JPH02117958A - ポリイミド樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
ポリイミド樹脂組成物及び半導体装置Info
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- JPH02117958A JPH02117958A JP17251789A JP17251789A JPH02117958A JP H02117958 A JPH02117958 A JP H02117958A JP 17251789 A JP17251789 A JP 17251789A JP 17251789 A JP17251789 A JP 17251789A JP H02117958 A JPH02117958 A JP H02117958A
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- Japan
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- group
- polyimide resin
- resin composition
- copolymer
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
及粟よ夙■朋分災
本発明は、成形材料、粉体塗装用材料等の各種用途、特
に半導体の封止材料として好適に用いられるポリイミド
樹脂組成物及び該組成物の硬化物により封止された半導
体装置に関する。
に半導体の封止材料として好適に用いられるポリイミド
樹脂組成物及び該組成物の硬化物により封止された半導
体装置に関する。
の び 日が しようとする
ポリイミド樹脂及びこれに無機充填剤等を配合したポリ
イミド樹脂組成物は、耐熱性、接着性。
イミド樹脂組成物は、耐熱性、接着性。
電気特性9機械特性、耐湿性等に優れているため、各種
成形材料、粉体塗装用材料、電気絶縁材料などとして広
く利用され、特に最近においては半導体の封止材料とし
て注目されている。
成形材料、粉体塗装用材料、電気絶縁材料などとして広
く利用され、特に最近においては半導体の封止材料とし
て注目されている。
しかしながら、従来のポリイミド樹脂組成物は硬化時に
クラックが入り、そのため成形、塗装面の外観が損なわ
れたり、特に半導体装置の封止に使用した場合、半導体
等の素子や装置に欠陥を生じさせるものが多い。
クラックが入り、そのため成形、塗装面の外観が損なわ
れたり、特に半導体装置の封止に使用した場合、半導体
等の素子や装置に欠陥を生じさせるものが多い。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、耐クラツク
性に優れた硬化物を与え、このため半導体封止材料等と
して好適に用いられるポリイミド樹脂組成物及び該硬化
物で封止された半導体装置を提供することを目的とする
。
性に優れた硬化物を与え、このため半導体封止材料等と
して好適に用いられるポリイミド樹脂組成物及び該硬化
物で封止された半導体装置を提供することを目的とする
。
を するための び
本発明者らは、上記目的を達成する手段につき鋭意検討
を行なった結果、硬化性ポリイミド樹脂を含有するポリ
イミド樹脂組成物に対し、(イ)エポキシ基及びアミノ
基から選択される官能基を有する有機けい素化合物及び
(ロ)芳香族重合体と有機けい素化合物との共重合体の
(イ)、(ロ)成分からなる群より選ばれる添加剤、特
にアルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂のアルケ
ニル基と下記式(1) %式%(1) (但し、式中Rは置換又は非置換の一価の炭化水素基、
aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2.1.81
≦a+b≦2.3である。)で示される1分子中のけい
素原子の数が20〜400であり、) S i H基の
数が1〜5であるオルガノポリシロキサンの)SiH基
との付加反応により得られる共重合体を配合することに
より、耐クラツク性に優れ、しかも機械的強度等も良好
で、低曲げ弾性率、高ガラス転移点を有する硬化物を与
えるポリイミド樹脂組成物が得られ、該硬化物で封止さ
れた半導体装置が高い信頼性を有することを知見し、本
発明をなすに至った。
を行なった結果、硬化性ポリイミド樹脂を含有するポリ
イミド樹脂組成物に対し、(イ)エポキシ基及びアミノ
基から選択される官能基を有する有機けい素化合物及び
(ロ)芳香族重合体と有機けい素化合物との共重合体の
(イ)、(ロ)成分からなる群より選ばれる添加剤、特
にアルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂のアルケ
ニル基と下記式(1) %式%(1) (但し、式中Rは置換又は非置換の一価の炭化水素基、
aは0.01〜0.1、bは1.8〜2.2.1.81
≦a+b≦2.3である。)で示される1分子中のけい
素原子の数が20〜400であり、) S i H基の
数が1〜5であるオルガノポリシロキサンの)SiH基
との付加反応により得られる共重合体を配合することに
より、耐クラツク性に優れ、しかも機械的強度等も良好
で、低曲げ弾性率、高ガラス転移点を有する硬化物を与
えるポリイミド樹脂組成物が得られ、該硬化物で封止さ
れた半導体装置が高い信頼性を有することを知見し、本
発明をなすに至った。
なお従来、エポキシ樹脂組成物においては、芳香族重合
体とオルガノポリシロキサンとの共重合体を配合するこ
とが提案されており(特開昭58−21417号公報)
、特に芳香族重合体としてアルケニル基含有ノボラック
型エポキシ樹脂を用いることも知られている(特開昭6
2−8414.7号公報)、この場合、かかるアルケニ
ル基含有ノボラック型エポキシ樹脂とオルガノポリシロ
キサンとの共重合体は、特開昭62−8414−7号公
報に記載されているように、硬化性エポキシ樹脂と同一
もしくは類似のエポキシ樹脂セグメントを含むために硬
化性エポキシ樹脂への親和性が高く。
体とオルガノポリシロキサンとの共重合体を配合するこ
とが提案されており(特開昭58−21417号公報)
、特に芳香族重合体としてアルケニル基含有ノボラック
型エポキシ樹脂を用いることも知られている(特開昭6
2−8414.7号公報)、この場合、かかるアルケニ
ル基含有ノボラック型エポキシ樹脂とオルガノポリシロ
キサンとの共重合体は、特開昭62−8414−7号公
報に記載されているように、硬化性エポキシ樹脂と同一
もしくは類似のエポキシ樹脂セグメントを含むために硬
化性エポキシ樹脂への親和性が高く。
従ってミクロ分散が可能となり、耐クラツク性が飛躍的
に向上するものであるが、該共重合体は意外にもポリイ
ミド樹脂に対しても優れた耐クランク性向上機能を与え
たものである。
に向上するものであるが、該共重合体は意外にもポリイ
ミド樹脂に対しても優れた耐クランク性向上機能を与え
たものである。
従って、本発明は、硬化性ポリイミド樹脂を含有するポ
リイミド樹脂組成物に、(イ)エポキシ基及びアミノ基
から選択される官能基を有する有機けい素化合物及び(
ロ)芳香族重合体と有機けい素化合物との共重合体の(
イ)、(ロ)成分からなる群より選ばれる添加剤を配合
したことを特徴とするポリイミド樹脂組成物、及び該組
成物の硬化物により封止された半導体装置を提供する。
リイミド樹脂組成物に、(イ)エポキシ基及びアミノ基
から選択される官能基を有する有機けい素化合物及び(
ロ)芳香族重合体と有機けい素化合物との共重合体の(
イ)、(ロ)成分からなる群より選ばれる添加剤を配合
したことを特徴とするポリイミド樹脂組成物、及び該組
成物の硬化物により封止された半導体装置を提供する。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
まず、本発明の組成物を構成する硬化性ポリイミド樹脂
は、1分子中に2個以上のイミド結合を含み、更にアル
ケニル基、アミノ基から選ばれる同種又は異種の基を1
分子中に2個以上含むものが使用し得る。これらの中で
は融点150℃以下のポリイミド樹脂が好ましく、更に
好ましくはポリマレイミド樹脂及びこのアミノ基含有化
合物による誘導体である。具体的には、N、N’−ジフ
ェニルメタンビスマレイミド、N、N’−フェニレンビ
スマレイミド、N、N’−ジフェニルエーテルビスマレ
イミド、N、N’−エチレンビスマレイミド、N、N’
−キシリレンビスマレイミド、更に下記式の化合物など
が挙げられ、これらの11!i又は2種以上を使用する
ことができる。
は、1分子中に2個以上のイミド結合を含み、更にアル
ケニル基、アミノ基から選ばれる同種又は異種の基を1
分子中に2個以上含むものが使用し得る。これらの中で
は融点150℃以下のポリイミド樹脂が好ましく、更に
好ましくはポリマレイミド樹脂及びこのアミノ基含有化
合物による誘導体である。具体的には、N、N’−ジフ
ェニルメタンビスマレイミド、N、N’−フェニレンビ
スマレイミド、N、N’−ジフェニルエーテルビスマレ
イミド、N、N’−エチレンビスマレイミド、N、N’
−キシリレンビスマレイミド、更に下記式の化合物など
が挙げられ、これらの11!i又は2種以上を使用する
ことができる。
本発明のポリイミド樹脂組成物は、上述したように、(
イ)エポキシ基及びアミノ基から選択される官能基を有
する有機化合物及び(ロ)芳香族重合体と有機けい素化
合物との共重合体の(イ)。
イ)エポキシ基及びアミノ基から選択される官能基を有
する有機化合物及び(ロ)芳香族重合体と有機けい素化
合物との共重合体の(イ)。
(ロ)成分からなる群より選ばれる添加剤を配合するも
ので、これにより耐クラツク性の優れた硬化物を与える
ようにしたものである。
ので、これにより耐クラツク性の優れた硬化物を与える
ようにしたものである。
ここで、上記(イ)の有機けい素化合物としては、特に
下記式 R”XR2,SiO,、?LL で示される1分子中にR1を少なくとも1個、好ましく
は2〜10個有し、1分子中のケイ素原子の数が20〜
1000、特に20〜400であるオルガノポリシロキ
サンが好ましい。
下記式 R”XR2,SiO,、?LL で示される1分子中にR1を少なくとも1個、好ましく
は2〜10個有し、1分子中のケイ素原子の数が20〜
1000、特に20〜400であるオルガノポリシロキ
サンが好ましい。
但し、R1はアミノ基又はエポキシ基含有−価炭化水素
基(好ましくは炭素数1〜9)であり、このような基と
しては例えば −(CH,+7NH,、−(CH,−(NHCH,CH
,NH,。
基(好ましくは炭素数1〜9)であり、このような基と
しては例えば −(CH,+7NH,、−(CH,−(NHCH,CH
,NH,。
などが挙げられる。また、R2は一価炭化水素基(好ま
しくは炭素数1〜8)であり、このような基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の
炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基、トリル基等の
炭素数6〜8のアリール基、1又は2以上の水素原子を
ハロゲン原子で置換したCQCI(、−、CF、CH2
Cl、−。
しくは炭素数1〜8)であり、このような基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の
炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基、トリル基等の
炭素数6〜8のアリール基、1又は2以上の水素原子を
ハロゲン原子で置換したCQCI(、−、CF、CH2
Cl、−。
04合等のアルキル基又はアリール基が挙げられる。x
、yは0.002≦X≦0.2、好ましくは0.01≦
X≦0.1の正数、1.9≦y≦2.1、好ましくは1
.95≦y≦2.05の正数であり、1 、9 < x
+ y < 2 、2、好ましくは1.96≦x+y
≦2.1である。
、yは0.002≦X≦0.2、好ましくは0.01≦
X≦0.1の正数、1.9≦y≦2.1、好ましくは1
.95≦y≦2.05の正数であり、1 、9 < x
+ y < 2 、2、好ましくは1.96≦x+y
≦2.1である。
このようなオルガノポリシロキサンを例示すると、
n=20〜10oO
n = 20〜1000
等が挙げられる。
また、(ロ)の共重合体は、芳香族重合体と有機けい素
化合物との共重合体であるが、この芳香族重合体として
は、 (但し、pは1〜20である) などが例示され、これら芳香族重合体と有機けい素化合
物との共重合体としては、 (但し、式中p y q Hr Hm p nは正数、
Xは水素原子又はグリシジル基、R1及びR2は1価の
炭化水素基を示す。) で示されるものが例示される。
化合物との共重合体であるが、この芳香族重合体として
は、 (但し、pは1〜20である) などが例示され、これら芳香族重合体と有機けい素化合
物との共重合体としては、 (但し、式中p y q Hr Hm p nは正数、
Xは水素原子又はグリシジル基、R1及びR2は1価の
炭化水素基を示す。) で示されるものが例示される。
なお、上記式において、pは1〜20、qは10〜40
0、rは1〜201mは10〜400、nは1〜3が好
ましく、R”はメチル基、エチル基、ブチル基、フェニ
ル基等、R2は水素原子、メチル基、エチル基、ブチル
基等が好適である。
0、rは1〜201mは10〜400、nは1〜3が好
ましく、R”はメチル基、エチル基、ブチル基、フェニ
ル基等、R2は水素原子、メチル基、エチル基、ブチル
基等が好適である。
この場合、(ロ)の共重合体としては、ポリイミド樹脂
やその硬化剤と反応し得る基を少なくとも1種有するも
のが望ましく、特に芳香族重合体としてフェノール樹脂
やエポキシ樹脂を用いた場合は、(ロ)の共重合体自体
が硬化剤の一部として作用するものである。
やその硬化剤と反応し得る基を少なくとも1種有するも
のが望ましく、特に芳香族重合体としてフェノール樹脂
やエポキシ樹脂を用いた場合は、(ロ)の共重合体自体
が硬化剤の一部として作用するものである。
上述した(イ)、(ロ)はその1種のみを単独で使用し
てもよく、2種以上を組み合わせて用いるようにしても
よいが、これらの中では、特にアルケニル基含有エポキ
シ化ノボラック樹脂のアルケニル基と下記式(1) %式%() で示される1分子中のけい素原子の数が20〜400、
好ましくは20〜300、より好ましくは30〜200
であり、”)SiH基の数が1〜5、好ましくは2又は
3であるオルガノポリシロキサンの)SiH基との付加
反応により得られる共重合体が最も好ましく使用される
。
てもよく、2種以上を組み合わせて用いるようにしても
よいが、これらの中では、特にアルケニル基含有エポキ
シ化ノボラック樹脂のアルケニル基と下記式(1) %式%() で示される1分子中のけい素原子の数が20〜400、
好ましくは20〜300、より好ましくは30〜200
であり、”)SiH基の数が1〜5、好ましくは2又は
3であるオルガノポリシロキサンの)SiH基との付加
反応により得られる共重合体が最も好ましく使用される
。
但し、Rは置換又は非置換の一価炭化水素基(好ましく
は炭素数1〜10)であり、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル
基、フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリー
ル基、メトキシ基。
は炭素数1〜10)であり、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル
基、フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリー
ル基、メトキシ基。
エトキシ基等の炭素数1〜5のアルコキシ基、−CH2
CH25i(QC:H,)、 、 −CH3CN、 C
00CH2Si(○CH,)、。
CH25i(QC:H,)、 、 −CH3CN、 C
00CH2Si(○CH,)、。
水素原子の1又は2以上をハロゲン原子で置換したCQ
CH,−、CF、CH,CH2−,9合等のアルキル基
又はアリール基等が挙げられる。
CH,−、CF、CH,CH2−,9合等のアルキル基
又はアリール基等が挙げられる。
なお、R中におけるアルコキシ基の導入率は0〜10モ
ル%とすることができる。上述した基の中ではメチル基
、フェニル基及び2−トリメトキシシリルエチル基が好
ましく、aは0.01〜0.1、好ましくは0.01〜
0.08、より好ましくは0.01〜0.07ノ正数、
b 4;t、 1 、8〜2 、2、好ましくは1.9
〜2.2、より好ましくは2.0〜2.1の正数であり
、1.81≦a+b≦2.3゜好ましくは1.91≦a
+b≦2.3、より好ましくは2.01≦a+b≦2.
05である。
ル%とすることができる。上述した基の中ではメチル基
、フェニル基及び2−トリメトキシシリルエチル基が好
ましく、aは0.01〜0.1、好ましくは0.01〜
0.08、より好ましくは0.01〜0.07ノ正数、
b 4;t、 1 、8〜2 、2、好ましくは1.9
〜2.2、より好ましくは2.0〜2.1の正数であり
、1.81≦a+b≦2.3゜好ましくは1.91≦a
+b≦2.3、より好ましくは2.01≦a+b≦2.
05である。
この共重合体につき更に詳述すると、この共重合体を形
成するアルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂とし
ては、アルケニル基含有フェノール樹脂をエビクロロヒ
ドリンによりエポキシ化したり、エポキシ樹脂に2−ア
リルフェノールやアリルアルコールなどを部分的に反応
させたりすることなどにより得ることができ、具体的に
は下記式(2)〜(4)の化合物などが挙げられる。
成するアルケニル基含有エポキシ化ノボラック樹脂とし
ては、アルケニル基含有フェノール樹脂をエビクロロヒ
ドリンによりエポキシ化したり、エポキシ樹脂に2−ア
リルフェノールやアリルアルコールなどを部分的に反応
させたりすることなどにより得ることができ、具体的に
は下記式(2)〜(4)の化合物などが挙げられる。
式(2)
式(3)
式(4)
(但し、上記式(2)〜(4)において、p、qは1≦
p≦10,1≦q≦3で示される正数を表わす、) 他方、上記式(1)で示されるオルガノポリシロキサン
としては、1分子中に20〜400個の+−jい素原子
及び、1〜5個の”) S i H基をもつものであれ
ばよいが、特に両末端ハイドロジエンジメチルポリシロ
キサン、両末端ハイドロジエンメチルフェニルポリシロ
キサン、両末端パイトロジエンメチル・(2−トリメト
キシシリルエチル)ポリシロキサンが好適である。具体
的には下記(5)〜(9)の化合物などが挙げられる。
p≦10,1≦q≦3で示される正数を表わす、) 他方、上記式(1)で示されるオルガノポリシロキサン
としては、1分子中に20〜400個の+−jい素原子
及び、1〜5個の”) S i H基をもつものであれ
ばよいが、特に両末端ハイドロジエンジメチルポリシロ
キサン、両末端ハイドロジエンメチルフェニルポリシロ
キサン、両末端パイトロジエンメチル・(2−トリメト
キシシリルエチル)ポリシロキサンが好適である。具体
的には下記(5)〜(9)の化合物などが挙げられる。
式(5)
式(6)
式(7)
式(8)
式(9)
この場合、このオルガノポリシロキサンとしては、上記
式(9)に示したように、側鎖に−CzH4Sl(OC
HJi+ CHzCHzCOOCHzSt(OCH3
)3゜などの基を導入することが分散性、密着性の点か
ら推奨される。即ち、−船釣にオルガノポリシロキサン
の重合度を大きくすると、耐クラツク性やガラス転移点
は向上するものの、その反面分散性や素子との接着性が
低下する傾向があるが、上述した基をオルガノポリシロ
キサンの側鎖に導入することにより、高重合度による耐
クラツク性や高ガラス転移温度と分散性や密着性を両立
させることができる。
式(9)に示したように、側鎖に−CzH4Sl(OC
HJi+ CHzCHzCOOCHzSt(OCH3
)3゜などの基を導入することが分散性、密着性の点か
ら推奨される。即ち、−船釣にオルガノポリシロキサン
の重合度を大きくすると、耐クラツク性やガラス転移点
は向上するものの、その反面分散性や素子との接着性が
低下する傾向があるが、上述した基をオルガノポリシロ
キサンの側鎖に導入することにより、高重合度による耐
クラツク性や高ガラス転移温度と分散性や密着性を両立
させることができる。
なお、上記式(1)で表わされるオルガノポリシロキサ
ンの重合度は20〜400.好ましくは20〜30o5
より好ましくは30〜200である。重合度が20未満
であると適度な柔軟性や高ガラス転移温度を与えること
が円錐になり、一方。
ンの重合度は20〜400.好ましくは20〜30o5
より好ましくは30〜200である。重合度が20未満
であると適度な柔軟性や高ガラス転移温度を与えること
が円錐になり、一方。
重合度が400を超えると共重合体の製造が技術的に困
難となる上に、得られる共重合体の分散性が悪くなる場
合がある。
難となる上に、得られる共重合体の分散性が悪くなる場
合がある。
この共重合体は、上記アルケニル基含有エポキシ化ノボ
ラック樹脂のアルケニル基と式(1)の)SiH基をも
つオルガノポリシロキサンの)SiH基とを従来公知の
付加触媒、例えば塩化白金酸のような白金系触媒の存在
下で加熱反応させることによって得ることができる。こ
の場合、共重合体の溶解度パラメーターを7.3〜8.
5、特に7.6〜8.2とすることが好ましい。上記溶
解度パラメーターの共重合体を得るためには、オルガノ
ポリシロキサンの)SiH当量をA、アルケニル基含有
エポキシ樹脂の分子量をBとした場合、0.7<A/B
<7、特に好ましくは1≦A/B≦5の範囲で反応させ
ることが好ましい。
ラック樹脂のアルケニル基と式(1)の)SiH基をも
つオルガノポリシロキサンの)SiH基とを従来公知の
付加触媒、例えば塩化白金酸のような白金系触媒の存在
下で加熱反応させることによって得ることができる。こ
の場合、共重合体の溶解度パラメーターを7.3〜8.
5、特に7.6〜8.2とすることが好ましい。上記溶
解度パラメーターの共重合体を得るためには、オルガノ
ポリシロキサンの)SiH当量をA、アルケニル基含有
エポキシ樹脂の分子量をBとした場合、0.7<A/B
<7、特に好ましくは1≦A/B≦5の範囲で反応させ
ることが好ましい。
なお、溶解度パラメーター(sp)は下記式によって定
義される。
義される。
(sp)”= ΔE / V (cal/ cc )
〔但し、ΔEは蒸発エネルギー(ca11モル)。
〔但し、ΔEは蒸発エネルギー(ca11モル)。
■はモル容積(cc1モル)である〕
上述した(イ)、(ロ)から選ばれる添加剤の配合量は
硬化性ポリイミド樹脂100重量部に対して1〜80重
量部、好ましくは2〜50重量部である。
硬化性ポリイミド樹脂100重量部に対して1〜80重
量部、好ましくは2〜50重量部である。
本発明組成物には、硬化剤として、ジシアンジアミド、
4.4”−ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレン
ジアミン等のアミン化合物、クレゾールノボラック樹脂
、フェノールノボラック樹脂等のフェノール化合物など
、公知の硬化剤を配合することができるが、その配合量
は硬化性ポリイミド樹脂100重量部に対して0〜10
0重量部。
4.4”−ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレン
ジアミン等のアミン化合物、クレゾールノボラック樹脂
、フェノールノボラック樹脂等のフェノール化合物など
、公知の硬化剤を配合することができるが、その配合量
は硬化性ポリイミド樹脂100重量部に対して0〜10
0重量部。
特に0〜30重量部とすることが好ましい。なお、上述
したように、添加剤のうち(ロ)としてフェノール樹脂
やエポキシ樹脂を芳香族重合体に用いた共重合体を使用
した場合は、該共重合体自体が硬化剤として作用するの
で、別途硬化剤を配合することを省略し得る。
したように、添加剤のうち(ロ)としてフェノール樹脂
やエポキシ樹脂を芳香族重合体に用いた共重合体を使用
した場合は、該共重合体自体が硬化剤として作用するの
で、別途硬化剤を配合することを省略し得る。
また、本発明の組成物には、必要に応じて硬化促進剤と
して過酸化ベンゾイル等の過酸化物、2−メチルイミダ
ゾール、1,8−ジアザビシクロウンデセン−7、トリ
フェニルホスフィン等の塩基性化合物などを硬化性ポリ
イミド樹脂100重量部に対して通常0〜30重量部、
好ましくは1〜5重量部配合することができる。
して過酸化ベンゾイル等の過酸化物、2−メチルイミダ
ゾール、1,8−ジアザビシクロウンデセン−7、トリ
フェニルホスフィン等の塩基性化合物などを硬化性ポリ
イミド樹脂100重量部に対して通常0〜30重量部、
好ましくは1〜5重量部配合することができる。
更に、本発明組成物は無機充填剤を配合することが好ま
しい。無機充填剤としては、ポリイミド樹脂組成物の用
途等に応じて適宜選択され1例えば結晶性シリカ、非結
晶性シリカ等の天然シリカ、合成高純度シリカ、合成球
状シリカ、タルク、マイカ、窒化けい素、ボロシナイト
ライト、アルミナなどから選ばれる1種又は2種以上を
使用することができる。
しい。無機充填剤としては、ポリイミド樹脂組成物の用
途等に応じて適宜選択され1例えば結晶性シリカ、非結
晶性シリカ等の天然シリカ、合成高純度シリカ、合成球
状シリカ、タルク、マイカ、窒化けい素、ボロシナイト
ライト、アルミナなどから選ばれる1種又は2種以上を
使用することができる。
この場合、無機充填剤の配合量は、ポリイミド樹脂と(
イ)、(ロ)から選ばれる添加剤と硬化剤との総量10
0重量部に対し100〜1000重量部、特に200〜
600重量部とすることが好ましい。無機充填剤量が少
な過ぎるとポリイミド樹脂組成物の強度が低下する場合
があり、また耐クラツク性などの物性面でも満足する結
果が得られない場合が生じ、一方多すぎると組成物の流
動性が悪くなり、無機充填剤の分散が困難となる場合が
ある。
イ)、(ロ)から選ばれる添加剤と硬化剤との総量10
0重量部に対し100〜1000重量部、特に200〜
600重量部とすることが好ましい。無機充填剤量が少
な過ぎるとポリイミド樹脂組成物の強度が低下する場合
があり、また耐クラツク性などの物性面でも満足する結
果が得られない場合が生じ、一方多すぎると組成物の流
動性が悪くなり、無機充填剤の分散が困難となる場合が
ある。
本発明の組成物には、更に必要によりその目的、用途な
どに応じ、各種の添加剤を配合することができる。例え
ばワックス類、ステアリン酸などの脂肪酸及びその金属
塩等の離型剤、カーボンブラック等の顔料、染料、酸化
防止剤、難燃化剤、表面処理剤(γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン等)、その他の添加剤を配合す
ることは差支えない。
どに応じ、各種の添加剤を配合することができる。例え
ばワックス類、ステアリン酸などの脂肪酸及びその金属
塩等の離型剤、カーボンブラック等の顔料、染料、酸化
防止剤、難燃化剤、表面処理剤(γ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン等)、その他の添加剤を配合す
ることは差支えない。
本発明の組成物は、上述した成分の所定量を均一に撹拌
、混合し、予め70〜95℃に加熱しであるニーダ−、
ロール、エクストルーダーなどで混練、冷却し、粉砕す
るなどの方法で得ることができる。この場合、成分の配
合順序に特に制限はない。
、混合し、予め70〜95℃に加熱しであるニーダ−、
ロール、エクストルーダーなどで混練、冷却し、粉砕す
るなどの方法で得ることができる。この場合、成分の配
合順序に特に制限はない。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形材料、粉体塗装用
材料として好適に使用し得るほか、IC。
材料として好適に使用し得るほか、IC。
LSI、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等の半
導体装置の封止用、プリント回路板の製造などにも有効
に使用できる。
導体装置の封止用、プリント回路板の製造などにも有効
に使用できる。
なお、半導体装置の封止を行なう場合は、従来より採用
されている成形法、例えばトランスファ成形、インジェ
クション成形、注形法などを採用して行なうことができ
る。この場合、ポリイミド樹脂組成物の成形温度は15
0〜220℃、ポストキュアーは150〜220℃で2
〜16時間行なうことが好ましい。
されている成形法、例えばトランスファ成形、インジェ
クション成形、注形法などを採用して行なうことができ
る。この場合、ポリイミド樹脂組成物の成形温度は15
0〜220℃、ポストキュアーは150〜220℃で2
〜16時間行なうことが好ましい。
光豆夏羞釆
本発明のポリイミド樹脂組成物は、耐クラツク性に優れ
、しかも機械的強度も良好で、低曲げ弾性率、高ガラス
転移点の硬化物を与えることができ、従って成形材料、
粉体塗装用材料等、特に半導体の封止材料として好適に
用いられるものであり、また、この硬化物で封止された
半導体装置は信頼性に優れたものである。
、しかも機械的強度も良好で、低曲げ弾性率、高ガラス
転移点の硬化物を与えることができ、従って成形材料、
粉体塗装用材料等、特に半導体の封止材料として好適に
用いられるものであり、また、この硬化物で封止された
半導体装置は信頼性に優れたものである。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない
。なお、下記の例において部は重量部を示す。
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない
。なお、下記の例において部は重量部を示す。
実施例、比較例の説明に先立ち、同側で使用した硬化性
ポリイミド樹脂及び共重合体の製造例を参考例により示
す。
ポリイミド樹脂及び共重合体の製造例を参考例により示
す。
〔参考例1〕 表 し、ポリイミド 旧炉創皮2Q四ツ
ロフラスコに4,4′−ジアミノジフェニルメタン19
8g、N−メチル−2−ピロリドン200gを仕込み撹
拌する。溶液の温度を120°Cにし、1時間撹拌を続
ける1次に、N、N’−4、4,’−ジフェニルメタン
ビスマレイミドのN−メチル−2−ピロリドン50%溶
液860gを30分かけて滴下する。その後20分反応
させ、撹拌されている水中へ反応溶液を滴下し、ポリイ
ミド樹脂を沈降させる。この沈殿物を濾過、水洗し、減
圧乾燥し、下記式 で示される硬化性ポリイミド樹脂530g (以下。
ロフラスコに4,4′−ジアミノジフェニルメタン19
8g、N−メチル−2−ピロリドン200gを仕込み撹
拌する。溶液の温度を120°Cにし、1時間撹拌を続
ける1次に、N、N’−4、4,’−ジフェニルメタン
ビスマレイミドのN−メチル−2−ピロリドン50%溶
液860gを30分かけて滴下する。その後20分反応
させ、撹拌されている水中へ反応溶液を滴下し、ポリイ
ミド樹脂を沈降させる。この沈殿物を濾過、水洗し、減
圧乾燥し、下記式 で示される硬化性ポリイミド樹脂530g (以下。
ポリイミド樹脂■とする)を得た。
外 観 褐色固体溶融粘度(C
P、150℃)5.6 加熱減量(%、150℃/1lr) 0.42〔参考
例2] 」dWイL俸Jと盟j1リフレックスコンデ
ンサー、温度計、撹拌機及び滴下ロートを具備した内容
積IQの四ツ目フラスコへ軟化点80℃のエポキシ化フ
ェノ−゛ルツボラック樹脂(エポキシ当量195)30
0gを入れ、温度110℃で撹拌しなから2−アリルフ
ェノール32gとトリブチルアミン1gとの混合物を滴
下時間10分にて滴下し、更に温度110℃にて2時間
撹拌を続けた。得られた内容物がら未反応の2−アリル
フェノール及びトリブチルアミンを減圧下で留去し、ア
リル基含有のエポキシ樹脂(アリル当量1490、エポ
キシ当ff1235)を得た。
P、150℃)5.6 加熱減量(%、150℃/1lr) 0.42〔参考
例2] 」dWイL俸Jと盟j1リフレックスコンデ
ンサー、温度計、撹拌機及び滴下ロートを具備した内容
積IQの四ツ目フラスコへ軟化点80℃のエポキシ化フ
ェノ−゛ルツボラック樹脂(エポキシ当量195)30
0gを入れ、温度110℃で撹拌しなから2−アリルフ
ェノール32gとトリブチルアミン1gとの混合物を滴
下時間10分にて滴下し、更に温度110℃にて2時間
撹拌を続けた。得られた内容物がら未反応の2−アリル
フェノール及びトリブチルアミンを減圧下で留去し、ア
リル基含有のエポキシ樹脂(アリル当量1490、エポ
キシ当ff1235)を得た。
次に、上記と同様の四ツ目フラスコに、上記方法で得た
アリル基含有のエポキシ樹脂120g、メチルイソブチ
ルケトン100g、トルエン200g、2%白金濃度の
2−エチルへキサノール変性塩化白金酸溶液0.04g
をそれぞれ入れ。
アリル基含有のエポキシ樹脂120g、メチルイソブチ
ルケトン100g、トルエン200g、2%白金濃度の
2−エチルへキサノール変性塩化白金酸溶液0.04g
をそれぞれ入れ。
1時間の共沸脱水を行ない、還流温度にて第1表に示す
オルガノポリシロキサン80gを30分にて滴下し、更
に同一温度で4時間撹拌して反応させた後、得られた内
容物を水洗し、溶剤を減圧下で留去することにより、第
1表に示す反応生成物(共重合体1.n、III)を得
た。
オルガノポリシロキサン80gを30分にて滴下し、更
に同一温度で4時間撹拌して反応させた後、得られた内
容物を水洗し、溶剤を減圧下で留去することにより、第
1表に示す反応生成物(共重合体1.n、III)を得
た。
第 1 表
本化合物A: **化合物B:**ネ化
合物C: 〔実施例、比較例〕 下記式 で示されるN、N″−ジフェニルメタンビスマレイミド
(ポリイミド樹脂工)、参考例Iで得られたポリイミド
樹脂■、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、参考例
2で得られた共重合体1〜mをそれぞれ第2表に示す配
合量で使用し、これに石英粉末260部、3−グリシド
キンプロピルトリメトキシシラン1.5部、ワックスE
1.5部、トリフェニルホスフィン2.0部、カーボン
ブラソジ1.0部を加え、得られた配合物を熱2本ロー
ルで均一に溶融混合して、ポリイミド樹脂組成物を製造
した。
合物C: 〔実施例、比較例〕 下記式 で示されるN、N″−ジフェニルメタンビスマレイミド
(ポリイミド樹脂工)、参考例Iで得られたポリイミド
樹脂■、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、参考例
2で得られた共重合体1〜mをそれぞれ第2表に示す配
合量で使用し、これに石英粉末260部、3−グリシド
キンプロピルトリメトキシシラン1.5部、ワックスE
1.5部、トリフェニルホスフィン2.0部、カーボン
ブラソジ1.0部を加え、得られた配合物を熱2本ロー
ルで均一に溶融混合して、ポリイミド樹脂組成物を製造
した。
次に、これらのポリイミド樹脂組成物につき、以下の(
イ)〜(ニ)の諸試験を行なった。
イ)〜(ニ)の諸試験を行なった。
(イ)スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用して、175’C,7
0kg/cmの条件で測定した。
0kg/cmの条件で測定した。
(ロ)機】はg綜11ffl■L庇渡五で剰lA13!
J1社JIS K691Lに準じて175℃、70瞭
/d、成形時間5分の条件で10X4X100町の抗折
捧を成形し、200 ’Cで4時間ポストキュアーした
ものについて測定した。
J1社JIS K691Lに準じて175℃、70瞭
/d、成形時間5分の条件で10X4X100町の抗折
捧を成形し、200 ’Cで4時間ポストキュアーした
ものについて測定した。
(ハ)−」]確菜−吸j入軌蔓■
4■φX15mmの試験片を用いて、デイラドメーター
により毎分5℃の速さで昇温したときの値を測定した。
により毎分5℃の速さで昇温したときの値を測定した。
(ニ)匈「クーラー2−り」1゜
9、OX4.5X0.5[111の大きさのシリコンチ
ップを14 PIN−ICフレーム(4270イ)に接
着し、これにポリイミド樹脂組成物を成形条件175℃
。
ップを14 PIN−ICフレーム(4270イ)に接
着し、これにポリイミド樹脂組成物を成形条件175℃
。
5分で成形し、200℃で4時間ポストキュアーした後
、−195℃×1分〜260℃X30秒の熱サイクルを
繰返して加え、20サイクル後の樹脂クラック発生率を
測定した(n=50)。
、−195℃×1分〜260℃X30秒の熱サイクルを
繰返して加え、20サイクル後の樹脂クラック発生率を
測定した(n=50)。
結果を第2表に示す。
第2表の結果から明らかなように、本発明の共重合体を
配合した組成物は、優れた耐クラツク性を有し、しかも
曲げ強度、膨張係数も良好で低曲げ弾性率、高ガラス転
移温度の硬化物を与えることが認められる。
配合した組成物は、優れた耐クラツク性を有し、しかも
曲げ強度、膨張係数も良好で低曲げ弾性率、高ガラス転
移温度の硬化物を与えることが認められる。
出願人 信越化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、硬化性ポリイミド樹脂を含有するポリイミド樹脂組
成物に、(イ)エポキシ基及びアミノ基から選択される
官能基を有する有機けい素化合物及び(ロ)芳香族重合
体と有機けい素化合物との共重合体の(イ)、(ロ)成
分からなる群より選ばれる添加剤を配合したことを特徴
とするポリイミド樹脂組成物。 2、請求項1記載のポリイミド樹脂組成物の硬化物によ
り封止された半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16711888 | 1988-07-05 | ||
| JP63-167118 | 1988-07-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02117958A true JPH02117958A (ja) | 1990-05-02 |
Family
ID=15843772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17251789A Pending JPH02117958A (ja) | 1988-07-05 | 1989-07-04 | ポリイミド樹脂組成物及び半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02117958A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018190426A1 (ja) * | 2017-04-14 | 2018-10-18 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5620023A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-25 | Hitachi Chem Co Ltd | Curable composition |
| JPS57103207A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-26 | Fujitsu Ltd | Material for coating electronic components |
| JPS6284147A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
-
1989
- 1989-07-04 JP JP17251789A patent/JPH02117958A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5620023A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-25 | Hitachi Chem Co Ltd | Curable composition |
| JPS57103207A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-26 | Fujitsu Ltd | Material for coating electronic components |
| JPS6284147A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018190426A1 (ja) * | 2017-04-14 | 2018-10-18 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 |
| KR20190131567A (ko) * | 2017-04-14 | 2019-11-26 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자 |
| JPWO2018190426A1 (ja) * | 2017-04-14 | 2020-02-27 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 |
| TWI754739B (zh) * | 2017-04-14 | 2022-02-11 | 日商日產化學工業股份有限公司 | 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件 |
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