JPH02116019A - 磁気ディスク - Google Patents

磁気ディスク

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Publication number
JPH02116019A
JPH02116019A JP26821888A JP26821888A JPH02116019A JP H02116019 A JPH02116019 A JP H02116019A JP 26821888 A JP26821888 A JP 26821888A JP 26821888 A JP26821888 A JP 26821888A JP H02116019 A JPH02116019 A JP H02116019A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic disk
magnetic
oxygen
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP26821888A
Other languages
English (en)
Inventor
Riyuuichi Kuzuo
竜一 葛尾
Atsushi Kawamoto
淳 川本
Junya Tada
多田 準也
Kenji Omori
賢次 大森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP26821888A priority Critical patent/JPH02116019A/ja
Priority to EP19890305008 priority patent/EP0342966A3/en
Publication of JPH02116019A publication Critical patent/JPH02116019A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスク、更に詳しくは優れた、かつ安
定した結晶配向性をもつ磁気記録媒体膜を有する磁気デ
ィスクに関する。
〔従来の技術〕
フロッピーディスク、ハードディスク等の磁気ディスク
を製造する際、ターゲットと基板の間にマスクを設ける
か、ターゲット径を小さくし、スパッタ法によりスパッ
タ粒子を斜めに基板に入射させる方法が知られている(
特開昭62−82516号、同62−82517号)。
このようにして、非磁性基板上に、第1層として、例え
ばCr層、第2層として例えばCo、 Co−Ni層が
積層された磁気ディスクが製造される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような磁気ディスク(第1層の非磁
性Crの膜厚は1000〜6000人、第2層の磁性C
oもしくはCo−Niの膜厚は250〜500人)は、
保磁力Hcが12000e程度、Hcの周方向とその静
磁気特性が充分なものではない。
本発明の目的は、このような事情に鑑み、静磁気特性が
可及的に向上した磁気ディスクを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、前記目的を達成するものとして、非磁性基板
上に、実質的にCrからなる第1層、およびCo−Ni
系もしくはCo系磁気記録媒体膜である第2層が形成さ
れてなる磁気ディスクにおいて、該第2層中に酸素を含
有せしめたことを特徴とするものである。
(作 用〕 以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明の磁気ディスクにおいて、まず、非磁性基板とし
ては、AIl、N1−P下地が施されたAl、A11o
s、耐熱性プラスチック、ガラスなどが使用できる。
次に、この非磁性基板上に、第1層として形成されるC
r層は、実質的にCrからなるものであり、Cr単味で
も、Cus Tas W% Nbs Tis V% Z
rs MO%Znなどの元素が添加されていてもよい。
また、このCr層には、酸素が10重量%以下含有せし
められていることが好ましい、この酸素は、第1層とし
て形成されるCr層の結晶配向性、ひいては第2層のC
oもしくはCo−Ni層の結晶配向性を向上させ、Hc
およびHc比を向上させる。この量が10%を超えると
、第1層のCr層の表面に酸化膜が生成し、第2層のC
oもしくはCo−Ni層にエピタキシャル成長が不可能
になり易くなるため、磁気特性が急激に劣化する。
更に、前記Cr層上に形成される第2層のCo−Ni層
は、30重量%以下のNiを含有するのが好ましい、3
0%を超えると、この層の残留磁化が大幅に減少し、磁
気特性が劣化する。また、第2層のCoもしくはCo−
Ni層には、酸素が含有せしめられていることが必要で
あり、その量は、好ましくは重量にて500pp−〜1
0%である。この酸素はHeおよびHc比を向上させる
ために添加含有させる。
これは、酸素が結晶粒を微細化すると共に結晶粒界に偏
析し、結晶粒を孤立化させることによると推察される。
酸素量が500pp+w未満では、上記酸素の効果が希
薄であるのみならず、成膜時装置内で発生する酸素を主
とする微量の不純物ガスにより、磁気ディスクの静磁気
特性が成膜ごとにバラつき易くなる。一方、10%を超
えると、第2層のCoもしくはCo−Ni層が酸化し静
磁気特性が劣化する。
本発明の第1層、第2層の膜は、スパッタリング法、真
空蒸着法、イオンブレーティング法などにより形成する
ことができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を比較例、従来例と共に説明する
実施例1 厚さ1.5鶴の、N1−Pめっき下地が施されたA1基
板上に、マグネトロンスパッタ装置を用いて、第1層と
して膜厚3000人のCr単味層、第2NとしてNi2
O重量%、残部Coからなり、膜厚500人の磁気記録
媒体膜を形成した。この際の成膜条件はいずれの試験に
おいても次の通りであった。
第1表 注:酸素ガスは、バリアプルリークバルブを用いて導入
した。
得られた磁気ディスクは切断し、各々、組成分析と磁気
特性の評価に供した。組成分析は、S■MS分析および
化学分析を併用し、また、磁気特性は、振動試料型磁力
計により測定した。
得られた結果を第2表に示す。
実施例2 第1層を形成する際、Nbを重量にて1.5%添加した
以外は、実施例1と同様にして磁気ディスクを得て、評
価に供した。また、添加したNbの組成分析はBPMA
分析によった。
得られた結果を第3表に示す。
〔発明の効果〕
以上から明らかなように、本発明により、従来の、第2
層としてのCoもしくはCo−Ni層に実質的に酸素を
含有せしめない磁気ディスクに比較して、静磁気特性を
著しく向上せしめることができる。
また、本発明は制御容易な酸素導入により製造すること
ができるので、良好な配向性のものを成膜ごとにバラツ
かせず、安定して提供することができる。
特許出願人住友金属鉱山株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)非磁性基板上に、実質的にCrからなる第1層、
    およびCo−Ni系もしくはCo系磁気記録媒体膜であ
    る第2層が形成されてなる磁気ディスクにおいて、該第
    2層中に酸素を含有せしめたことを特徴とする磁気ディ
    スク。
JP26821888A 1988-05-18 1988-10-26 磁気ディスク Pending JPH02116019A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26821888A JPH02116019A (ja) 1988-10-26 1988-10-26 磁気ディスク
EP19890305008 EP0342966A3 (en) 1988-05-18 1989-05-17 Magnetic disc

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26821888A JPH02116019A (ja) 1988-10-26 1988-10-26 磁気ディスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02116019A true JPH02116019A (ja) 1990-04-27

Family

ID=17455554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26821888A Pending JPH02116019A (ja) 1988-05-18 1988-10-26 磁気ディスク

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JP (1) JPH02116019A (ja)

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