JPH02116020A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスク、更に詳しくは優れた、かつ安
定した結晶配向性をもつ磁気記録媒体膜を有する磁気デ
ィスクに関する。

〔従来の技術〕

フロッピーディスク、ハードディスク等の磁気ディスク
を製造する際、ターゲットと基板の間にマスクを設ける
か、ターゲット径を小さくし、スパッタ法によりスパッ
タ粒子を斜めに基板に入射させる方法が知られている（
特開昭６２−８２５１６号、同６２−８２５１７号）、
このようにして、非磁性基板上に、第１層として、例え
ばＣｒ層、第２層として例えばＣｏｓ　Ｃｏ−Ｊｌｌｉ
層が積層された磁気ディスクが製造される。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このような磁気ディスク（第１層の非磁
性Ｃｒの膜厚は１０００〜６０００人、第２層の磁性Ｃ
ｏもしくはＣｏ−Ｎｉの膜厚は２５０〜５００人）は、
保磁力Ｈｃが１２０００ｅ程度、Ｈｃの周方向と径方向
の比（Ｈｃ比）が１．２〜１．７　、角型比Ｓが０．８
程度、保磁力角型比Ｓ０が０．８５程度であり、その静
磁気特性が充分なものではない。

本発明の目的は、このような事情に鑑み、静磁気特性が
可及的に向上した磁気ディスクを提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、前記目的を達成するものとして、非磁性基板
上に、実質的にＣｒからなる第１層、およびＣｏ−Ｎｉ
系もしくはＣｏ系磁気記録媒体膜である第２層が形成さ
れてなる磁気ディスクにおいて、該第２層中にＹＳＬａ
、、　Ｃｅｓ　Ｐｒ％Ｎｄｓ　Ｓｌ１％　Ｇｄ５Ｔｂｓ
　Ｄｙのうちの１種以上および酸素を含有せしめたこと
を特徴とするものである。

〔作　用〕

以下、本発明を更に詳細に説明する。

本発明の磁気ディスクにおいて、まず、非磁性基板とし
ては、Ａｔ’、Ｎ１−Ｐ下地が施されたＡＩＡＪ１１０
２、耐熱性プラスチック、ガラスなどが使用できる。

次に、この非磁性基板上に、第１層として形成されるＣ
ｒ層は、実質的にＣｒからなるものであり、Ｃｒ単味で
も、Ｃｕｓ　Ｔａｓ　Ｗ、、Ｎｂ、Ｔｔ、■、Ｚｒ５Ｍ
０％Ｚｎなどの元素が添加されていてもよい、また、こ
のＣｒ層には、酸素が１０重量％以下含有せしめられて
いることが好ましい、この酸素は、第１層として形成さ
れるＣｒ層の結晶配向性、ひいては第２層のＣｏもしく
はＣｏ−Ｎｉ層の結晶配向性を向上させ、ＨｃおよびＨ
ｃ比を向上させる。この量が１０％を超えると、第１層
のＣｒ層の表面に酸化膜が生成し、第２層のＣｏもしく
はＣｏ−Ｎｉ層のエピタキシャル成長が不可能になり易
くなるため、磁気特性が急激に劣化する。

更に、前記Ｃｒ層上に形成される第２層のＣｏ−Ｎｉ層
は、３０重量％以下のＮｉを含有するのが好ましい、３
０％を超えると、この層の残留磁化が大幅に減少し、磁
気特性が劣化する。また、第２層のＣｏもしくはＣｏ−
Ｎｉ層には、Ｙ％　Ｌａ５Ｃｅｖ　Ｐｒｓ　ＮｄｘＳｓ
ＳＧｄ、　Ｔｂ、　Ｄｙのうち１種以上Ｒが含有せしめ
られていることが必要であり、その量は好ましくは１５
重量％以下である。このＲはＨｃを向上させるために添
加含有させる。Ｒの量が１５重量％を超えると、Ｈｃや
飽和磁化が減少する傾向が生ずる。

更に、この層には、酸素が含有せしめられていることが
必要であり、その量は、好ましくは重量にて５００ｐｐ
−〜１０％である。この酸素はＨｃおよびＨｃ比を向上
させるために添加含有させる。これは、酸素が結晶粒を
微細化すると共に結晶粒界に偏析し、結晶粒を孤立化さ
せることによると推察される。酸素量が５００ｐｐ−未
満では、上記酸素の効果が希薄であるのみならず、成膜
時装置内で発生する酸素を主とする微量の不純物ガスに
より、磁気ディスクの静磁気特性が成膜ごとにバラつき
易くなる。一方、１０％を超えると、第２層のＣＯもし
くはＣｏ−Ｎｉ層が酸化し静磁気特性が劣化する。

本発明の第１層、第２層の膜は、スパッタリング法、真
空蒸着法、イオンブレーティング法などにより形成する
ことができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を比較例、従来例と共に説明する
。

実施例１ 厚さ１．５　ｖａｎの、Ｎ１−Ｐめっき下地が施された
Ａ１１Ｍ板上に、マグネトロンスパッタ装置を用いて、
第１層として膜厚３０００人のＣｒ単味層、第２層とし
てＮｉ２Ｏ重量％、ＲＯ〜１８重量％、残部ＣＯからな
り、膜厚５００人の磁気記録媒体膜を形成した。

この際の成膜条件はいずれの試験においても次の通りで
あった。

第１表 注：酸素ガスは、バリアプルリークパルプを用いて導入
した。

得られた磁気ディスクは切断し、各々、組成分析と磁気
特性の評価に供した０組成分析はＥＰＭＡ分析、ＳＩＭ
Ｓ分析および化学分析を併用し、また、磁気特性は、振
動試料型磁力計により測定した。

得られた結果を第２表を示す。

実施例２ 第１層を形成する際、Ｎｂを重量にて１．５％添加した
以外は、実施例１と同様にして磁気ディスクを得て、評
価に供した。また、添加したＮｂの組成分析はＥＰＭ八
分へによった。

得られた結果を第３表に示す。

〔発明の効果〕

以上から明らかなように、本発明により、従来の、第２
層としてのＣＯもしくはＣｏ−Ｎｉ層に実質的に酸素を
含有せしめない磁気ディスクに比較して、静磁気特性を
著しく向上せしめることができる。

また、本発明は制御容易な酸素導入により製造すること
ができるので、良好な配向性のものを成膜ごとにバラク
かせず、安定して提供することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板上に、実質的にＣｒからなる第１層、
   およびＣｏ−Ｎｉ系もしくはＣｏ系磁気記録媒体膜であ
   る第２層が形成されてなる磁気ディスクにおいて、該第
   ２層中にＹ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、ＧｄＴｂ
   、Ｄｙのうちの１種以上および酸素を含有せしめたこと
   を特徴とする磁気ディスク。