製造方法に適用することもできる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
(1)、すなわち、請求項1記載のリードフレームにお
いては、ペレットを搭載するグイパッドに、ペレットを
モールドする際に金型のゲートからキャビティに注入さ
れる樹脂の流動方向に沿って延びる開孔部が穿孔されて
いることにより、上記グイパッドに搭載されたペレット
をモールドする際、ペレットの下方を流れる樹脂の流路
が確保され、かつ、露出したペレット下部と下型との隙
間と、ペレット上部と上型との隙間とをほぼ等しくでき
るため、ペレットの上方と下方とを流れる樹脂の流速、
及び圧力が等しくなり、グイパッドがペレットの上方を
流れる樹脂により押し下げられることが防止され、ボイ
ドの発生やグイパッドの変形が防止される。
(2)、また、請求項2記載のリードフレームにおいて
は、グイパッド、及び吊りリードが、ペレットをモール
ドする際にゲートからキャビティに注入される樹脂が流
動する方向に沿って延びる開孔部によって分割されてい
ることににより、吊りリードにも開孔部が形成されてい
るため、ペレットをモールドする際、樹脂が注入される
ゲートからグイパッドまでの間の樹脂の流路がより広く
確保され、樹脂の流動性がさらに向上する。
(3)、したがって、請求項1または2記載のリードフ
レームを用いた請求項3記載の半導体装置の製造方法に
よれば、超薄形のパッケージ構造の半導体装置の製造歩
留りを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は、本発明の一実施例である半導体装置の
製造方法に用いるリードフレームの要部平面図、 第1図(b)は、このリードフレームの開孔部を示す第
1図(a)のIB−IB線の断面図、第2図(a)は、
このリードフレームにペレットを搭載した場合を示す第
1図(a)のIIA−IIA線の断面図、 第2図ら)は、このリードフレームにペレットを搭載し
た場合を示す第1図(a)のIB−IB線の断面図、 第3図(a)〜(6)は、半導体装置の製造方法に用い
る金型の要部を各成形工程順に示す断面図、第4図は、
このリードフレームを用いて製造された半導体装置を示
す第1図(a)のIB−IB線の断面図、 第5図〜第7図は、本発明の他の実施例である半導体装
置の製造方法に用いるリードフレームの要部平面図であ
る。 1a〜1d・・・リードフレーム、2・・・半導体ペレ
ット、3・・・グイパッド、4・・・吊りリード、5・
 ・ ・リード、6・ ・ ・ダム片、7・・・枠部、
7a・・・外枠部、7b・・・内枠部、8・・・ワイヤ
、9・・・モールド部、10・・・ガイド孔、lla〜
lid・・・開孔部、12・・・接着材、13・・・金
型、13a・・・上型、13b・・・下型、14・・・
ポット、15・・・樹脂、16・・・プランジャー 1
7・・・ランナー 18・・・半導体装置、K・・・キ
ャビティ、 G ・ゲート。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、所定の集積回路が形成された半導体ペレットを搭載
    するダイパッドに、前記半導体ペレットのモールド時に
    金型のゲートからキャビティに注入される樹脂が流動す
    る方向に沿って延びる開孔部を形成したことを特徴とす
    るリードフレーム。 2、所定の集積回路が形成された半導体ペレットを搭載
    するダイパッドと、前記ダイパッドを支持する吊りリー
    ドとを備えたリードフレームであって、前記ダイパッド
    、及び吊りリードが、前記半導体ペレットのモールド時
    にゲートからキャビティに注入される樹脂が流動する方
    向に沿って延びる開孔部によって分割されていることを
    特徴とするリードフレーム。 3、請求項1または2記載のリードフレームを用いたこ
    とを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP63267731A 1988-10-24 1988-10-24 リードフレームおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP2555428B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0480060U (ja) * 1990-11-26 1992-07-13
JPH08236683A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Nec Corp リードフレーム
US5683944A (en) * 1995-09-01 1997-11-04 Motorola, Inc. Method of fabricating a thermally enhanced lead frame
JP2015002211A (ja) * 2013-06-13 2015-01-05 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置、計測機器、及び半導体装置の製造方法
JP2017188699A (ja) * 2017-07-11 2017-10-12 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置、計測機器、及び半導体装置の製造方法

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