JPH02114626A - 光電子マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野１ 本発明は光電子効果を利用した光電子ビーム露光用マス
クの光電子放射膜材料に関する。

［従来の技術］ 光電子効果を最も量子効果の高い状態で発揮する材料に
セシウム（Ｃｓ）があるが、従来光電子マスクには石英
等の透明基板表面にパターン状にクロム膿等の先遣へい
膜を形成し、その表面にＩＴＯ膜を形成後、ヨウ化セシ
ウムの光電子膜を形成して成るのが通例であった。すな
わち、ヨウ化セシウムは透明であり、光電子マスク等に
用いられていた。酸化セシウムと銀の化合物やセシウム
とアンチモンの化合物に比し透過光に対する光放射効率
が高く光電子マスクとして利用するのに都合が良かった
。

〔発明が解決しようとする課題１ しかし、上記従来技術によるとヨウ化セシウム膜は絶縁
性であり、ＩＴＯ膜等の透明な導電性模を予め形成する
必要があると云う課題があった。

本発明はかかる従来技術の課題を解決するために、透明
でかつ導電性のある光電子膜を提供する事を目的とする
。

〔課題を解決するための手段Ｊ 上記課題を解決するために、本発明は光電子マスクに関
し、光電子膜を酸化セシウムと酸化錫の化合物となす手
段をとるか、あるいは酸化セシウムとＩＴＯの化合物と
なす手段をとる。

【実　施　例］ 以下、実施例により本発明を詳述する。

第１図は本発明の一実施例を示す光電子マスクとその作
用を示す図である。すなわち１ｍｎ＋厚程度の石英等か
ら成る透明基板１の表面には５００人厚程度の石質等か
ら成る光遮へい膜２がパターン状に形成され、その表面
に、１０００人厚程度の酸化セシウムと酸化錫との化合
物から成る光電子膜３が形成され、該光電子膜３と対向
基板４との間に電圧をかけつつ、前記透明基板ｌの裏面
から光λνの照射を行なうと、前記光電子膜３の表面か
らパターン状に光電子ｅ−が放射され、対向基板４に結
像されて成る様子を示している。

尚、透明基板１は石英の他サファイア、あるいは蛍石で
あっても良く、光電子膜３は酸化セシウムと酸化錫の化
合物の他、酸化セシウムとＩＴＯあるいは酸化セシウム
と酸化イリジウムであっても良く、又、酸化セシウムは
、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化
ルビジウム等の他のアルカリ金属の酸化物であっても良
い。

［発明の効果１ 本発明により、光電子マスク用の光電子膜に透明で且つ
、導電性のある光電子膜が提供することができ、ＩＴＯ
ＩＩｉ等の予備的な導電膜を必要としない光電子マスク
を提供することができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例とその作用を示す図である。 ・透明基板 ・光遮へい膜 ・光電子膜 ・対向基板 ・光 ・電子 ・電圧 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光電子放射膜を酸化セシウムと酸化錫の化合物となすか
   あるいは酸化セシウムとＩＴＯ（イリジウム、錫酸化物
   ）の化合物となす事を特徴とする光電子マスク。