JPH0211575B2 - - Google Patents

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JPH0211575B2
JPH0211575B2 JP57134781A JP13478182A JPH0211575B2 JP H0211575 B2 JPH0211575 B2 JP H0211575B2 JP 57134781 A JP57134781 A JP 57134781A JP 13478182 A JP13478182 A JP 13478182A JP H0211575 B2 JPH0211575 B2 JP H0211575B2
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copper
silver
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glyoxal
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Zaueru Uorufugangu
Harupuritsutaa Kurausu
Engerubatsuha Haintsu
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BASF SE
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BASF SE
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Publication date
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Publication of JPH0211575B2 publication Critical patent/JPH0211575B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/024Multiple impregnation or coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/70Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
    • B01J23/89Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
    • B01J23/8926Copper and noble metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/14Phosphorus; Compounds thereof
    • B01J27/16Phosphorus; Compounds thereof containing oxygen, i.e. acids, anhydrides and their derivates with N, S, B or halogens without carriers or on carriers based on C, Si, Al or Zr; also salts of Si, Al and Zr
    • B01J27/18Phosphorus; Compounds thereof containing oxygen, i.e. acids, anhydrides and their derivates with N, S, B or halogens without carriers or on carriers based on C, Si, Al or Zr; also salts of Si, Al and Zr with metals other than Al or Zr
    • B01J27/1802Salts or mixtures of anhydrides with compounds of other metals than V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, e.g. phosphates, thiophosphates
    • B01J27/1817Salts or mixtures of anhydrides with compounds of other metals than V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, e.g. phosphates, thiophosphates with copper, silver or gold
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/27Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
    • C07C45/32Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
    • C07C45/37Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of >C—O—functional groups to >C=O groups
    • C07C45/38Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of >C—O—functional groups to >C=O groups being a primary hydroxyl group

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、銅/銀状層触媒の存在下にグリコー
ルを酸化することによる、グリオキサールの新規
な製造方法に関する。 西ドイツ特許1923048号明細書によれば、銅を、
すず、燐、ひ素、アンチモン又はビスマスと組合
わせて含有する酸化触媒を用いてエチレングリコ
ールを気相酸化することにより、グリオキサール
を製造しうることが公知である。追加して銀をも
含有しうるこの触媒は、合金として好ましくは旋
盤くず又はガーゼの形で用いられる。銀/銅/燐
の組合わせによると、収率は反応したエチレング
リコールに対し55〜72%と記載されている。これ
より高い数値も、不完全なグリコールの変化率を
許容すれば達成できる。しかしそれは経済上の見
地から不満足である。なぜならば多大の費用をか
けないと、生成物から残留グリコールを除去でき
ないからである。そのほかこの既知方法によれば
得られる空時収量が不足であり、さらに煩雑な触
媒の製造も欠点である。 西ドイツ特許1967147号明細書では、エチレン
グリコールからグリオキサールを製造するため
に、燐を含有する銀触媒を推奨している。この方
法においても不満足な変化率を代償として、反応
したエチレングリコールに対し70%以下のグリオ
キサール収率が得られる。その空時収量は同様に
不満足である。 以上の欠点を除こうとする試みもなされてい
る。たとえば西ドイツ特許出願公開2634439号明
細書では、銅及び/又は銀からの燐含有触媒を用
いるときに、反応混合物に臭素化合物を添加する
ことが提案された。それによると、ほとんど完全
な変化率においてグリオキサール収率を80.5%に
増加できる。しかしこの方法においても空時収量
が不満足である。そのうえ約450℃の反応温度で
酵素の存在下に添加される作用の激しい臭素化合
物により、深刻な腐食の問題が生ずる。さらに銅
含有触媒が速やかに老化し、したがつて収率が低
下することも欠点である。 西ドイツ特許出願公開2158343号明細書の記載
によれば、西ドイツ特許1923048号明細書に記載
の触媒の選択率は、700時間の運転時間において、
60〜64%の開始時の数値から55%に低減する。さ
らに銅、銀及び燐含有の触媒が700時間の運転時
間ののち、450℃における12時間の還元により再
生可能であることも記載されている。同公開
2158344号明細書には、触媒上に少なくとも1日
間酸素を過剰に導通することによる、銅及び燐含
有触媒の再生法が記載されている。この再生方法
は、再生が生産中止に結び付き、そして再生のた
めに用いた空気が反応ガスと混合するのを防止す
るために高価な保安処置が必要であるという欠点
を有する。 西ドイツ特許出願公開2832405号明細書の方法
によれば、反応条件下に揮発性の燐化合物たとえ
ばトリメチルホスフエートの存在下に、225〜500
℃でエチレングリコールを気相酸化し、その際エ
チレングリコールの重量に対する燐の量(Pとし
て計算)を1〜100ppmにすると、銅触媒の寿命
が著しく延長される。その場合触媒は、旋盤く
ず、金網、ガーゼの形で又は担持触媒として装入
される。この方法によれば活性の低下はかなり防
止されるが、触媒活性の持続的安定性が高水準に
保たれない。 西ドイツ特許出願公開2803318号明細書には、
酸化を、粒径0.1〜2.5mmの銀結晶により、0.05秒
以下の滞留時間及び447〜707℃の温度で行うこと
による、グリコールからのグリオキサールの製法
が記載されている。この方法によると前記方法を
用いて得られるそれの数倍の空時収量が達成され
るが、55%にすぎない比較的低い収率が欠点であ
る。この収率は出発混合物にブロモホルムを添加
することにより改善できるが、その代わりに腐食
の問題及び生成物の純度についての難点が生ず
る。 これに対し熱反応ガスを西ドイツ特許出願公開
2922599号明細書の方法に従い水又はグリオキサ
ール水溶液により凝縮すると、収率が改善され
る。反応ガスのこの処理によれば約98%の変化率
においてグリオキサールの収率が、臭素化合物を
添加しないでも55%から62%まで増加する。さら
にこの方法によると、グリオキサールを40%水溶
液の普通に市販される形で直接に製造できる。そ
のほか前記公開2803318号明細書の方法に比して、
グリオキサールの色価が明らかに改善され、そし
て操業の確実性が、凝縮部位における閉塞の減少
により著しく向上する。しかしこの方法において
は、製造されたグリオキサール水溶液のグリコー
ルアルデヒドによる夾雑が欠点であり、このアル
デヒドの除去には経済上支持しうる手段が見出さ
れない。 それゆえエチレングリコールの接触酸化によ
る、グリオキサールの既知の製法は、好ましい程
度に複雑でなく、そして経済的な操業、簡単な触
媒の製造、触媒の長い耐用時間、良好な収率又は
空時収量及び製造されるグリオキサールの純度の
点において、満足できないものである。 本発明者らは、触媒が、1層又は2層以上の銅
結晶層と1層又は2層以上の銀結晶層とから成
り、かつ銅結晶及び銀結晶が0.1〜2.5mmの粒を有
するとき、銅及び銀から成る触媒上に、450〜800
℃の温度でエチレングリコールを酸素及び不活性
ガスと一縮に導通して、エチレングリコールを酸
化することによるグリオキサールの連続的製造法
において、特に有利な結果が達成されることを見
出した。 この新規方法によれば、酸素によるグリコール
の酸化が不活性ガスたとえば窒素の存在下に、た
とえば酸素1モルに対し不活性ガス4.4モル以上
の比率で行われる。酸素対エチレングリコールの
モル比は、好ましくは最小で0.7:1そして最大
では1.4:1である。450〜800℃という反応温度
は、触媒床中に生ずる温度を意味する。触媒層中
での反応混合物の滞留時間は、0.05秒を越えない
ようにする。 本発明方法において酸化が、銅結晶からの少な
くとも1個の層と、銀結晶からの少なくとも1個
の層とを含む多層触媒を用いて行われる。触媒全
層の厚さは5〜100mm好ましくは20〜40mmである。
触媒層は、通常垂直に設置された反応器内に配置
されている。出発物質であるエチレングリコール
の蒸気及び酸素又は空気からの出発混合物は、触
媒の最上層が同時に出発混合物に直面する触媒の
部分を意味するように、通常は上方から下方に向
つて導通される。他の構造様式の反応器、たとえ
ば水平に配置された反応器、あるいは出発混合物
の別の導入方法においては、触媒の上部及び下部
に関するすべての記載が有効である。 全触媒粒子の合計重量に対し銅結晶の割合は10
〜45重量%特に20〜30重量%であり、銀結晶の割
合は55〜90重量%特に70〜80重量%である。特に
好ましい場合は、触媒の全重量に対し銅結晶の割
合が25重量%、銀結晶の割合が75重量%である。 銅結晶層の数は銀結晶層の数と比較して多いか
同じか又は少なくてもよい。たとえば多層触媒
は、1〜4個好ましくは2又は3個の銅結晶層、
ならびに1〜4個好ましくは2又は3個の銀結晶
層から成る。銅結晶及び銀結晶は、0.1〜2.5mmの
粒径を有し、個々の層としては、たとえば0.2〜
0.4mm、0.4〜0.75mm、0.75〜1.0mm及び1.0〜2.5mmの
粒子画分が用いられる。 隣接する2層の粒径は、流れの方向に、増加す
るか同等のままか、あるいはたとえば銅層から銀
層へ又はその逆に変わる場合に減少してもよい。 銅結晶層は、単一層で又は多層が一緒になつ
て、各銀結晶層の上方及び/又は下方に配置でき
る。好ましくは2層又は3層だけの銅層を用い、
それを上部銀層の上方及び/又は下方に配置す
る。 個々の各銀層又は銅層の成層化は、その単一層
の厚さが全層横断面にかかわらず同一であるよう
に、多くの場合規則的である。この場合層の厚さ
は直接に全触媒への重量割合及び粒子の個々の粒
径の大きさに依存する。しかしすべての又は二つ
以上の層の好ましくは1個の銀層又は銅層の成層
化を、不規則にすることもできる。それは、たと
えば層の中央部、側部又は好ましくは周縁に触媒
粒子の主要量を配置し、対応してより少ない残量
を残りの層に分布させることにより行われる。隣
接する2層の厚さは、流れの方向に増加させ、同
じとなし、あるいは減少させることができる。 さらに、銅−銀層状触媒による酸化を、反応条
件下に揮発性の隣化合物を存在させて行うと、反
応に際して希望しない副反応として起こる二酸化
炭素の生成を減少させて、グリオキサールの収率
を増加しうることが見出された。その際燐化合物
の添加量は、それが二酸化炭素の生成を抑制する
ように配慮すべきであるが、グリコールからのグ
リオキサールの生成を考慮すると触媒の不活性化
を来たしてはならないので、本発明の方法におい
ては、エチレングリコールの重量に対して燐の量
(Pとして計算)が0.5〜20ppmになる量で揮発性
燐化合物が添加される。 反応条件下に揮発性な燐化合物としては、たと
えばトリメチルホスフエート、トリエチルホスフ
エート、トリイソプロピルホスフエート、トリ−
n−プロピルホスフエート、トリメチルホスフイ
ート、トリエチルホスフイート、トリエチルホス
フインオキシド、メチルホスホン酸ジエチルエス
テル、メチルホスホン酸ジメチルエステル又はエ
チルホスホン酸ジエチルエステルが用いられる。 触媒酸化で得られる蒸気状の反応混合物は、自
体既知の手段により仕上げ処理される。たとえば
それを、触媒層から出た直後に酸化生成物を直ち
に凝縮させる液体と接触させる。凝縮用液体とし
ては、水、凝縮された液状の反応混合物又は両液
体の混合物が用いられる。凝縮用液体として凝縮
された反応混合物を用いることが特に有利であ
る。凝縮用液体として凝縮した反応混合物を用い
るときは、冷却された凝縮用液体として循環に再
供給されない凝縮液の過剰部分を粗生成物として
取出し、そして所望により仕上げ処理に又は次の
反応に供給する。 320〜650℃の温度を有する蒸気状の反応混合物
を、好ましくは1秒以内に凝縮用液体と接触させ
る。凝縮用液体の温度はたとえば−20ないし+80
℃である。この処理はたとえば熱反応ガスの流れ
を直接に流れ方向に触媒層に直結する冷却室へ導
入して実施される。その際凝縮用液体を、平均直
径1〜2000μを有する小滴の形で反応ガスと接触
させるように操作することが好ましい。小滴は自
体普通の分散装置特にノズルにより造られる冷却
室への凝縮用液体の噴入は、好ましくは小滴の主
要量が、反応ガスの流れに、流れの軸に対し2〜
85゜の角度で衝突するように行うと有利である。 凝縮用液体(実施例では冷却用液ともいう)の
量は、反応ガス1重量部に対し好ましくは20〜
100重量部である。 本発明方法は既知方法に比して、より簡単かつ
より経済的な手段により、収率、空時収量、目的
物質の純度及び触媒の寿命に関してより良好な総
合結果を与える。触媒の製造及び触媒の仕上げ処
理は特に簡単である。電解的製法でも得られるよ
うな、必要粒径の銅結晶及び銀結晶を直接に使用
できる。 本発明方法では、長い寿命により優れている銅
−銀層状触媒を、交換が万一必要な場合は容易に
交換できる。銅層と銀層とは相互に機械的に分離
できる。それはたとえば銅層と銀層との間に銅、
銀又は特殊鋼製の網を入れることにより困難なし
に行いうる。続いて銅も銀もほとんど損失なし
に、電解により直接に再び触媒として有効な形に
戻すことができる。 40%水容液の普通に市販される形で直接取得し
うる、本発明方法により得られるグリオキサール
は、製品の高い品質により卓越し、それは長期間
にわたり不変に保持される。40%グリオキサール
溶液における未反応グリコールの残存含量は0.1
%以下であり、グリコールアルデヒド及びホルム
アルデヒドの含量はそれぞれ約1%にすぎない。
そのほかグリオキサール溶液の色価及び酸価も、
繊維、製紙及び皮革工業におけるこれに関する高
度の要求を充たすので、本発明方法においてはた
とえばイオン交換体を用いるような特別な精製工
程を必要としない。腐食現象の危険に関連する防
止剤としてのハロゲン化合物の添加は、本発明方
法においては避けられる。 本発明方法において特に指摘すべきことは、空
時収量が著しく良好なことであり、このことは既
知のグリオキサールの製法に比して小さい反応室
の使用を可能にする。この利点によつて製造経費
を低下することができる。これはグリオキサール
の高収率とあいまつて、本発明の方法に高度の経
済性を付与する。 この有利な結果は予測されなかつた。なぜなら
ば特定粒径の純粋な銅及び銀の結晶の単純な層状
結合が、他の添加物(促進剤)を有する銀/銅−
合金の既知の使用に比して、実際に反応速度にし
たがつて空時収量の著しい向上を可能にするとは
予想されなかつたからである。同様に純銀結晶の
使用に比して、収率を明らかに増加させるばかり
でなく、同時に副生物の量を著しく低下させるこ
とも予測できなかつたことである。また揮発性燐
化物の収率増加も意外であつた。なぜならば西ド
イツ特許出願公開2832405号明細書では、揮発性
燐化合物の積極的作用については、銅触媒の寿命
延長に関して言及されているにすぎないからであ
る。 本発明方法に用いられる銅−銀層状触媒におい
ては、長期操業の間に著しい活性の低下が起こら
ないので、触媒の寿命延長のための処置は必要で
ない。したがつて揮発性燐化合物の添加が、二酸
化炭素生成の減少によりある程度収率を高めるこ
とも予想外であつた。 下記例中の部は重量部を意味する。 例 1 (括弧内の数字は図面参照) それぞれエチレングリコール6、水7及び空気
又は窒素11用の供給管、エチレングリコール−
蒸発器1ならびに直立管状反応器2を有する装置
を用いる。反応器はその頂部に蒸気状出発混合物
のための供給管12と反応器円蓋を有する。触媒
層は反応器頂部の下方に存在し、さらに下方に冷
却室10が続き、これは充填体塔3の頂部を形成
する。凝縮物は一部が冷却用液として用いられ
る。冷却用液はポンプ4により熱交換器5及びノ
ズル装置を経由して触媒層の直後で熱ガス中に噴
霧され、冷却室で冷却されて一部凝結され、こう
して導管8を経てグリオキサール溶液を取出すこ
とができる。廃ガスは導管9を経て逃散する。 反応器2には、銅結晶及び銀結晶からの、下記
の組成を有する触媒(41部)が装入されている
(層の順序はガス流の方向で上から下へ)。
【表】 全触媒層の高さは30mmである。蒸発器1には毎
時エチレングリコール220部、水220部、空気536
部及び窒素1576部の混合物が供給され、器内で加
熱蒸発される。この蒸気状の出発混合物を触媒に
導通し、600℃及び1.2バールで反応させる。触媒
室での滞留時間は0.006秒である。 触媒層を立去る際の反応ガスの流速は毎秒4.8
mである。冷却用液体の温度は61℃で、冷却用液
体として切めは水が装入される。得られる凝縮反
応混合物の量に対応して、冷却用液体の一部を導
管8を経て連続排出する。試運転段階ののちに、
冷却用液体は凝縮する反応混合物による濃縮によ
り、その組成に対応する定常濃度に達する。その
後は反応混合物の凝縮量に対応して、冷却循環か
ら連続的に取出される生成物溶液の平均化が始ま
る。 冷却用液体のノズル噴射のため、間隙上に配置
されたそれぞれ6個のノズルを有する2個の環が
用いられる。環のノズルは、塔壁に沿つて存在
し、対称状に配置されている。すべてのノズルの
流れ軸に対する、小滴の衝突角度は種々であつ
て、15〜75゜の範囲である。小滴の70%において
この衝突角度は30〜75゜である。小滴は、200μm
の平均直径を有する。 毎時40重量%のグリオキサール溶液363部が得
られ(毎時グリオキサールとして145部、これは
使用グリコールに対して理論値の70.6%の収率に
相当する。触媒の寿命は90日間である。グリオキ
サール溶液は、エチレングリコール0.05重量%、
ホルムアルデヒド1.2重量%、グリコールアルデ
ヒド0.9重量%を含有し、そして酸価(グリオキ
サール溶液1gを中和するに要する水酸化カリウ
ムのmg量)は4である。 変化率は99.9%、空時収量は触媒容積1cm3及び
1時間当りグリオキサール15.4gである。3日間
の操業後の溶液の色価は12である(色価は
ASTMD1209−69による白金−コバルト尺度に
より測定された)。 例 2 (銀のみから成る層状触媒を用いる比較例) 例1と同一の装置を用いる。反応器には、例1
と同じであるが、ただし層1及び層2の銅の代わ
りに、同じ粒径の銀結晶の対応する量を用いた層
状触媒が装入される。 反応及び仕上げ処理は例1と同様に行う。32重
量%グリオキサール溶液が毎時386部得られ(毎
時グリオキサールとして124部)、これは使用グリ
コールに対して理論値の60.3%の収率に相当す
る。グリオキサール溶液は、エチレングリコール
1.2重量%、ホルムアルデヒド0.9重量%、グリコ
ールアルデヒド6.1重量%を含有し、そして酸価
は4である。変化率は97.9%、空時収量は触媒容
積1cm3及び1時間当りグリオキサール13.2gであ
る。3日間の操業後の溶液の色価は15である。 例 3 (銅のみから成る層状触媒を用いる比較例) 例1と同一の装置を用いる。反応器には、例1
と同じであるが、ただし層3及び層4の銀の代わ
りに、同じ粒径の銅結晶の対応する量を用いた層
状触媒が装入される。 反応及び仕上げ処理は例1と同様に行う。34重
量%グリオキサール溶液が毎時332部得られ(毎
時グリオキサール113部)、これは使用グリコール
に対して理論値の54.9%の収率に相当する。グリ
オキサール溶液は、エチレングリコール3.7重量
%、ホルムアルデヒド0.9重量%、グリコールア
ルデヒド1.2重量%を含有し、そして酸価は5で
ある。変化率は94.4%、空時収量は触媒容積1cm3
及び1時間当りグリオキサール12.0gである。3
日間の操業後の溶液の色価は20である。 例 4 (触媒として銅及び銀の混合物を用いる比較
例) 例1と同一の装置を用いる。反応器には、触媒
として例1と同じ粒径と重量分布を有する銅結晶
及び銀結晶の機械的混合物を装入する。合計量
(41部)は例1と同一である。触媒の充填高さは、
混合物のかさ密度がより大きいため27mmで若干低
い。 反応及び仕上げ処理は例1と同様に行う。33重
量%のグリオキサール溶液が毎時362部得られ
(毎時グリオキサール119部)、これは使用グリコ
ールに対し理論値の57.8%の収率に相当する。グ
リオキサール溶液は、エチレングリコール1.9重
量%、ホルムアルデヒド1.1重量%、グリコール
アルデヒド4.2重量%を含有し、4の酸価を有す
る。変化率は96.9%、空時収量は触媒容積1cm3
び1時間当りグリオキサール14.1gである。3日
間の操業後の溶液の色価は15である。 例 5 (揮発性燐化合物の添加例) 例1と同一の装置及び同一の多層触媒を用い
る。例1と同様に反応を600℃及び1.2バールで行
い、その際触媒に導通されるガス混合物に、追加
して毎時トリメチルホスフエート(CH3O)3PO
を0.003部(供給エチレングリコールの重量に対
しPとして3ppmに相当)添加する。 45重量%グリオキサール溶液が毎時353部得ら
れ(毎時グリオキサール159部)、これは使用グリ
コールに対し理論値の77.3%の収率に相当する。
触媒の寿命は90日間である。グリオキサール溶液
はエチレングリコール0.05重量%、ホルムアルデ
ヒド1.0重量%、グリコールアルデヒド1.05重量
を含有し、そして酸価は5である。変化率は99.9
%、空時収量は触媒容積1cm3及び1時間当りグリ
オキサール16.9gである。3日間の操業後の色価
は11である。 例 6 (揮発性燐化合物のより多量を用いる比較例) 例1と同一の装置を用いる。反応器には、例1
と同一の銅及び銀からの多層触媒が装入される。
反応を例5と同様に600℃及び1.2バールで行い、
ただし本例では触媒に導通されるガス混合物に、
トリメチルホスフエート(CH3O)3POを毎時0.03
部(供給エチレングリコールの重量に対しPとし
て30ppmに相当)添加する。 42重量%グリオキサール溶液が毎時357部(毎
時グリオキサール150部)得られ、これは使用グ
リコールに対し論理値の72.9%の収率に相当す
る。グリオキサール溶液は、エチレングリコール
1.1重量%、ホルムアルデヒド0.8重量%、グリコ
ールアルデヒド3.5重量%を含有し、酸価3を有
する。変化率は98.2%、空時収量は触媒容積1cm3
及び1時間当りグリオキサール16.0gである。3
日間の操業後の溶液の色価は9である。 後記の表に本発明の実施例及び比較例の重要な
結果を一括して示す。本発明による銅−銀層状触
媒1を使用する際は、純粋な銀又は銅触媒(2又
は3)又は銅−銀混合物4の使用におけるよりも
グリコール収率がきわめて高く、そしてグリオキ
サール溶液中の有害で分離困難な夾雑物の含有量
が明らかに少ない。燐3ppmの本発明による添加
5は、製品の品質をある程度改善すると共に、さ
らに収率を高める効果を奏する。しかし燐の量が
適正値を越えて増加すると(燐30ppmを用いる
6)、収率が低下し、そして製品の品質も低下す
る。
【表】
【表】 【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施態様を説明するための工
程図であつて、1はエチレングリコール、水及び
空気(又は窒素)が供給されるエチレングリコー
ルの蒸発器、2は触媒が装入された管状反応器、
10は冷却室、3は充填体塔、4は冷却用液体の
循環用ポンプそして8はグリオキサール溶液の排
出管を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 触媒が、1層又は2層以上の銅結晶層と1層
    又は2層以上の銀結晶層とから成り、かつ銅結晶
    及び銀結晶が0.1〜2.5mmの粒径を有することを特
    徴とする、銅及び銀から成る触媒上に、450〜800
    ℃の温度でエチレングリコールを酸素及び不活性
    ガスと一緒に導通して、エチレングリコールを酸
    化することによるグリオキサールの連続的製造
    法。 2 酸化を、反応条件下で揮発性の燐化合物の存
    在下に行い、その場合エチレングリコールの重量
    に対する燐の量(Pとして計算)が0.5〜20ppm
    であることを特徴とする、特許請求の範囲第1項
    に記載の方法。 3 銀結晶の割合が触媒の全重量に対し55〜90重
    量%であることを特徴とする、特許請求の範囲第
    1項に記載の方法。 4 触媒が銅結晶の1ないし4層と銀結晶の1な
    いし4層とから成ることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項に記載の方法。 5 触媒が銅結晶の2層又は3層と銀結晶の2層
    又は3層とから成ることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項に記載の方法。
JP57134781A 1981-08-04 1982-08-03 グリオキサ−ルの製法 Granted JPS5826837A (ja)

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EP0072912A1 (de) 1983-03-02
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