JPH02117928A - 紫外線吸収剤を被覆した物品 - Google Patents
紫外線吸収剤を被覆した物品Info
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- JPH02117928A JPH02117928A JP1199539A JP19953989A JPH02117928A JP H02117928 A JPH02117928 A JP H02117928A JP 1199539 A JP1199539 A JP 1199539A JP 19953989 A JP19953989 A JP 19953989A JP H02117928 A JPH02117928 A JP H02117928A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な改良された紫外線吸収剤に関するもので
あり、又下塗り後この添加剤を含む組成物で被覆した物
品に関するものである。本発明の新規な化合物は、芳香
族・系紫外線吸収剤のシラノール基反応性アルコキンン
リル又はアルカノイルオキシシリルアルキルエーテル付
加物である。
あり、又下塗り後この添加剤を含む組成物で被覆した物
品に関するものである。本発明の新規な化合物は、芳香
族・系紫外線吸収剤のシラノール基反応性アルコキンン
リル又はアルカノイルオキシシリルアルキルエーテル付
加物である。
ガラスパネルに代わって透明なプラスチック材料がより
広く使用されるようになった。例えば、現([合成0機
重合体から製造された透明ガラスが、汽車、バス等の輸
送機関、光学機器及び建築材料においてよく使用されて
いる。ガラスに比べ、透明プラスチックは破砕せず、し
かも経い。
広く使用されるようになった。例えば、現([合成0機
重合体から製造された透明ガラスが、汽車、バス等の輸
送機関、光学機器及び建築材料においてよく使用されて
いる。ガラスに比べ、透明プラスチックは破砕せず、し
かも経い。
このような利点な有する一方、透明プラスチックは表面
に引かき傷や表面損傷を受けやすく、そのため透明度が
低下し外観全損う。更に、透明プラスチックは日光等の
紫外線に長くさらされると変色しゃ寸い。
に引かき傷や表面損傷を受けやすく、そのため透明度が
低下し外観全損う。更に、透明プラスチックは日光等の
紫外線に長くさらされると変色しゃ寸い。
そとで、これまでに透明プラスチックの耐摩耗性を改善
する試みがなされてきた。例えばアルコールと水のよう
な適当な媒体中のシリカ及び加水分解性シランの混合物
から、このプラスチックに耐摩耗性又は耐引かき性の被
膜をつくることが提案され六。この保護被覆はMisc
h等の米国特許第へ70a225号明細書、01ark
の米国特許第へ98へ997号及び第へ974497号
明細書及びUbersaxの米国特許$ a、177.
315号明細書に記載されている。別の酊引かき性保護
枳膜力ζ1978年11月30日出願の米国特許出願第
964、910号及び第964911号(本発明と同じ
く該渡されている)に記載嘔れている。通常、これらは
下塗りした透明プラスチックの表面に塗布されそこで硬
化される。
する試みがなされてきた。例えばアルコールと水のよう
な適当な媒体中のシリカ及び加水分解性シランの混合物
から、このプラスチックに耐摩耗性又は耐引かき性の被
膜をつくることが提案され六。この保護被覆はMisc
h等の米国特許第へ70a225号明細書、01ark
の米国特許第へ98へ997号及び第へ974497号
明細書及びUbersaxの米国特許$ a、177.
315号明細書に記載されている。別の酊引かき性保護
枳膜力ζ1978年11月30日出願の米国特許出願第
964、910号及び第964911号(本発明と同じ
く該渡されている)に記載嘔れている。通常、これらは
下塗りした透明プラスチックの表面に塗布されそこで硬
化される。
被覆用組成物に紫外線吸収剤を入れること罠よって、透
明プラスチック上の被膜が日光暴露により劣化するのを
防ぐ試みもなされた。それらの多くの紫外線吸収物質の
欠点は、賀・通は加熱硬化のサイクルにおいて、例えば
揮発によシ組成物中から逃げやすいことである。この欠
点を克服するために、例えばアメリカンシアナミドのシ
アソルプ(ayasorb ) UV−531などの高
分子量の紫外線吸収物質が使われたが、完全には成功し
々かった。
明プラスチック上の被膜が日光暴露により劣化するのを
防ぐ試みもなされた。それらの多くの紫外線吸収物質の
欠点は、賀・通は加熱硬化のサイクルにおいて、例えば
揮発によシ組成物中から逃げやすいことである。この欠
点を克服するために、例えばアメリカンシアナミドのシ
アソルプ(ayasorb ) UV−531などの高
分子量の紫外線吸収物質が使われたが、完全には成功し
々かった。
Proskovの米国特許第4.051.161号には
別の方法が開示されており、そ’/’lは芳香族系紫外
線吸収化合物のシラノール基反応性官能誘導体と共にシ
リコーン−フルオロヒドロキシ共重合体の被覆を用いる
ものである。
別の方法が開示されており、そ’/’lは芳香族系紫外
線吸収化合物のシラノール基反応性官能誘導体と共にシ
リコーン−フルオロヒドロキシ共重合体の被覆を用いる
ものである。
シラノール基反応性の官能基に寄与する添加剤としては
り雑なエポキシシラン化合物な使うことが提案されてい
る。Proskowの被aFi、先に述べた引用例の好
ましい、あまり1w雑でないシリカ−加水分解性シラン
の核種とは異なる。更に、本件に係れる原米国出願と共
に譲渡され同時に出願されたT−Y Ohingの米国
特許出願に記載されているような新規な化合物は、下金
をしないプラスチックの表面に用いる耐引かき性技覆と
しても非常に適している。他の、原米国出願と共に、譲
渡され同時に出願された米国特許出願も、官能化され7
’?UV遮へい物罠関するものである。ム5hbyの米
国特許出願第154626号及びT−Y、 (11in
gの米国特許出願第154625号を参照されたい。
り雑なエポキシシラン化合物な使うことが提案されてい
る。Proskowの被aFi、先に述べた引用例の好
ましい、あまり1w雑でないシリカ−加水分解性シラン
の核種とは異なる。更に、本件に係れる原米国出願と共
に譲渡され同時に出願されたT−Y Ohingの米国
特許出願に記載されているような新規な化合物は、下金
をしないプラスチックの表面に用いる耐引かき性技覆と
しても非常に適している。他の、原米国出願と共に、譲
渡され同時に出願された米国特許出願も、官能化され7
’?UV遮へい物罠関するものである。ム5hbyの米
国特許出願第154626号及びT−Y、 (11in
gの米国特許出願第154625号を参照されたい。
ここに、すべての@要な点ですぐれた性質をもつ芳香族
系紫外線吸収剤の反応性官能誘導体が、アルコキシシリ
ルアルキル−又はアルカノイルオキシシリルアルキルエ
ーテル官能基を用いることによシ得られること、及びこ
れらはそれ程複雑ではない系、つまり米国特許第4.0
51.161号で請求されている共重合体+:’;q剤
の系でない系に於いて有用であることが見出された。
系紫外線吸収剤の反応性官能誘導体が、アルコキシシリ
ルアルキル−又はアルカノイルオキシシリルアルキルエ
ーテル官能基を用いることによシ得られること、及びこ
れらはそれ程複雑ではない系、つまり米国特許第4.0
51.161号で請求されている共重合体+:’;q剤
の系でない系に於いて有用であることが見出された。
本発明の新規化合物を用いると、下塗された透明プラス
チックのための酎引かき性被覆が紫外線に暴露された場
合、暴露による変色舎起こりにくくすることができる。
チックのための酎引かき性被覆が紫外線に暴露された場
合、暴露による変色舎起こりにくくすることができる。
この変性紫外線吸収剤は、耐引かき性被覆用組成物のポ
リシロキサンとの共反応に適しているので、加熱の工程
において述げたり酸化したりする傾向は大巾に減少する
。これは、先行技術に比べて実質的な節約を提供するも
のである。
リシロキサンとの共反応に適しているので、加熱の工程
において述げたり酸化したりする傾向は大巾に減少する
。これは、先行技術に比べて実質的な節約を提供するも
のである。
本発明によって、式
%式%
= 3、
p、==1〜6個の炭素原子を有するアルキル基はアル
カノイル基、 1’l、=1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、好
ましくはメチル基、n=0.1又は2、加=1〜18) の新規な紫外線吸収剤が提供場れる。
カノイル基、 1’l、=1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、好
ましくはメチル基、n=0.1又は2、加=1〜18) の新規な紫外線吸収剤が提供場れる。
上記群の中で次の化合物が望ましい。
HO0″L
ON Cゴ0
\
OC肯
υN
式中Qは−C馬5x(oa島)、、−C鴇SiO島(O
a馬)よ。
a馬)よ。
−CB181(OHa)z(OOHa)−”a CCH
a h8’ (0Cf31)s * −0Hz (OB
a )ts iC島(OOHa)z。
a h8’ (0Cf31)s * −0Hz (OB
a )ts iC島(OOHa)z。
−〇鳥(C山)、8l−
(OC!OCHりi 、 −CEbCOFbhBlCA
bCOCOCkb)x 。
bCOCOCkb)x 。
−C島(C烏)ts1(C![3)、−(OC00馬)
、−014C−8i(OC馬)s+−C−C山5iCH
3(00馬〕2.又は−”a”Th81(Ol(a)x
(Oai)。
、−014C−8i(OC馬)s+−C−C山5iCH
3(00馬〕2.又は−”a”Th81(Ol(a)x
(Oai)。
特に好ましいのは化合物4− (: r −() 11
エトキシシリル)フロボキシ〕−2−ヒドロキシベンゾ
フェノンである。
エトキシシリル)フロボキシ〕−2−ヒドロキシベンゾ
フェノンである。
本発明は又、下塗後に、有効量の前記紫外線吸収剤及び
式RBi(OH)、 [但しRは1〜5個の炭素原子
を有するアルキル基及びアリール基から成る群より選択
され、少くとも70重i[のシラノールが(!Hs81
(OFi)sである〕で表わ逼れるシラノールの部分縮
合物の脂肪族アルコール−水の溶液にコロイドシリカを
分散させ六分散液、から成る新規な組成物で被覆された
基体から成る物品も含む。
式RBi(OH)、 [但しRは1〜5個の炭素原子
を有するアルキル基及びアリール基から成る群より選択
され、少くとも70重i[のシラノールが(!Hs81
(OFi)sである〕で表わ逼れるシラノールの部分縮
合物の脂肪族アルコール−水の溶液にコロイドシリカを
分散させ六分散液、から成る新規な組成物で被覆された
基体から成る物品も含む。
分散液Fi1Q〜50重量%の固形分を含み、この固形
分は実贋的に10〜70重量%のコロイドシリカ及び3
0〜90重量Xの部分縮合物から成る。
分は実贋的に10〜70重量%のコロイドシリカ及び3
0〜90重量Xの部分縮合物から成る。
好ましくは分散液のpHF′i7.1〜約18である。
本発明の紫外線吸収剤は、例えば式
(式中X、Y及びzVi前に定義された通り)の化合物
から出発する適宜の方法によって製造される。
から出発する適宜の方法によって製造される。
この方法においては、溶媒中で上記化合物1モルがナト
リウムメチラート等の塩基1モルと反応してモノナ)
IJウム塩等の塩を生成し、次にこの塩が式cza島(
C馬)n81(−)工(oRl)ア のノ〜ロゲン化ア
ルコキクシラン又はアルカノイルオキシシランと反応す
る。もちろん他の方法も当分野の技術者には明らかだろ
う。
リウムメチラート等の塩基1モルと反応してモノナ)
IJウム塩等の塩を生成し、次にこの塩が式cza島(
C馬)n81(−)工(oRl)ア のノ〜ロゲン化ア
ルコキクシラン又はアルカノイルオキシシランと反応す
る。もちろん他の方法も当分野の技術者には明らかだろ
う。
実例として適当な方法を以下に示す。
(式中X% Y% ZlQSEl、馬、n、X及びyは
曲記定義の通り) 一般に、ナトリウムメチラートとフェノール往水酸基含
有出発物質の反応1120〜65℃の範囲で30分〜2
時間の間貸なわれる。生成するナトリウム塩とクロルア
ルコキシシランとの反応は40〜100℃の範囲で2〜
6時間行なわれる。
曲記定義の通り) 一般に、ナトリウムメチラートとフェノール往水酸基含
有出発物質の反応1120〜65℃の範囲で30分〜2
時間の間貸なわれる。生成するナトリウム塩とクロルア
ルコキシシランとの反応は40〜100℃の範囲で2〜
6時間行なわれる。
普通50〜80%の収率である。操作は1つの容器内で
段階的に行彦い、次いで創成物の塩をろ過して除き、溶
剤をストリッピングによシ除き残留物を生成物として集
める。固体生成物の場合には、所望により適当な溶剤か
ら再結晶させることができる。
段階的に行彦い、次いで創成物の塩をろ過して除き、溶
剤をストリッピングによシ除き残留物を生成物として集
める。固体生成物の場合には、所望により適当な溶剤か
ら再結晶させることができる。
上記反応に用いるノ〜ロゲン化アルコキシシランは、塩
化アルケニルと相当するアセトキシシリルハイドライド
又はアセトキシシリルハイドライドとの白金触媒による
反応Vこより好収率で製造される。他に、塩化アルケニ
ルと相当するクロルシランとを反応づせ、次いで既知の
方法でアルコキシル化又はアシルオキシ化しても得るこ
とができる。又、本発明で有用なノ・ロゲン化アルコキ
シシランは、例えば相当するクロルメテルクロルンラン
のアルコキシル化によっても製造される。これらの製造
方法は、G、 H,Wagner の米国特許用2−
63ス858号明細隻及びH,D、 Kaeszaとp
、 Q、 A。
化アルケニルと相当するアセトキシシリルハイドライド
又はアセトキシシリルハイドライドとの白金触媒による
反応Vこより好収率で製造される。他に、塩化アルケニ
ルと相当するクロルシランとを反応づせ、次いで既知の
方法でアルコキシル化又はアシルオキシ化しても得るこ
とができる。又、本発明で有用なノ・ロゲン化アルコキ
シシランは、例えば相当するクロルメテルクロルンラン
のアルコキシル化によっても製造される。これらの製造
方法は、G、 H,Wagner の米国特許用2−
63ス858号明細隻及びH,D、 Kaeszaとp
、 Q、 A。
5tonoによるJ、Cbem、Soa、 (1957
羊) 1433等の文献に記載されており、又0. K
abornのOrganosilicon Compo
unds、ButterworthsSaientif
io 発行、ロンドン、1960も参照できる。
羊) 1433等の文献に記載されており、又0. K
abornのOrganosilicon Compo
unds、ButterworthsSaientif
io 発行、ロンドン、1960も参照できる。
本発明の新規化合物の別の製造方法は、例えば乙4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノンと臭化アリルとを炭酸カリウ
ムの存在下還流アセトン中で反応させてジアリールケト
ンのアリルエーテルを形成し、次Vc4−了りルオキシ
ー2−ヒドロキシベンゾフェノンとアルコキシ又はアシ
ルオキシシランとをトルエン中白金触媒の存在下でシリ
ル化すると七から成る。本件に係わる原米国出特2同日
付の前記T−Y Ohingの米国特許出願に開示され
ている。
ヒドロキシベンゾフェノンと臭化アリルとを炭酸カリウ
ムの存在下還流アセトン中で反応させてジアリールケト
ンのアリルエーテルを形成し、次Vc4−了りルオキシ
ー2−ヒドロキシベンゾフェノンとアルコキシ又はアシ
ルオキシシランとをトルエン中白金触媒の存在下でシリ
ル化すると七から成る。本件に係わる原米国出特2同日
付の前記T−Y Ohingの米国特許出願に開示され
ている。
本発明の級住用組成物は式R81(OR)3(式中R1
11〜3個の炭素原子を有するアルキル基又はアリール
基好ましくはフェニル基)を有するアルキルトリアルコ
キシンラン又はアリールトリアルコキシシランをコロイ
ドシリカの水性分散液中で加水分解して反応生成物を得
、それに前述の紫外瞭吸収剤を添加して得られる。
11〜3個の炭素原子を有するアルキル基又はアリール
基好ましくはフェニル基)を有するアルキルトリアルコ
キシンラン又はアリールトリアルコキシシランをコロイ
ドシリカの水性分散液中で加水分解して反応生成物を得
、それに前述の紫外瞭吸収剤を添加して得られる。
一般的(ζコロイドシリカの水性分散液は平均粒径5〜
150ミリミクロン、好壕しくは10〜30ミリミクロ
ンの粒度である点に特徴がある。
150ミリミクロン、好壕しくは10〜30ミリミクロ
ンの粒度である点に特徴がある。
このような分散液は当分骨では既知である。市販の材料
にはルドツクス(r、uaox ) (デュポン)及び
ナルコーグ(Nalcoag) (ナルコケミカル社)
がある。これらは酸性又は塩基性のヒドロシルの形で利
用できる。本発明に関しては、もし被覆用組成物が塩基
性である場合には、通常その組成物しては塩基性コロイ
ドシリカゾルが好ましい。一方、最初酸性であっても塩
基tlcv4整してコロイドシリカを使うことができる
。低アルカリ分、例えばNazOとしてα35ii1%
以下を含むコロイドシリカがより安定な被覆用組成物を
提供し、好ましいこきが見出された。
にはルドツクス(r、uaox ) (デュポン)及び
ナルコーグ(Nalcoag) (ナルコケミカル社)
がある。これらは酸性又は塩基性のヒドロシルの形で利
用できる。本発明に関しては、もし被覆用組成物が塩基
性である場合には、通常その組成物しては塩基性コロイ
ドシリカゾルが好ましい。一方、最初酸性であっても塩
基tlcv4整してコロイドシリカを使うことができる
。低アルカリ分、例えばNazOとしてα35ii1%
以下を含むコロイドシリカがより安定な被覆用組成物を
提供し、好ましいこきが見出された。
組成物の製造において、コロイドシリカの水性分散液は
、例えば(LO7〜cL10重量%の少量のアルキルト
リアセトキシシランを含むアルキルトリアルコキシシラ
ン又はアリールトリアルコキシシランの溶液へ添加嘔れ
る。反応混合液の温度は20′〜40℃好ましくは25
℃以下の範囲に保たれる。最初の2相の混合液がシリカ
を分散して含む単一の液相上なるよう、十分なトリアル
コキシシランを反応させるにVi普通約6〜8時間で足
りる。望む最終粘度に依り、加水分解は24〜48時間
続けてよい。一般に、加水分解される時間が長けれは長
い程f&終粘度は高くなる。
、例えば(LO7〜cL10重量%の少量のアルキルト
リアセトキシシランを含むアルキルトリアルコキシシラ
ン又はアリールトリアルコキシシランの溶液へ添加嘔れ
る。反応混合液の温度は20′〜40℃好ましくは25
℃以下の範囲に保たれる。最初の2相の混合液がシリカ
を分散して含む単一の液相上なるよう、十分なトリアル
コキシシランを反応させるにVi普通約6〜8時間で足
りる。望む最終粘度に依り、加水分解は24〜48時間
続けてよい。一般に、加水分解される時間が長けれは長
い程f&終粘度は高くなる。
被覆用組成物の製造の間、アルキル) lアセトキシシ
ラン#′i最初の2相の反応混合液の粘度を緩衝させ、
又加水分解速度を調節するのに使われる。好ましいのは
アルキル基が1〜6個、特に1〜3個の炭素原子を含む
アルキルトリアセトキクシランである。メチルトリアセ
トキシシランが最4好−ましい。アルキルトリアセトキ
シシランが用いられるのがよいが、代わりに氷酢酸又は
他の酸を使ってもよい。他の酸としてはプロピオン酸、
酪酸、クエン酸、安息香酸、ギ酸、シュウ酸等の有機酸
がある。
ラン#′i最初の2相の反応混合液の粘度を緩衝させ、
又加水分解速度を調節するのに使われる。好ましいのは
アルキル基が1〜6個、特に1〜3個の炭素原子を含む
アルキルトリアセトキクシランである。メチルトリアセ
トキシシランが最4好−ましい。アルキルトリアセトキ
シシランが用いられるのがよいが、代わりに氷酢酸又は
他の酸を使ってもよい。他の酸としてはプロピオン酸、
酪酸、クエン酸、安息香酸、ギ酸、シュウ酸等の有機酸
がある。
・ 加水分解完了後は、枝穆用組成物の固形含量を、反
応混合液へアルコールを添加すると止で調節する。適し
たアルコールとしては、例えばメタノムル、エタノール
、プロパツール、イソプロパツール、n−ブチルアルコ
ール、t−ブチルアルコール等の1〜6個の炭素原子を
有する低級脂肪族のもの又はそれらの混合物がある。好
ましいのはインプロパツールである。溶媒系、即ち水と
アルコールの混合液は部分シロキサノール縮合物を可溶
にする六め約20〜75真發%のアルコールを含んでい
なければ力らない。
応混合液へアルコールを添加すると止で調節する。適し
たアルコールとしては、例えばメタノムル、エタノール
、プロパツール、イソプロパツール、n−ブチルアルコ
ール、t−ブチルアルコール等の1〜6個の炭素原子を
有する低級脂肪族のもの又はそれらの混合物がある。好
ましいのはインプロパツールである。溶媒系、即ち水と
アルコールの混合液は部分シロキサノール縮合物を可溶
にする六め約20〜75真發%のアルコールを含んでい
なければ力らない。
ア七トン、ブチルセルソルブ等の水と混和性の溶媒を、
通常溶媒系の20重置火を超えηい範囲で少を添加する
のは任意である。
通常溶媒系の20重置火を超えηい範囲で少を添加する
のは任意である。
溶媒による調整の後、被覆用組成物は合計で約18〜約
25重量X%特に好ましくは約20M量%の固形分を含
むのが望ましい。
25重量X%特に好ましくは約20M量%の固形分を含
むのが望ましい。
被覆用組成物のpHは約五5〜約8であり、好ましくは
約7.1〜約18、特Vこ好ましくは約7.2〜約7.
8である。必要なら希釈した水酸化アンモニウム等の塩
基、酢酸等の弱酸を添加して、pHをこの範囲に調整す
る。
約7.1〜約18、特Vこ好ましくは約7.2〜約7.
8である。必要なら希釈した水酸化アンモニウム等の塩
基、酢酸等の弱酸を添加して、pHをこの範囲に調整す
る。
シラントリオールR日1(OH)3が、相当するトリア
ルコキシシランを水性媒体、即ちコロイドシリカの水性
分散液と混合する結果、生成する。トリアルコキシシラ
ンの例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及び
n−ブトキシ置換基を有するものがあり、これらは加水
分解するとシラントリオールを生成し、更にメタノール
、エタノール、イソプロパツール、n−ブタノール等の
相当するアルコールを発生させる。このようにして、最
終被覆組成物中に存在するアルコールの少くとも一部が
提供される。水酸基の縮合によシ、は一定時間続くが、
徹底的に進むものではなくむしろ、シロキサンはある程
度のケイ素結合水酸基を保持して、重合体をアルコール
−水混合溶媒に可溶性とする。この可溶性部分縮合物は
■ −810−03単位毎に少くとも1個のケイ素結合水酸
基を有するシロキサノール重合体として特徴づけられる
。
ルコキシシランを水性媒体、即ちコロイドシリカの水性
分散液と混合する結果、生成する。トリアルコキシシラ
ンの例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及び
n−ブトキシ置換基を有するものがあり、これらは加水
分解するとシラントリオールを生成し、更にメタノール
、エタノール、イソプロパツール、n−ブタノール等の
相当するアルコールを発生させる。このようにして、最
終被覆組成物中に存在するアルコールの少くとも一部が
提供される。水酸基の縮合によシ、は一定時間続くが、
徹底的に進むものではなくむしろ、シロキサンはある程
度のケイ素結合水酸基を保持して、重合体をアルコール
−水混合溶媒に可溶性とする。この可溶性部分縮合物は
■ −810−03単位毎に少くとも1個のケイ素結合水酸
基を有するシロキサノール重合体として特徴づけられる
。
不揮発性固体から成る被覆用組成物の構成部分は、コロ
イドシリカ及びシラノールの部分縮合物(即ちシロキサ
ノール)の混合物である。部分縮合物、つまりシロキサ
ノールは主に又は全部(H381(OEI)、の縮合に
より得られる。加水分解反応へ入れる成分に依り、例え
ばCH35i(OH)3と(4H681(01()、又
は龜埼81(OH)sとの縮合により、又CB、+31
(Off)3とC4Ha 81 (OH)3又は前記の
混合物との縮合から少量の部分縮合物が得られる。メチ
ルト11/)キシシランのみを被覆用組成物の製造に用
いる(スべてモノメチルシラントリオールを生成fる)
のが最もよい結果が得られる。好ましい具体例としては
、部分重合物がアルコールと水との混合溶媒中の固形物
の総重値を基準にして約55〜75重量%存在する(コ
ロイドシリカは約25〜約45重量%存在)。アルコー
ルは混合溶媒の約50〜9’a警曾%である。
イドシリカ及びシラノールの部分縮合物(即ちシロキサ
ノール)の混合物である。部分縮合物、つまりシロキサ
ノールは主に又は全部(H381(OEI)、の縮合に
より得られる。加水分解反応へ入れる成分に依り、例え
ばCH35i(OH)3と(4H681(01()、又
は龜埼81(OH)sとの縮合により、又CB、+31
(Off)3とC4Ha 81 (OH)3又は前記の
混合物との縮合から少量の部分縮合物が得られる。メチ
ルト11/)キシシランのみを被覆用組成物の製造に用
いる(スべてモノメチルシラントリオールを生成fる)
のが最もよい結果が得られる。好ましい具体例としては
、部分重合物がアルコールと水との混合溶媒中の固形物
の総重値を基準にして約55〜75重量%存在する(コ
ロイドシリカは約25〜約45重量%存在)。アルコー
ルは混合溶媒の約50〜9’a警曾%である。
被接用組成物は硬化触媒を必要とせずに約120℃の温
度で完全に硬化して硬質被膜をつくる。
度で完全に硬化して硬質被膜をつくる。
より穏や力・力硬化条件を望む場合は、緩衝壊れた潜在
性縮合触媒を用いるのがよい。このような触媒は当分野
の技術者には知られている。9すとして、酢酸ナトリウ
ム、ギ酸カリウム等のカルボン酸のアルカリ金属塩、ジ
メチhアミン酢酸塩、エタノールアミン酢酸塩、ジメテ
ルアニリンギ酸塩等のアミンのカルボン酸塩、酢酸テト
ラメチルアンモニウム、酢酸ベンジルトリメチルアンモ
ニウム等の第四アンモニウムカルボン酸塩、オクタン酸
スズのような金属のカルボン酸塩、トリメチルアミン、
トリエタノールアミン、ピリジン等のアミン、水慣化ナ
トリウム、水酸化アンモニウム等の水酸化アルカリがあ
る。■販のコロイドシリカ、特に塩基性即ちpH7以上
のものは、遊離の金属塩基を含んでおり、加水分解の間
にアルカリ金属のカルボン酸塩触媒を生成する。
性縮合触媒を用いるのがよい。このような触媒は当分野
の技術者には知られている。9すとして、酢酸ナトリウ
ム、ギ酸カリウム等のカルボン酸のアルカリ金属塩、ジ
メチhアミン酢酸塩、エタノールアミン酢酸塩、ジメテ
ルアニリンギ酸塩等のアミンのカルボン酸塩、酢酸テト
ラメチルアンモニウム、酢酸ベンジルトリメチルアンモ
ニウム等の第四アンモニウムカルボン酸塩、オクタン酸
スズのような金属のカルボン酸塩、トリメチルアミン、
トリエタノールアミン、ピリジン等のアミン、水慣化ナ
トリウム、水酸化アンモニウム等の水酸化アルカリがあ
る。■販のコロイドシリカ、特に塩基性即ちpH7以上
のものは、遊離の金属塩基を含んでおり、加水分解の間
にアルカリ金属のカルボン酸塩触媒を生成する。
硬化触媒のfAは個々の必要に応じて変化し得る。一般
に触媒は被覆用組成物全体の約105〜約α5、好まし
くは約α1重M%の量存在する。
に触媒は被覆用組成物全体の約105〜約α5、好まし
くは約α1重M%の量存在する。
そのような組成物は約85°〜約120℃の範囲の温度
で、例えば30〜60分の短い時間内に基体上で硬化し
得る。透明な耐摩耗性被膜が得られる。
で、例えば30〜60分の短い時間内に基体上で硬化し
得る。透明な耐摩耗性被膜が得られる。
本発明の紫外線吸収性の反応生成物を前述の衿)愛用組
成物に添加するのは加水分解の前、間、後のいつでもよ
く、又固形分の調整のために溶媒を添加する前でも後で
もよい。好ましい組成物では、本発明の紫I?S線吸収
剤が固形分を8邸にして前記組成物100重量部当たり
約1.0〜約2!LO好ましくは5.0〜1α0重g部
含まれている。
成物に添加するのは加水分解の前、間、後のいつでもよ
く、又固形分の調整のために溶媒を添加する前でも後で
もよい。好ましい組成物では、本発明の紫I?S線吸収
剤が固形分を8邸にして前記組成物100重量部当たり
約1.0〜約2!LO好ましくは5.0〜1α0重g部
含まれている。
又、他の成分を添加することもできる。特にポリシロキ
サン−ポリエーテル共重合体は、流動性を調節し、被覆
表面の流れ跡、ちり跡等を防ぐものである。この物質は
また被膜の耐応力き装柱を増加させる。
サン−ポリエーテル共重合体は、流動性を調節し、被覆
表面の流れ跡、ちり跡等を防ぐものである。この物質は
また被膜の耐応力き装柱を増加させる。
本発明の使用に好ましいのは次式の液状ポリシロキサン
−ポリエーテル共重合体である。
−ポリエーテル共重合体である。
(式中R′及びR″aI価の炭化水素基、R″は低級ア
ルキル基、好ましくは1〜7個の炭素原子を有す゛るア
ルキル基、aは少くとも2で好ましく#i2〜約2〜、
bは2又け3、nFi2〜4、Xは少くとも5で好まし
くは5〜100である) 実例としては、B′及びR″は独立に、メチル、エチル
、プロピル、ブチル、オクチル等のアルキル基、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル等のシクロアルキル基、フェ
ニル、トリル、ナフチル、キシリル等のアリール基、ベ
ンジル、フェニルエチル等のフルアルキル基、ビニル、
アリル、シクロヘキセニル等のアルケニル基又はフクロ
アルケニル基、クロルメチル、クロルフェニル、シフロ
ムフェニル等の上記任意のもののノ・ロゲン誘導体テア
ル。R”17)例としてはメチん、エチル、プロヒル、
ブチル、イソブチル、アミル等がある。
ルキル基、好ましくは1〜7個の炭素原子を有す゛るア
ルキル基、aは少くとも2で好ましく#i2〜約2〜、
bは2又け3、nFi2〜4、Xは少くとも5で好まし
くは5〜100である) 実例としては、B′及びR″は独立に、メチル、エチル
、プロピル、ブチル、オクチル等のアルキル基、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル等のシクロアルキル基、フェ
ニル、トリル、ナフチル、キシリル等のアリール基、ベ
ンジル、フェニルエチル等のフルアルキル基、ビニル、
アリル、シクロヘキセニル等のアルケニル基又はフクロ
アルケニル基、クロルメチル、クロルフェニル、シフロ
ムフェニル等の上記任意のもののノ・ロゲン誘導体テア
ル。R”17)例としてはメチん、エチル、プロヒル、
ブチル、イソブチル、アミル等がある。
上記ポリシロキサン−ポリエーテル共重合体の製法は米
国特許第へ629.165号明細書に記載されている。
国特許第へ629.165号明細書に記載されている。
適した市販の材料としてはゼネラルエレクトリック社の
87−1066及び5F−1141、マリンクロット(
Ma’1linchrodt ) のBYK−300
、ユニオンカーバイドのL−5401及びダウ−コーニ
ング(DOW −Corning)のDo−1の使用目
的で添加できる。これらは加水分解完了後に添加する。
87−1066及び5F−1141、マリンクロット(
Ma’1linchrodt ) のBYK−300
、ユニオンカーバイドのL−5401及びダウ−コーニ
ング(DOW −Corning)のDo−1の使用目
的で添加できる。これらは加水分解完了後に添加する。
被覆用組成物は、p8硬化性アクリル樹脂等の下塗り後
、フローコーティング、スプレー塗装、又は浸漬め装等
の慣用の方法を用いて基体に塗布し、その上に連続した
フィルム又は層を形成することができる。硬化された組
成物は、プラスチック及び金属表面金倉む種々の表面−
透明でも不透明でも一上の保護被覆として有用である。
、フローコーティング、スプレー塗装、又は浸漬め装等
の慣用の方法を用いて基体に塗布し、その上に連続した
フィルム又は層を形成することができる。硬化された組
成物は、プラスチック及び金属表面金倉む種々の表面−
透明でも不透明でも一上の保護被覆として有用である。
上記プラスチックの例としては、ポリ(メチルメタクリ
レート)等のアクリル重合体、ポリ(エチレンテレフタ
レート)、ポリ(ブチレンチレフクレート)等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、アクリロニトリル−
スチレン共重合体、スチレンーアクリロニトリルーブタ
ジエンターポリマー、ポリ塩化ビニル、ブチル化樹脂、
ポリエチレンのような合成有機重合体の基体がある。
レート)等のアクリル重合体、ポリ(エチレンテレフタ
レート)、ポリ(ブチレンチレフクレート)等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、アクリロニトリル−
スチレン共重合体、スチレンーアクリロニトリルーブタ
ジエンターポリマー、ポリ塩化ビニル、ブチル化樹脂、
ポリエチレンのような合成有機重合体の基体がある。
透明パネル々どをつくる、例えばゼネラルエレクトリッ
ク社から市販されているレキサン(Lexan 、登録
商m)として知られているポリカーボネート等のポリカ
ーボネートが特に言及される。本発明の組成物は、ポリ
カーボネートからなる物品の、下塗りされた表面の保護
被膜として特に有用である。
ク社から市販されているレキサン(Lexan 、登録
商m)として知られているポリカーボネート等のポリカ
ーボネートが特に言及される。本発明の組成物は、ポリ
カーボネートからなる物品の、下塗りされた表面の保護
被膜として特に有用である。
又、適当々基体としてはアルミニウムやスパッタリング
されたクロム合金等の明るい或いは曇った金属の表面、
がある。更に、本発明の被覆用組成物は木材、皮、ガラ
ス、陶磁器、織物等の別のタイプの表面に塗布すること
もできる。
されたクロム合金等の明るい或いは曇った金属の表面、
がある。更に、本発明の被覆用組成物は木材、皮、ガラ
ス、陶磁器、織物等の別のタイプの表面に塗布すること
もできる。
組成物より溶媒及びその他の揮発性物質を除去すると硬
質の被Qが得られる。被膜dはぼ粘着性のない状態まで
空気乾燥するが、部分縮合物中の残りのシラノールの縮
合には75℃〜200’Cの範囲での加熱が盛装である
。最閂的硬化によりシルセスキオキサン(R8103/
2 )が生成する。硬化被膜中B S i OV2 と
5iO1(Flはメチル基)の比は2であるのが最も好
ましい。被膜の厚さは変化し得るが、一般にはcL5〜
20ミクロン、普通は2〜10ミクロンの厚≧である。
質の被Qが得られる。被膜dはぼ粘着性のない状態まで
空気乾燥するが、部分縮合物中の残りのシラノールの縮
合には75℃〜200’Cの範囲での加熱が盛装である
。最閂的硬化によりシルセスキオキサン(R8103/
2 )が生成する。硬化被膜中B S i OV2 と
5iO1(Flはメチル基)の比は2であるのが最も好
ましい。被膜の厚さは変化し得るが、一般にはcL5〜
20ミクロン、普通は2〜10ミクロンの厚≧である。
化合物及び下塗抜本発明の組成物で被覆された物品を次
の実施例において説明する。部はすべて重量による。
の実施例において説明する。部はすべて重量による。
実施例1
(a) 4−アリルオキシ−2−ヒドロキシベンゾ2
エノン(11) −2t 4 f (α1モル)の2.
4−ジヒドロキシベンゾンエノン、1五22(011モ
ル)の新たに蒸留された臭化アリル、及び142(α1
モル)の炭醒カリウムのドライアセトン100−中の混
合液をチッ素の存在下で10時間還流させる。冷却後、
無機塩類をろ過で除き、有機溶液を水で洗浄し、クロロ
ホルムで抽出する。
エノン(11) −2t 4 f (α1モル)の2.
4−ジヒドロキシベンゾンエノン、1五22(011モ
ル)の新たに蒸留された臭化アリル、及び142(α1
モル)の炭醒カリウムのドライアセトン100−中の混
合液をチッ素の存在下で10時間還流させる。冷却後、
無機塩類をろ過で除き、有機溶液を水で洗浄し、クロロ
ホルムで抽出する。
乾燥及び溶媒の蒸発後、明黄色の油状物質をエーテルか
ら結晶化させると、融点6B−70℃、(b)4−[γ
−(ト リエトキシシリル)プロポキシツー2−ヒドロ
キシベンゾフェノン−名 ao′Xt(002モル)の化合物(It)及び五28
2((102モル)のトリエトキシシランのドライトル
エン10〇−中の混合液へ、チッ素の存在下でかく拌し
ながら5%白金ビニルシロキサン錯体のヒドロシリル化
触媒を10滴落とす。溶液は温くなり、反応は1時間半
で完了する。減圧下で50℃において溶剤を蒸発させる
と、明黄色の粘稠な油状物質が残シ、そしておそら(1
ipt 触媒からの暗色の粒子が微量含まれるが、と
f′LFiろ過によって除去する。収量はa07f(理
論値の96%)。
ら結晶化させると、融点6B−70℃、(b)4−[γ
−(ト リエトキシシリル)プロポキシツー2−ヒドロ
キシベンゾフェノン−名 ao′Xt(002モル)の化合物(It)及び五28
2((102モル)のトリエトキシシランのドライトル
エン10〇−中の混合液へ、チッ素の存在下でかく拌し
ながら5%白金ビニルシロキサン錯体のヒドロシリル化
触媒を10滴落とす。溶液は温くなり、反応は1時間半
で完了する。減圧下で50℃において溶剤を蒸発させる
と、明黄色の粘稠な油状物質が残シ、そしておそら(1
ipt 触媒からの暗色の粒子が微量含まれるが、と
f′LFiろ過によって除去する。収量はa07f(理
論値の96%)。
NMFI a l−、ま 1 2−47 (S、
I Fl ) 、 7. 6 7 (m、6
”¥) 、6.60(m、2■〕、五q 3(rn、s
[)、2.00(m、2 E()、1.27(t、9
H)、11.86 (m、2El)。
I Fl ) 、 7. 6 7 (m、6
”¥) 、6.60(m、2■〕、五q 3(rn、s
[)、2.00(m、2 E()、1.27(t、9
H)、11.86 (m、2El)。
炭素−水素の分析ViC62,8(計算値6五1)、■
7.0(計算値7.2)である。生成物は本発明による
UV 安定剤として使用するのに適している。
7.0(計算値7.2)である。生成物は本発明による
UV 安定剤として使用するのに適している。
実施例2
2、2.’ 4.4’−テトラヒドロキシベンゾ2エノ
ン24、 Is f Cユビ/−ル([TVlllOL
) D −50]、N。
ン24、 Is f Cユビ/−ル([TVlllOL
) D −50]、N。
N−ジメチルホルムアミド10〇−及びナトリウムメト
キシド(25%メタノールgi)2t6yを135℃に
加熱してメチルアルコールを留出湯せ、次いで混合物を
80℃に冷却する。次に17.12のクロルメチルトリ
メトキシシランを5分間にわたって添加する。湯度を9
0℃〜125℃に上げ、混合物全3時間還流させるとそ
の間に固体が分離してくる。かく拌な止めチッ素の存在
下で混合液をろ過する。ろ液を減圧蒸留してジメチルホ
ルムアミドを除去する。圧を28−1次いで8Mki9
に減少させ蒸留を続ける。44りのトリメト* シ
シ’I ル官能化2.λ’4.A’−テトラヒドロキジ
ベンゾンエノンが得られる。これは本発明にょるUV安
定剤として用いるのに適している。
キシド(25%メタノールgi)2t6yを135℃に
加熱してメチルアルコールを留出湯せ、次いで混合物を
80℃に冷却する。次に17.12のクロルメチルトリ
メトキシシランを5分間にわたって添加する。湯度を9
0℃〜125℃に上げ、混合物全3時間還流させるとそ
の間に固体が分離してくる。かく拌な止めチッ素の存在
下で混合液をろ過する。ろ液を減圧蒸留してジメチルホ
ルムアミドを除去する。圧を28−1次いで8Mki9
に減少させ蒸留を続ける。44りのトリメト* シ
シ’I ル官能化2.λ’4.A’−テトラヒドロキジ
ベンゾンエノンが得られる。これは本発明にょるUV安
定剤として用いるのに適している。
実施例6
2L4fの2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、10
0−のN、N−ジメチルホルムアミド、2t62のナト
リウムメトキシド(25%メタノール溶液)及びi Z
l fのクロルメチルトリットキシシランを用いて、実
施例2とt”rぼ同じ操作がくり返される。メチルトリ
ットキシシランに可溶性の残留物か得られる。反応生成
Sはトリメトキシシリルプロピル官能化2.4−ジヒド
ロキシベンゾフェノンから成る。こf″Lは本発明にょ
るUV 安定剤として用いるのに適している。
0−のN、N−ジメチルホルムアミド、2t62のナト
リウムメトキシド(25%メタノール溶液)及びi Z
l fのクロルメチルトリットキシシランを用いて、実
施例2とt”rぼ同じ操作がくり返される。メチルトリ
ットキシシランに可溶性の残留物か得られる。反応生成
Sはトリメトキシシリルプロピル官能化2.4−ジヒド
ロキシベンゾフェノンから成る。こf″Lは本発明にょ
るUV 安定剤として用いるのに適している。
実施例4
a、 4′−ジヒドロキシベンゾフェノン2t42(a
tモル)fj9&9fのジエチレングリコールジメチル
エーテルに溶解する。系にチッ素を流し、ナトリウムメ
トキシドの25%メタノール溶液を2t6f、5分間に
わ六り添加する。反応混合物を16時間静置し、次K
39.79のメタノールが留出する。メタノールが留出
すると、カナリヤ色の黄色の固体の一部が分離する。蒸
留は、最高ポットの温度が140℃、頭部の温度が72
℃になるまで続けられる。次に混@物を冷劫する。クロ
ルメチルトリメトキシシラン17.1 fを一度に添加
し、少量のジエチレングリコールジメチルエーテルを含
むメタノールで洗浄すみ。混合物は170℃に加熱され
ると、穏やかrc沸nする。170℃において1に時間
後に止める。トリメトキシシリルメチル官能化4.4′
−ジヒドロキシベンゾフェノンの溶液が得られる。この
生成物は本発明によるUV 安定剤さして用いるのに
適している。
tモル)fj9&9fのジエチレングリコールジメチル
エーテルに溶解する。系にチッ素を流し、ナトリウムメ
トキシドの25%メタノール溶液を2t6f、5分間に
わ六り添加する。反応混合物を16時間静置し、次K
39.79のメタノールが留出する。メタノールが留出
すると、カナリヤ色の黄色の固体の一部が分離する。蒸
留は、最高ポットの温度が140℃、頭部の温度が72
℃になるまで続けられる。次に混@物を冷劫する。クロ
ルメチルトリメトキシシラン17.1 fを一度に添加
し、少量のジエチレングリコールジメチルエーテルを含
むメタノールで洗浄すみ。混合物は170℃に加熱され
ると、穏やかrc沸nする。170℃において1に時間
後に止める。トリメトキシシリルメチル官能化4.4′
−ジヒドロキシベンゾフェノンの溶液が得られる。この
生成物は本発明によるUV 安定剤さして用いるのに
適している。
実施例5
221710重1部のルドックス(Ludox ) L
Sシリカゾル(デュポン、12ばリミクロンの平均粒嵐
を有し、pHa4のコロイドシリカの水性分散液)をメ
チルトリアセトキシシラン(L1重量部のメチルトリメ
トキシシラン2&8重量部の溶液に添加する。反応混合
液の温度F120〜25℃釦保たれる。加水分解は24
時間続けられる。5重量部のポリシロキサン−ポリエー
テル共重合体(日IP−1066、ゼネラルエレクトリ
ック社)が流れ調整剤として添加される。得られる反応
混合液Fi415%の固形分を有する。固形分を20%
にするためイソブタノールが添加される。組成物のpH
は約7.2である。
Sシリカゾル(デュポン、12ばリミクロンの平均粒嵐
を有し、pHa4のコロイドシリカの水性分散液)をメ
チルトリアセトキシシラン(L1重量部のメチルトリメ
トキシシラン2&8重量部の溶液に添加する。反応混合
液の温度F120〜25℃釦保たれる。加水分解は24
時間続けられる。5重量部のポリシロキサン−ポリエー
テル共重合体(日IP−1066、ゼネラルエレクトリ
ック社)が流れ調整剤として添加される。得られる反応
混合液Fi415%の固形分を有する。固形分を20%
にするためイソブタノールが添加される。組成物のpH
は約7.2である。
300fの上記混合液とそれぞれ五5り、S9tの4−
Cr−C)リエトキシシリル)プロポキシ〕−2−ヒド
ロキシベンゾフェノン’f:混合り、”C111aas
) 4%ローブレックス(Rboplex) )で
下塗され六6#×8″の透明レキサン(LxxhN、登
録商標)のポリ(ビスフェノ−ルームカーボネート)ハ
ネル上に51Eし塗される。パネルは30分間空気乾燥
し、次いで120℃で1時間硬化される。ムN8ニーZ
2&1−1977−1=クシgy&17に従い、チー
/<−式摩耗試験機において500サイクル〔500を
荷重、as−1oy$ホイール(wheel) ]後、
パーセントで表わした曇の変化(Δ%H)は、工9及び
592の#A成物でそれぞれ&1及び11である。試料
はすべて、65℃の水に7日間浸漬後のクロルメチル(
cross−hatched test ) 接着試
験(D工N−53−151)にパスした。校謹されされ
た6つのR−El太陽灯の下で暴露されると、744時
間まではき裂を生じず、987時間着ではクロスハツチ
ド接S賞試験にバスした。5.92の組成物(固形分に
λ」し10%)は暴露790時間までき裂を全く生じず
、1340時間まで接着性は良好であった。またQUV
促進老化試験機(50℃で4時間のUV サイクル、
45℃で4時間の凝縮サイクル)で紫外線に暴露しても
最低118時間までは接着性に異常力い。
Cr−C)リエトキシシリル)プロポキシ〕−2−ヒド
ロキシベンゾフェノン’f:混合り、”C111aas
) 4%ローブレックス(Rboplex) )で
下塗され六6#×8″の透明レキサン(LxxhN、登
録商標)のポリ(ビスフェノ−ルームカーボネート)ハ
ネル上に51Eし塗される。パネルは30分間空気乾燥
し、次いで120℃で1時間硬化される。ムN8ニーZ
2&1−1977−1=クシgy&17に従い、チー
/<−式摩耗試験機において500サイクル〔500を
荷重、as−1oy$ホイール(wheel) ]後、
パーセントで表わした曇の変化(Δ%H)は、工9及び
592の#A成物でそれぞれ&1及び11である。試料
はすべて、65℃の水に7日間浸漬後のクロルメチル(
cross−hatched test ) 接着試
験(D工N−53−151)にパスした。校謹されされ
た6つのR−El太陽灯の下で暴露されると、744時
間まではき裂を生じず、987時間着ではクロスハツチ
ド接S賞試験にバスした。5.92の組成物(固形分に
λ」し10%)は暴露790時間までき裂を全く生じず
、1340時間まで接着性は良好であった。またQUV
促進老化試験機(50℃で4時間のUV サイクル、
45℃で4時間の凝縮サイクル)で紫外線に暴露しても
最低118時間までは接着性に異常力い。
本発明の明らかな変形はすべ【、特許請求の範囲の意図
する範囲内に含まれる。
する範囲内に含まれる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)基体、 (B)上記基体上のプライマー層、及び (C)上記プライマー層及び上記基体上の硬質保護被膜
より構成され、該被膜が、硬化前、(a)式RSi(O
H)_3[式中Rは1〜3個の炭素原子を有するアルキ
ル基及びアリール基から成る群より選択され、少なくと
もその70重量%はCH_3Si(OH)_3である]
で表わされるシラノールの部分縮合物の脂肪族アルコー
ル及び水の混合液の溶液中に、コロイドシリカを分散さ
せた分散液(該分散液は10〜50重量%の固形分を含
有し、該固形分は実質的に10〜70重量%のコロイド
シリカ及び30〜90重量%の部分縮合物から成る)、
及び(b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xは>C=0又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼ YはH又はOH、 ZはH、OH又はOW、但しYがHの場合は少なくとも
1個のZがOH、 Qは−CH_2(CH_2)_nSi(R_2)_x(
OR_1)_y、wは−C_mH_2_m_+_1、 x=0、1又は2、y=1、2又は3、x+y=3、 R_1=1〜6個の炭素原子を有するアルキル基又はア
ルカノイル基、 R_2=1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、n=
0、1又は2、 m=1〜18) の化合物から成る紫外線吸収剤の有効量、 を含む水性組成物から成る、物品。 2、紫外線吸収剤が ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中Qは−CH_2Si(OCH_3)_3、−CH
_2SiCH_3(OCH_3)_2、−CH_2Si
(CH_3)_2(OCH_3)、−CH_2(CH_
2)_2Si(OCH_3)_3、−CH_2(CH_
2)_2SiCH_3(OCH_3)_2、−CH_2
(CH_2)_2Si(CH_3)_2(OCH_3)
、−CH_2(CH_2)_2Si(OCOCH_3)
、−CH_2(CH_2)_2SiCH_3(OCOC
H_3)_2、−CH_2(CH_2)_2Si(CH
_3)_2(OCOCH_3)、−CH_2CH_2S
i(OCH_3)_3、−CH_2CH_2SiCH_
3(OCH_3)_2又は−CH_2CH_2Si(C
H_3)_2(OCH_3)]から選ばれる特許請求の
範囲第1項に記載の物品。 3、前記紫外線吸収剤が4−[γ−(トリエトキシシリ
ル)プロポキシ]−2−ヒドロキシベンゾフェノンであ
る特許請求の範囲第2項に記載の物品。 4、脂肪族アルコールがメチルアルコール及びイソブチ
ルアルコールの混合物から成る特許請求の範囲第1項に
記載の物品。 5、部分シラノール縮合物がCH_3Si(OH)_3
の部分縮合物である特許請求の範囲第1項に記載の物品
。 6、被覆用組成物がポリシロキサン−ポリエーテル共重
合体をさらに含む特許請求の範囲第1項に記載の物品。 7、前記被覆用組成物におけるコロイド分散液が、硬化
前、実質的に約25〜約45重量%のコロイド状シリカ
及び約55〜約75重量%の部分縮合物から成る固形分
を約18〜約25重量%含有する特許請求の範囲第1項
に記載の物品。 8、基体がポリカーボネートで製造されたものである特
許請求の範囲第1項に記載の物品。 9、ポリカーボネートが透明である特許請求の範囲第8
項に記載の物品。
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| JPH0314863B2 JPH0314863B2 (ja) | 1991-02-27 |
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| JP8124181A Granted JPS5721476A (en) | 1980-05-30 | 1981-05-29 | Ultraviolet ray absorbent and composition and product containing same |
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| CA (1) | CA1161055A (ja) |
| DE (2) | DE3153670C2 (ja) |
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| GB (1) | GB2079299B (ja) |
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