JPH02115190A - 含フッ素有機ケイ素化合物 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素化合物Info
- Publication number
- JPH02115190A JPH02115190A JP63265634A JP26563488A JPH02115190A JP H02115190 A JPH02115190 A JP H02115190A JP 63265634 A JP63265634 A JP 63265634A JP 26563488 A JP26563488 A JP 26563488A JP H02115190 A JPH02115190 A JP H02115190A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- expressed
- fluorine
- ppm
- analysis
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な含フツ素有機ケイ素化合物に関する。
［従来の技術］
含フツ素有機基を有機化合物中に導入することによって
、これらの有機化合物又は該有機化合物を含む材料の耐
熱性、耐薬品性、界面特性等の種々の特性を改良するこ
とが行われている。従来、含フツ素有機基を有機化合物
中に導入する方法として、エーテル、アミン、スルフィ
ド、ウレタン、エステル等の周知の結合によって、含フ
ツ素有機基を有機化合物と結合させることが行われてい
る。
、これらの有機化合物又は該有機化合物を含む材料の耐
熱性、耐薬品性、界面特性等の種々の特性を改良するこ
とが行われている。従来、含フツ素有機基を有機化合物
中に導入する方法として、エーテル、アミン、スルフィ
ド、ウレタン、エステル等の周知の結合によって、含フ
ツ素有機基を有機化合物と結合させることが行われてい
る。
しかし、上記方法によって得られる含フツ素有機基を有
する有機化合物は、一般の材料に対する相溶性が悪く、
分離してしまう、またエーテル、アミン結合によって含
フツ素有機基を有機化合物中に導入する場合には、効率
よく結合が形成されず、ウレタン結合によって含フツ素
有機基が結合している有機化合物は、耐熱性が劣るとい
う問題があった。
する有機化合物は、一般の材料に対する相溶性が悪く、
分離してしまう、またエーテル、アミン結合によって含
フツ素有機基を有機化合物中に導入する場合には、効率
よく結合が形成されず、ウレタン結合によって含フツ素
有機基が結合している有機化合物は、耐熱性が劣るとい
う問題があった。
そこで本発明の目的は、種々の材料の耐熱性、耐薬品性
、界面特性等を改良するための前駆体として有用である
新規な含フツ素有機ケイ素化合物を提供することにある
。
、界面特性等を改良するための前駆体として有用である
新規な含フツ素有機ケイ素化合物を提供することにある
。
本発明は、上記課題を解決するものとして、下記一般式
（Ｉ）： （ｊｈ ＣＬ 〔式中、Ｒ７は式： Ｃ，Ｆ、ｐ、１− （■） （ここで、ｐは４〜１０の整数である）で表されるパー
フルオロアルキル基又は式； （ここで、Ｓは１〜４の整数である） で表される炭素原子数５〜１４のパーフルオロアルキル
エーテル基であり、ｍ及びｎは同一でも異なってもよく
０又は１である〕で表される含フツ素有機ケイ素化合物
を提供するものである。
（Ｉ）： （ｊｈ ＣＬ 〔式中、Ｒ７は式： Ｃ，Ｆ、ｐ、１− （■） （ここで、ｐは４〜１０の整数である）で表されるパー
フルオロアルキル基又は式； （ここで、Ｓは１〜４の整数である） で表される炭素原子数５〜１４のパーフルオロアルキル
エーテル基であり、ｍ及びｎは同一でも異なってもよく
０又は１である〕で表される含フツ素有機ケイ素化合物
を提供するものである。
本発明の含フツ素有機ケイ素化合物は、前記一般式ＣＩ
）で表されるが、一般式（Ｉ）におけるＲｒは式（ｎ）
で表されるパーフルオロアルキル基又は式（ＩＩ［）で
表されるパーフルオロアルキルエーテル基である。式（
ＩＩ）で表されるパーフルオロアルキル基は、直鎖状、
分岐状のものでもよいが各種の工業材料の合成上は直鎖
状が好ましい。
）で表されるが、一般式（Ｉ）におけるＲｒは式（ｎ）
で表されるパーフルオロアルキル基又は式（ＩＩ［）で
表されるパーフルオロアルキルエーテル基である。式（
ＩＩ）で表されるパーフルオロアルキル基は、直鎖状、
分岐状のものでもよいが各種の工業材料の合成上は直鎖
状が好ましい。
ｐは４〜１０、代表的な値としては４，６．８である。
この式（１１）で表されるパーフルオロアルキル基の代
表的なものとしては、例えば、ノナフルオブチル基、ウ
ンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロオルチル
基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオ
ロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘンエイコ
サフルオロデシル基等が挙げられる。また、式（Ｉ［［
）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基の代表例
としては、例えば、ヘキサフルオロプロピレンオキシド
のオリゴメリゼーション化によって得られる式二 フッ素有機ケイ素化合物は、例えば、Ｗ、Ｈ，ｌｌｅｂ
ｅｒ−ｇａｌｌ、 ０．Ｈ，Ｊｏｈｎｓｏｎ、 Ｊ、Ａ
ｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、＋ ７１４０２２＜１９４９）
に記載されている方法に準じて、下記反応式（イ）に示
すように、対応するクロロシランを、金属水素化物によ
って還元して製造することができる。
表的なものとしては、例えば、ノナフルオブチル基、ウ
ンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロオルチル
基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオ
ロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘンエイコ
サフルオロデシル基等が挙げられる。また、式（Ｉ［［
）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基の代表例
としては、例えば、ヘキサフルオロプロピレンオキシド
のオリゴメリゼーション化によって得られる式二 フッ素有機ケイ素化合物は、例えば、Ｗ、Ｈ，ｌｌｅｂ
ｅｒ−ｇａｌｌ、 ０．Ｈ，Ｊｏｈｎｓｏｎ、 Ｊ、Ａ
ｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、＋ ７１４０２２＜１９４９）
に記載されている方法に準じて、下記反応式（イ）に示
すように、対応するクロロシランを、金属水素化物によ
って還元して製造することができる。
（ここで、Ｓは１〜４の整数である）、で表される基等
が挙げられる。
が挙げられる。
また、ｍは０又は１であり、Ｒｒが式（ＩＩ）で表され
るパーフルオロアルキル基である場合には、０であるこ
とが好ましく、Ｒｒが式（Ｉ［）で表されるパーフルオ
ロアルキルエーテル基である場合には１であることが工
業的観点から好ましい。 本発明の含フツ素有機ケイ素
化合物の製造は、例えば、以下の方法にしたがって行う
ことができる。
るパーフルオロアルキル基である場合には、０であるこ
とが好ましく、Ｒｒが式（Ｉ［）で表されるパーフルオ
ロアルキルエーテル基である場合には１であることが工
業的観点から好ましい。 本発明の含フツ素有機ケイ素
化合物の製造は、例えば、以下の方法にしたがって行う
ことができる。
（ａ）前記式（Ｉ）において、ｎが０である場合の含・
・（イ） この反応において還元剤として用いられる金属水素化物
は、例えば、ＬｉＡｆｆｉＨ４、Ａ ４２ （ＢＩ３）
３、ＬｉＨ等が挙げられ、反応溶媒としては、例えば
テトラヒドロフラン及びジエチルエーテルが好適なもの
として挙げられ、また必要に応じ、これに、例えばジオ
キサン、ジブチルエーテル、シイプロピルエーテル等の
その他のエーテル系溶媒；Ｎ−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒
を添加した混合溶媒があげられる。金属水素化物の還元
力は使用する溶媒によって制約を受けるため、適宜組み
合わせて用いられ、代表的な還元剤と溶媒の組み合わせ
としては、還元剤としてＬｉＡ１ｔ１４、溶媒としてテ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルを用いる場合であ
る。反応温度は、通常、０〜７０°Ｃが代表的である。
・（イ） この反応において還元剤として用いられる金属水素化物
は、例えば、ＬｉＡｆｆｉＨ４、Ａ ４２ （ＢＩ３）
３、ＬｉＨ等が挙げられ、反応溶媒としては、例えば
テトラヒドロフラン及びジエチルエーテルが好適なもの
として挙げられ、また必要に応じ、これに、例えばジオ
キサン、ジブチルエーテル、シイプロピルエーテル等の
その他のエーテル系溶媒；Ｎ−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒
を添加した混合溶媒があげられる。金属水素化物の還元
力は使用する溶媒によって制約を受けるため、適宜組み
合わせて用いられ、代表的な還元剤と溶媒の組み合わせ
としては、還元剤としてＬｉＡ１ｔ１４、溶媒としてテ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルを用いる場合であ
る。反応温度は、通常、０〜７０°Ｃが代表的である。
還元剤の使用量は、クロロシラン１モルに対して、ハイ
ドライド量として１〜２モル量が代表的である。
ドライド量として１〜２モル量が代表的である。
この反応の出発物質であるクロロシランは、例えば、Ｇ
、Ｅ、Ｂｅｒｅｎｄｓｅｎ ｅｔ ａｌ“Ａｎａｌ、
Ｃｈｅｗ、 ５２．１９９０（１９８０） 、特願昭６
２−８８３５９号等に記載の方法によって得ることがで
きる。
、Ｅ、Ｂｅｒｅｎｄｓｅｎ ｅｔ ａｌ“Ａｎａｌ、
Ｃｈｅｗ、 ５２．１９９０（１９８０） 、特願昭６
２−８８３５９号等に記載の方法によって得ることがで
きる。
（ｂ）前記式Ｎ）において、ｎが１である場合の本発明
の有機ケイ素化合物、すなわち、ジシロキサン化合物の
製造は、公知の方法にしたがって、行うことができ、例
えば、下記反応式に示すとおり、１．１，３．３−テト
ラメチルジシロキサンとパーフルオロ基で置換されたオ
レフィンの部分付加反応による方法〔式（ロ）〕又は２
種のジシロキサンの平衡化反応による方法〔式（ハ）〕
によって行うことができる。
の有機ケイ素化合物、すなわち、ジシロキサン化合物の
製造は、公知の方法にしたがって、行うことができ、例
えば、下記反応式に示すとおり、１．１，３．３−テト
ラメチルジシロキサンとパーフルオロ基で置換されたオ
レフィンの部分付加反応による方法〔式（ロ）〕又は２
種のジシロキサンの平衡化反応による方法〔式（ハ）〕
によって行うことができる。
これらの（ロ）及び（ハ）の反応において、１゜１．３
．３−テトラメチルジシロキサンは、過剰に用いられ、
通常、上記式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表される含フツ素化
合物１モルに対して、１〜１０モル量の割合で用いられ
る。（ロンの反応において用いられる触媒は、ＣＦ、５
ＯｉＨに限られず、例えば硫酸、リン酸、塩酸等が挙げ
られる。反応温度は室温〜８０°Ｃが代表的である。
．３−テトラメチルジシロキサンは、過剰に用いられ、
通常、上記式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表される含フツ素化
合物１モルに対して、１〜１０モル量の割合で用いられ
る。（ロンの反応において用いられる触媒は、ＣＦ、５
ＯｉＨに限られず、例えば硫酸、リン酸、塩酸等が挙げ
られる。反応温度は室温〜８０°Ｃが代表的である。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
る。
実施例１
容１５００ ｍの四つロフラスコに、水素化リチウムア
ルミニウム２．１ｇ （０，０５５モル）及びテトラヒ
ドロフラン１００雁を仕込み、内部を窒素置換した。
ルミニウム２．１ｇ （０，０５５モル）及びテトラヒ
ドロフラン１００雁を仕込み、内部を窒素置換した。
６．９．１２−）リス（トリフルオロメチル）−６゜８
、 ８． ９．１１，１１，１２．１４，１４．１５，
１５，１６．１６，１６．−テトラデカフルオロ−４＝
７，１０ｔ１３−テ） ７才キサデシルジメチルク
ロルシラン１５７ｇ （０，２モル）を、室温〜５０°
Ｃで、１時間かけて滴下した後、４０〜５０゛Ｃで２時
間反応させた。その後、酢酸メチル１０／ｄを加え、４
０〜５０°Ｃで３０分間処理して、反応混合物中に残存
している過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解させ
た。次に、水１５０ ｍ及び希塩酸（３％） １５０
ｄを加えて処理し、有ｍ層を飽和芒硝水で３回洗浄し、
乾燥後、減圧蒸留して９７〜９８°Ｃ／ ３ ＋ｎｍＨ
ｇの留分１２６ｇが得られた。
、 ８． ９．１１，１１，１２．１４，１４．１５，
１５，１６．１６，１６．−テトラデカフルオロ−４＝
７，１０ｔ１３−テ） ７才キサデシルジメチルク
ロルシラン１５７ｇ （０，２モル）を、室温〜５０°
Ｃで、１時間かけて滴下した後、４０〜５０゛Ｃで２時
間反応させた。その後、酢酸メチル１０／ｄを加え、４
０〜５０°Ｃで３０分間処理して、反応混合物中に残存
している過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解させ
た。次に、水１５０ ｍ及び希塩酸（３％） １５０
ｄを加えて処理し、有ｍ層を飽和芒硝水で３回洗浄し、
乾燥後、減圧蒸留して９７〜９８°Ｃ／ ３ ＋ｎｍＨ
ｇの留分１２６ｇが得られた。
得られた留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量
の測定、赤外線吸収スペクトル及びＩＨ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
の測定、赤外線吸収スペクトル及びＩＨ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨ
計算値” ２７．３ ２．０
実測値 ２７．１ １．８
（＊ Ｃ＋ ？Ｈ１５Ｆｚｓ０４ｓｉとして計算）ＧＣ
＝ＭＳ分析二分子量７４８と測定された。
＝ＭＳ分析二分子量７４８と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図１に示す。波数２１２５ｃｍ
−’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
−’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標ｌ：ベンゼンδ： ３
．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｄ＋２１１．ＣＦ ＣＩ＋
２０）３．３０〜３．６７ｐｐｍ（ｔ、２８． ＯＣ
１１ｚ Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−０−Ｃ−ＣＨｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２１１．−ｃ−ＣＩＩｚＳｉ −）ｉ ３．８ ３．９ ０．２４〜０．１３ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨｉ）
３．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｍ、 ＩＨ，５ｔ−Ｈ）以
上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ ：１ で表される６、９．１２−トリス（トリフルオロメチル
） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１４，１４
，１５，１５゜１６．１６．１６−テトラデカフルオロ
ー４．７．ＬＯ７１３−テトラオキサヘキサデシルジメ
チルシランであることがわかった。収率８４％。
．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｄ＋２１１．ＣＦ ＣＩ＋
２０）３．３０〜３．６７ｐｐｍ（ｔ、２８． ＯＣ
１１ｚ Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−０−Ｃ−ＣＨｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２１１．−ｃ−ＣＩＩｚＳｉ −）ｉ ３．８ ３．９ ０．２４〜０．１３ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨｉ）
３．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｍ、 ＩＨ，５ｔ−Ｈ）以
上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ ：１ で表される６、９．１２−トリス（トリフルオロメチル
） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１４，１４
，１５，１５゜１６．１６．１６−テトラデカフルオロ
ー４．７．ＬＯ７１３−テトラオキサヘキサデシルジメ
チルシランであることがわかった。収率８４％。
実施例２
実施例１と同様にして、６，９．−ビス（トリフルオロ
メチル） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１２
、１３，１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−トリオキサトリデシルジメチルクロルシラン９３ｇ
（０，１５モル）を水素化リチウムアルミニウム１．５
２ｇ （０，０４モル）と反応させて得られた反応混合
物を減圧蒸留して沸点８０〜８１°Ｃ／ ６ ｍｍＨｇ
の留分７２ｇを得た。
メチル） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１２
、１３，１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−トリオキサトリデシルジメチルクロルシラン９３ｇ
（０，１５モル）を水素化リチウムアルミニウム１．５
２ｇ （０，０４モル）と反応させて得られた反応混合
物を減圧蒸留して沸点８０〜８１°Ｃ／ ６ ｍｍＨｇ
の留分７２ｇを得た。
得られた留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量
の測定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
の測定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨＳｉ
計算値” ２８．９ ２．６ ４．８実測
値 ２９．０ ２．５ ４．９（＊ＣＩ４旧
ｓＦ＋７（ｈＳｉとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分子量
５８２と測定された。
値 ２９．０ ２．５ ４．９（＊ＣＩ４旧
ｓＦ＋７（ｈＳｉとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分子量
５８２と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図２に示す。波数２１２５ｃｍ
−’にＳ ｉ −Ｈに由来する特性吸収ピークが認めら
れた。
−’にＳ ｉ −Ｈに由来する特性吸収ピークが認めら
れた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ ：
３．７０〜４．２０ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ Ｃｌ１
ｚＯ）３．３０〜３．６６ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ１１
ｚ Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
０−Ｃ−Ｃｌｌｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２８． −Ｃ−ＣＨ２Ｓｉ−）０．２７〜−０．１３
ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨ３）３．７０〜４．２０
ｐｐｍ（ｐＡ、 ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得
られた物質は下記式：で表される６、９−ビス（トリフ
ルオロメチル）６、 ８． ８． ９．１１，１１，１
２，１２，１３，１３．１３−ウンデカフルオロ−４，
７，１０−１−リオキサトリデシルジメチルシランであ
ることがわかった。収率８２％。
３．７０〜４．２０ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ Ｃｌ１
ｚＯ）３．３０〜３．６６ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ１１
ｚ Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
０−Ｃ−Ｃｌｌｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２８． −Ｃ−ＣＨ２Ｓｉ−）０．２７〜−０．１３
ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨ３）３．７０〜４．２０
ｐｐｍ（ｐＡ、 ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得
られた物質は下記式：で表される６、９−ビス（トリフ
ルオロメチル）６、 ８． ８． ９．１１，１１，１
２，１２，１３，１３．１３−ウンデカフルオロ−４，
７，１０−１−リオキサトリデシルジメチルシランであ
ることがわかった。収率８２％。
実施例３
６−ドリフルオロメチルー６．８，８，９，９゜１０、
１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シオキサデシル
ジメチルクロルシラン６８ｇ （０，１５モル）を実施
例１と同様に反応させて６６〜６７°Ｃ／ ９ ｍｍｔ
ｌｇの留分４７ｇを得た。
１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シオキサデシル
ジメチルクロルシラン６８ｇ （０，１５モル）を実施
例１と同様に反応させて６６〜６７°Ｃ／ ９ ｍｍｔ
ｌｇの留分４７ｇを得た。
得られた留分を元素分析による原子組成の測定ＧＣ−Ｍ
Ｓ分析による分子量の測定、並びに赤外線吸収スペクト
ル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定に供したところ、
下記の結果が得られた。
Ｓ分析による分子量の測定、並びに赤外線吸収スペクト
ル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定に供したところ、
下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨＳｉ
計算値” ３１．７ ３．６ ６．８実測
値 ３１．５ ３．７ ６．７（＊ Ｃ１Ｉ
Ｈ１５Ｆ１１０□Ｓｔとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分
子量４１６と測定された。
値 ３１．５ ３．７ ６．７（＊ Ｃ１Ｉ
Ｈ１５Ｆ１１０□Ｓｔとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分
子量４１６と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図３に示す。波数２１２５Ｃｍ
−’にＳ ｉ −ＩＩに由来する特性吸収ピークが認め
られた。
−’にＳ ｉ −ＩＩに由来する特性吸収ピークが認め
られた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：３．
７２〜４．１８ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ｃｐ Ｃｌｌｚ
０）３．２８〜３．７２ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣｔｌ
ｚ Ｃ）１．３２〜１．９８ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
〇−Ｃ−Ｃ１ｌｚ−Ｃ）０．３５〜０．９２ｐｐｍ（ｍ
、２Ｈ，−Ｃ−（ＪＩｚＳｉ−）０．２５〜０．１２ｐ
ｐｍ（ｄ、６１１，５ｉ−ＣＨ：ｉ）３．７２〜４．１
８［’ｐｍ（ｍ、ＬＨ＋５ｉ−１）以上の結果より、得
られた物質は下記式：％式％ で表される６−トリフルオロメチルー６．８，８゜９．
９，１０．１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シ
オキサデシルジメチルシランであることがわかった。収
率７５％。
７２〜４．１８ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ｃｐ Ｃｌｌｚ
０）３．２８〜３．７２ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣｔｌ
ｚ Ｃ）１．３２〜１．９８ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
〇−Ｃ−Ｃ１ｌｚ−Ｃ）０．３５〜０．９２ｐｐｍ（ｍ
、２Ｈ，−Ｃ−（ＪＩｚＳｉ−）０．２５〜０．１２ｐ
ｐｍ（ｄ、６１１，５ｉ−ＣＨ：ｉ）３．７２〜４．１
８［’ｐｍ（ｍ、ＬＨ＋５ｉ−１）以上の結果より、得
られた物質は下記式：％式％ で表される６−トリフルオロメチルー６．８，８゜９．
９，１０．１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シ
オキサデシルジメチルシランであることがわかった。収
率７５％。
実施例４
テトラヒドロフランの代わりにジエチルエーテルを用い
た以外は実施例１と同様にして、６，９１２−トリス（
トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１．ｌＬ１
２．１４，１４，１５．１５，１６，１６．１６−テト
ラデカフルオロ−４，７，１０，１３−テトラオキサヘ
キサデシルジメチルシラン１１２ｇを得た。（収率７５
％） 実施例５ （１）第１工程 ２−へブタデカフルオロオクチルエチルジメチルクロロ
シラン１６２ ｇ （０，３モル）を、塩酸（１８％）
１００ｄとメタノール５０ｍ１からなる混合液に滴下し
た。８０〜９０°Ｃで攪拌しながら３時間加熱した後、
有機層を分離し、５％ＮａＨＣＯ，水溶液１５０＋＋ｆ
及び飽和芒硝水１５０戚で３回洗浄した。乾燥後、減圧
蒸留して沸点１５８〜１６２°Ｃ／４正１１ｇの留分１
３９ｇを得、これを赤外線吸収スペクトル分析に供した
ところ、１．３−ビス（２−へブタデカフルオロオクチ
ル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ンであることが確認された。収率は９０％であった。
た以外は実施例１と同様にして、６，９１２−トリス（
トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１．ｌＬ１
２．１４，１４，１５．１５，１６，１６．１６−テト
ラデカフルオロ−４，７，１０，１３−テトラオキサヘ
キサデシルジメチルシラン１１２ｇを得た。（収率７５
％） 実施例５ （１）第１工程 ２−へブタデカフルオロオクチルエチルジメチルクロロ
シラン１６２ ｇ （０，３モル）を、塩酸（１８％）
１００ｄとメタノール５０ｍ１からなる混合液に滴下し
た。８０〜９０°Ｃで攪拌しながら３時間加熱した後、
有機層を分離し、５％ＮａＨＣＯ，水溶液１５０＋＋ｆ
及び飽和芒硝水１５０戚で３回洗浄した。乾燥後、減圧
蒸留して沸点１５８〜１６２°Ｃ／４正１１ｇの留分１
３９ｇを得、これを赤外線吸収スペクトル分析に供した
ところ、１．３−ビス（２−へブタデカフルオロオクチ
ル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ンであることが確認された。収率は９０％であった。
（２）第２工程
次に、得られた１、１−ビス（２−へブタデカフルオロ
オクチル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン５１ ｇ （０，０５モル）と、１゜１．３．
３−テトラメチルジシロキサン５４ｇ（０，４モル）及
びトリフルオロメタンスルホン酸０．２ｇを、容ｆｆ１
２０１の四つ目フラスコに仕込み、５０〜６０°Ｃで３
時間反応させた後、飽和芒硝水１００成で３回洗浄した
。乾燥後、減圧蒸留して沸点８２〜８３’Ｃ／ ４ ｍ
ｍ１１ｇの留分４５ｇを得た。
オクチル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン５１ ｇ （０，０５モル）と、１゜１．３．
３−テトラメチルジシロキサン５４ｇ（０，４モル）及
びトリフルオロメタンスルホン酸０．２ｇを、容ｆｆ１
２０１の四つ目フラスコに仕込み、５０〜６０°Ｃで３
時間反応させた後、飽和芒硝水１００成で３回洗浄した
。乾燥後、減圧蒸留して沸点８２〜８３’Ｃ／ ４ ｍ
ｍ１１ｇの留分４５ｇを得た。
（３）同定
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨ
計算値” ２９．０ ３．０
実測値 ２８．８ ３．１
（＊Ｃｚ旧７ＦＩ？０５１２として計算）ＧＣ−ＭＳ分
析；分子量５８０と測定された。
析；分子量５８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図４に示す。波数２１４０ｃｒ
ｒＶ’にＳ ｉ −Ｉｆに由来する特性吸収ピークが認
められた。
ｒＶ’にＳ ｉ −Ｉｆに由来する特性吸収ピークが認
められた。
Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ： ２．
７０〜１．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＣＦｚ ＣＨｚ
Ｃ）１．１７〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
Ｉ＋２−５ｉ）０．２５〜０．１７ｐｐｍ（ｄ、６）１
．−０−Ｓｔ（ＣＬｌ）ｚ−Ｈ）０ 、２０ｐｐｍ
（ｓ 、 ６Ｈ１Ｃ５ｉ（ＣＬ３．）ｚＯ５ｉ）５
．０５〜４．６７ｐｐｍ（ｍ、 ＩＩＩ、５ｉ−ｆｌ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ で表される１−（２−へブタデカフルオロオクチル）エ
チル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであ
ることがわかった。収率７８％。
７０〜１．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＣＦｚ ＣＨｚ
Ｃ）１．１７〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
Ｉ＋２−５ｉ）０．２５〜０．１７ｐｐｍ（ｄ、６）１
．−０−Ｓｔ（ＣＬｌ）ｚ−Ｈ）０ 、２０ｐｐｍ
（ｓ 、 ６Ｈ１Ｃ５ｉ（ＣＬ３．）ｚＯ５ｉ）５
．０５〜４．６７ｐｐｍ（ｍ、 ＩＩＩ、５ｉ−ｆｌ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ で表される１−（２−へブタデカフルオロオクチル）エ
チル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであ
ることがわかった。収率７８％。
実施例６
実、施例５の第１工程と同様にして、（２−トリデカフ
ルオロへキシル）エチルジメチルクロロシラン１３２
ｇ （０，３モル）から、１．３−ビス（２−トリデカ
フルオロへキシル）エチル−１，１゜３．３−テトラメ
チルジシロキサン１１８ｇを、沸点１２９〜１３０°Ｃ
／ ４ ｍｍＨｇの留分として得た。（収率９５％） 次に、実施例５の第２工程と同様にして、得られた１、
３−ビス（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサン７７ ｇ（０
，０９３モル）及び１，１，３．３−テトラメチルジシ
ロキサン１０７ ｇ （０，８モル）を、トリフルオロ
メタンスルホン酸０６５ｇの存在下に反応させ、沸点８
１〜８２°Ｃ／１１画Ｈｇの留分６４ｇを得た。
ルオロへキシル）エチルジメチルクロロシラン１３２
ｇ （０，３モル）から、１．３−ビス（２−トリデカ
フルオロへキシル）エチル−１，１゜３．３−テトラメ
チルジシロキサン１１８ｇを、沸点１２９〜１３０°Ｃ
／ ４ ｍｍＨｇの留分として得た。（収率９５％） 次に、実施例５の第２工程と同様にして、得られた１、
３−ビス（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサン７７ ｇ（０
，０９３モル）及び１，１，３．３−テトラメチルジシ
ロキサン１０７ ｇ （０，８モル）を、トリフルオロ
メタンスルホン酸０６５ｇの存在下に反応させ、沸点８
１〜８２°Ｃ／１１画Ｈｇの留分６４ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨＳ辷
計算値” ３０．０ ３．６ １１．７実
測値 ２９．８ ３．５ １１．６（＊ Ｃ
＋ｚｌｌ＋Ｊ＋３０Ｓｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４８０と測定された。
測値 ２９．８ ３．５ １１．６（＊ Ｃ
＋ｚｌｌ＋Ｊ＋３０Ｓｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図５に示す。波数２１４０ｃｌ
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標！！：ベンゼンδ： ２
．６８〜１．６５ｐｐｍ（ｒａ、２１１． ＣＦ２
Ｃ１１２Ｃ）１．１２〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，
−〇−Ｃｔｌｚ−Ｓｉ）０．２３〜０．１７ｐｐｍ（ｄ
、６！ｌ、 Ｏ５ｉ（Ｃ！Ｌ、）ｚ Ｈ）Ｑ、２０
ｐｐｍ （ｓ、６Ｈ，Ｃ５ｔ（Ｃ！ｊｌ）ｚＯ３
ｉ）５．００〜４．６５ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｔ−Ｈ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：で表される１
−（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンであることがわかっ
た。収率７２％。
．６８〜１．６５ｐｐｍ（ｒａ、２１１． ＣＦ２
Ｃ１１２Ｃ）１．１２〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，
−〇−Ｃｔｌｚ−Ｓｉ）０．２３〜０．１７ｐｐｍ（ｄ
、６！ｌ、 Ｏ５ｉ（Ｃ！Ｌ、）ｚ Ｈ）Ｑ、２０
ｐｐｍ （ｓ、６Ｈ，Ｃ５ｔ（Ｃ！ｊｌ）ｚＯ３
ｉ）５．００〜４．６５ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｔ−Ｈ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：で表される１
−（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンであることがわかっ
た。収率７２％。
実施例７
実施例５の第１工程と同様にして、（２−ノナフルオロ
ブチル）エチルジメチルクロロシラン１３６ｇ （０，
４モル）から、沸点９６〜９７°（： ／ ４ ｍｍＨ
ｇの留分として、１．３−ビス（２−ノナフルオロブチ
ルエチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン６５ｇを得た。 （収率８５％）次に、得られた１、
３−ビス（２−ノナフルオロブチルエチル）−１，１，
：３．３−テトラメチルジシロキサン６３ｇ （０，
１モル）及び１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサ
ン１０７ ｇ （０，８モル）を、実施例５の第２工程
と同様にして、トリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇ
の存在下に反応させ、沸点６５°Ｃ／２０ｍｍＨｇの留
分５４ｇを得た。
ブチル）エチルジメチルクロロシラン１３６ｇ （０，
４モル）から、沸点９６〜９７°（： ／ ４ ｍｍＨ
ｇの留分として、１．３−ビス（２−ノナフルオロブチ
ルエチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン６５ｇを得た。 （収率８５％）次に、得られた１、
３−ビス（２−ノナフルオロブチルエチル）−１，１，
：３．３−テトラメチルジシロキサン６３ｇ （０，
１モル）及び１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサ
ン１０７ ｇ （０，８モル）を、実施例５の第２工程
と同様にして、トリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇ
の存在下に反応させ、沸点６５°Ｃ／２０ｍｍＨｇの留
分５４ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨＳｉ
計算値” ３１．６ ４．５ １４．８実
測値 ３１．６ ４．３ １４．７（＊Ｃ，
ｏＨ，Ｊ、０５ｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分子
量３８０と測定された。
測値 ３１．６ ４．３ １４．７（＊Ｃ，
ｏＨ，Ｊ、０５ｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分子
量３８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図６に示すごとく、波数２１４
０ｃｍ−’にＳ ｆ −ＩＩに由来する特性吸収ピーク
が認められた。
０ｃｍ−’にＳ ｆ −ＩＩに由来する特性吸収ピーク
が認められた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ： ２
．７０〜１．６５ｐｐｍ（ｍ、２１１． ＣＦｚ
ＣＩＩＺ Ｃ）１．１３〜０．６７ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ
，−０−ＣＨｚ−Ｓｉ）０．３０〜０．２３ｐｐｍ（ｄ
、６８． ＯＳｉ （ＣＨ，） ｚ Ｈ）０、２５
ｐｐｍ （ｓ、 ６１１． ＣＳｔ （Ｃ！Ｌ
Ｌ） ｚＯ５ｉ）５．０２〜４．６８ｐｆ）ＩＩ（ｍ、
ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得られた物質は下記
式：％式％ で表される１−（２−ノナフルオロブチル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであることが
わかった。収率７１％。
．７０〜１．６５ｐｐｍ（ｍ、２１１． ＣＦｚ
ＣＩＩＺ Ｃ）１．１３〜０．６７ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ
，−０−ＣＨｚ−Ｓｉ）０．３０〜０．２３ｐｐｍ（ｄ
、６８． ＯＳｉ （ＣＨ，） ｚ Ｈ）０、２５
ｐｐｍ （ｓ、 ６１１． ＣＳｔ （Ｃ！Ｌ
Ｌ） ｚＯ５ｉ）５．０２〜４．６８ｐｆ）ＩＩ（ｍ、
ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得られた物質は下記
式：％式％ で表される１−（２−ノナフルオロブチル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであることが
わかった。収率７１％。
実施例８
容量３００ ｍｌの四つロフラスコに、６，９．１２−
トリス（トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１
．１１，１２，１４，１４Ｊ５．１５，１６，１６．１
６−テトラデカフルオロー４． ７．１０．１３−テト
ラオキサへキサデセン−１１０３ｇ （０，１５モル）
、１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサン３４ｇ
（０，２５モル）及び塩化白金酸のｎ−ブタノール溶液
（白金量：１重量％）Ｉｇを仕込み、２０時間加熱還流
させて反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧蒸留
して沸点１１２〜１１５°Ｃ／ ３ ｍｍＨｇの留分８
８ｇを得た。
トリス（トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１
．１１，１２，１４，１４Ｊ５．１５，１６，１６．１
６−テトラデカフルオロー４． ７．１０．１３−テト
ラオキサへキサデセン−１１０３ｇ （０，１５モル）
、１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサン３４ｇ
（０，２５モル）及び塩化白金酸のｎ−ブタノール溶液
（白金量：１重量％）Ｉｇを仕込み、２０時間加熱還流
させて反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧蒸留
して沸点１１２〜１１５°Ｃ／ ３ ｍｍＨｇの留分８
８ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨＳｉ
計算値” ２７．８ ２．６ ６．８実測
値 ２８．０ ２．５ ６．８（”Ｃ＋＋ｄ
ｈ＋ＦｔｓＯｓＳｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分
子量８２２と測定された。
値 ２８．０ ２．５ ６．８（”Ｃ＋＋ｄ
ｈ＋ＦｔｓＯｓＳｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分
子量８２２と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図７に示す。波数２１３０ｃｍ
−’に５ｔ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められ
た。
−’に５ｔ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められ
た。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ： ３
．７７〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７７ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ）Ｉｚ
Ｃ）１．３５〜１．９６ｐｐｍ（ｍ、２１＋、 −
ｏ−ｃ−ＣＨ２−Ｃ）０．３０〜０．８０ｐｐｍ（ｍ、
２８．−Ｃ−ＣＨｚＳｉ −）０．１０ｐｐｍ
（ｓ、６Ｈ，−Ｃ−３ｉ（ＣＩｌｚ）ｚＯｓｉ）０．１
３〜０．１５ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｔ（ＣＬ、）ｚ
Ｈ）４．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ，５ｉｎ（
）以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％：１ で表される１−（６，９，１２−１−リス（トリフルオ
ロメチル） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１
４，１４゜１５、１５．１６．１６．１６−テトラデカ
フルオロー４，７゜１０、１３−テトラオキサ〕ヘキサ
デシル−１，１゜３．３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。収率７１％。
．７７〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７７ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ）Ｉｚ
Ｃ）１．３５〜１．９６ｐｐｍ（ｍ、２１＋、 −
ｏ−ｃ−ＣＨ２−Ｃ）０．３０〜０．８０ｐｐｍ（ｍ、
２８．−Ｃ−ＣＨｚＳｉ −）０．１０ｐｐｍ
（ｓ、６Ｈ，−Ｃ−３ｉ（ＣＩｌｚ）ｚＯｓｉ）０．１
３〜０．１５ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｔ（ＣＬ、）ｚ
Ｈ）４．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ，５ｉｎ（
）以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％：１ で表される１−（６，９，１２−１−リス（トリフルオ
ロメチル） −６，８，８，９，１１，１１，１２，１
４，１４゜１５、１５．１６．１６．１６−テトラデカ
フルオロー４，７゜１０、１３−テトラオキサ〕ヘキサ
デシル−１，１゜３．３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。収率７１％。
実施例９
実施例８と同様にして、６．９−ビス（トリフルオロメ
チル） −６，８，８，９，ＬＬｌｌ、１２，１．２
゜１３．１３．１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−１リオキサトリデセン−１１０４ｇ （０，２モル）
と、１．１，３．３−テトラメチルジシロキサン４０ｇ
（０，３モル）とから、沸点１００〜１０２°Ｃ１５価
Ｈｇの留分６６ｇを得た。
チル） −６，８，８，９，ＬＬｌｌ、１２，１．２
゜１３．１３．１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−１リオキサトリデセン−１１０４ｇ （０，２モル）
と、１．１，３．３−テトラメチルジシロキサン４０ｇ
（０，３モル）とから、沸点１００〜１０２°Ｃ１５価
Ｈｇの留分６６ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨ
計算値” ２９．３ ３．２
実測値 ２６．５ ３．３
（”Ｃ＋Ｊｚ＋Ｆ＋７０４５１ｇとして計算）ＧＣ−Ｍ
Ｓ分析：分子量６５６と測定された。
Ｓ分析：分子量６５６と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図８に示す。波数２１３０ｃｌ
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：３．
７０〜４．１３ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ ＣＩＩｚＯ
）３．３０〜３．７３ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨ２
−Ｃ）１．３０〜２．ＯＯｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
−ＣＨｚ−Ｃ）０．３７〜０．８７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−Ｃ−ＣＩＩｚＳｉ−）０．０８ｐｐａ＋ （ｓ
、６８．−Ｃ−５ｉ（ＣＨｚ）ｚＯｓｉ）０．１３〜０
．１８ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｉ（ＣＬ）ｚ Ｈ）４
．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＩＩ、５ｉ−Ｈ）以上
の結果より、得られた物質は下記式：％式％（３ で表される１−（６，９−ビス（トリフルオロメチル）
−６，８，８，９，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０−１−リ
オキサ〕トリデシル−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンであることがわかった。収率５０％。
７０〜４．１３ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ ＣＩＩｚＯ
）３．３０〜３．７３ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨ２
−Ｃ）１．３０〜２．ＯＯｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
−ＣＨｚ−Ｃ）０．３７〜０．８７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−Ｃ−ＣＩＩｚＳｉ−）０．０８ｐｐａ＋ （ｓ
、６８．−Ｃ−５ｉ（ＣＨｚ）ｚＯｓｉ）０．１３〜０
．１８ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｉ（ＣＬ）ｚ Ｈ）４
．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＩＩ、５ｉ−Ｈ）以上
の結果より、得られた物質は下記式：％式％（３ で表される１−（６，９−ビス（トリフルオロメチル）
−６，８，８，９，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０−１−リ
オキサ〕トリデシル−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンであることがわかった。収率５０％。
実施例１０
実施例８と同様にして、６−ドリフルオロメチルー６．
８，８，９，９，１０，１０．１０−オクタフルオロ−
４，７−シオキサデセンー１ １７８ ｇ （０，５モ
ル）と、１．ｌ、３．３−テトラメチルジシロキサン２
０１ ｇ （１，５モル）とから、沸点７３〜７５°Ｃ
／ ５ ｍｍ１１ｇの留分７４ｇを得た。（収率３０％
）この留分を元素分析、ｃｃ−ＭＳ分析による分子量の
測定、赤外線吸収スペクトル及び’ Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
８，８，９，９，１０，１０．１０−オクタフルオロ−
４，７−シオキサデセンー１ １７８ ｇ （０，５モ
ル）と、１．ｌ、３．３−テトラメチルジシロキサン２
０１ ｇ （１，５モル）とから、沸点７３〜７５°Ｃ
／ ５ ｍｍ１１ｇの留分７４ｇを得た。（収率３０％
）この留分を元素分析、ｃｃ−ＭＳ分析による分子量の
測定、赤外線吸収スペクトル及び’ Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析：
ＣＨ，Ｃ１ｈ
ＣＨＳｔ
計算値” ３１．８ ４．３ １１．５実
測値 ３１．９ ４．３ １１．６（＊Ｃ＋
３Ｈｚ＋Ｆ＋＋０３５ｉｚとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４９０と測定された。
測値 ３１．９ ４．３ １１．６（＊Ｃ＋
３Ｈｚ＋Ｆ＋＋０３５ｉｚとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４９０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図９に示す。波数２１３０ｃｍ
”’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
”’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ： ３
．７３〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，−ＣＦ−ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７０ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨｚ
−Ｃ）１．３０〜２．００ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＯＣＣＨ
ｚ Ｃ）０．３３〜０．８３ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−Ｃ
−ＣＨｚＳｉ ）０、Ｏ８ｐｐｍ （ｓ、６１
１．−３ｉ（ＣＨ，）ｚＯｓｉ）０．１２〜０．１７ｐ
ｐｍ（ｄ、６８．−５ｉＯ５ｉ（ＣＩ、ｄｚ Ｈ）４
．６０−５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｉ−Ｈ）以上の
結果より、得られた物質は下記式：で表される１−（６
−）リフルオロメチル−６゜８、 ８． ９． ９，１
０，１０．１０−オクタフルオロ−４゜７−ジオキサ〕
デシル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。
．７３〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，−ＣＦ−ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７０ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨｚ
−Ｃ）１．３０〜２．００ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＯＣＣＨ
ｚ Ｃ）０．３３〜０．８３ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−Ｃ
−ＣＨｚＳｉ ）０、Ｏ８ｐｐｍ （ｓ、６１
１．−３ｉ（ＣＨ，）ｚＯｓｉ）０．１２〜０．１７ｐ
ｐｍ（ｄ、６８．−５ｉＯ５ｉ（ＣＩ、ｄｚ Ｈ）４
．６０−５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｉ−Ｈ）以上の
結果より、得られた物質は下記式：で表される１−（６
−）リフルオロメチル−６゜８、 ８． ９． ９，１
０，１０．１０−オクタフルオロ−４゜７−ジオキサ〕
デシル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。
本発明は新規な有機ケイ素化合物を提供するものであり
、この有機ケイ素化合物は、種々の材料に含フツ素有機
基を導入し、これらの材料の耐熱性、耐薬品性、界面特
性等の種々の特性を改良するための前駆体として有用で
ある。
、この有機ケイ素化合物は、種々の材料に含フツ素有機
基を導入し、これらの材料の耐熱性、耐薬品性、界面特
性等の種々の特性を改良するための前駆体として有用で
ある。
図１〜９は、それぞれ実施例１〜３．５〜１０で得られ
た含フツ素有機化合物の赤外線吸収スペクトルの測定結
果である。 代理人 弁理士 岩見谷 周志 手続主甫正書（自発） 昭和６３年１２月刀日 事件の表示 昭和６３年特許願第２６５６３４号 発明の名称 含フツ素有機ケイ素化合物 補正をする者 事件との関係 特許出願人
た含フツ素有機化合物の赤外線吸収スペクトルの測定結
果である。 代理人 弁理士 岩見谷 周志 手続主甫正書（自発） 昭和６３年１２月刀日 事件の表示 昭和６３年特許願第２６５６３４号 発明の名称 含フツ素有機ケイ素化合物 補正をする者 事件との関係 特許出願人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＿ｆは式： Ｃ＿ｐＦ＿２＿ｐ＿＋＿１− （ここで、ｐは４〜１０の整数である） で表されるパーフルオロアルキル基又は 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、ｓは１〜４の整数である） で表される炭素原子数５〜１４のパーフル オロアルキルエーテル基であり、ｍ及び ｎは同一でも異なってもよく０又は１で ある〕 で表される含フッ素有機ケイ素化合物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63265634A JPH02115190A (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
| US07/424,553 US4968828A (en) | 1988-10-21 | 1989-10-20 | Fluorine-Containing organosilicon compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63265634A JPH02115190A (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115190A true JPH02115190A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17419861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63265634A Pending JPH02115190A (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Country Status (2)
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| JP (1) | JPH02115190A (ja) |
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-
1988
- 1988-10-21 JP JP63265634A patent/JPH02115190A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-20 US US07/424,553 patent/US4968828A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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| US4968828A (en) | 1990-11-06 |
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