JPH02118073A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents

連続真空蒸着装置

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Publication number
JPH02118073A
JPH02118073A JP63270943A JP27094388A JPH02118073A JP H02118073 A JPH02118073 A JP H02118073A JP 63270943 A JP63270943 A JP 63270943A JP 27094388 A JP27094388 A JP 27094388A JP H02118073 A JPH02118073 A JP H02118073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
vacuum
vapor
crucible
atmosphere
Prior art date
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Pending
Application number
JP63270943A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Hajime Okita
沖田 肇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP63270943A priority Critical patent/JPH02118073A/ja
Priority to KR1019890004722A priority patent/KR920003591B1/ko
Priority to DE89106353T priority patent/DE68909988T2/de
Priority to US07/336,349 priority patent/US5000114A/en
Priority to EP89106353A priority patent/EP0337369B1/en
Publication of JPH02118073A publication Critical patent/JPH02118073A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチックフィルム例えばポリエステル等
のフィルムにアルミニウム等の金属あるいはセラミック
ス等の非金属を蒸着する真空蒸着装置や、プラスチック
以外の各種の非金属材料または金属材料に金属材料また
は非金属材料を蒸着する真空蒸着装置に関する。
〔従来の技術〕
第2図は、プラスチックフィルムにアルミニウムを蒸着
する従来のX空蒸着装置の一例を示す。
隔板すで仕切られた上室でと下室(蒸着室)gとからな
る真空室aの中で、コイル状に巻いたフィルムbを巻出
mcから繰出しながら、下室gのるつぼJから蒸発する
アルミニウム蒸気を冷却ロール(蒸着ロール)1部で蒸
着し9巻取機eで巻取る。1コイルの蒸着が完了すると
、真空室aを大気に開放し、コイル状に巻かれた新しい
フィルムbを装着し替えた後、再度ポンプd、にで真空
に排気して蒸着する作業を行なう。るつぼj内のアルミ
ニウムは、1回に消費する量が約IIK9程度であり連
続供給を行う必要はないが、大気開放時には。
るつぼJの破損防止のため、その都度排出し、るつぼj
内の手入れを行った後、新しいアルミニウムを装填する
。このように、第2図の真空蒸着装置による蒸着作業は
、フィルムの装着、るつぼの手入れ、新しい蒸着材の装
填、真空引き、加熱。
走行、蒸着、大気開放を繰返すバッチ作業となるので、
極めて非能率的であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記第2図に示される従来の1バッチlコイル方式の真
空蒸着装置は非能率的で生産性が悪い。
そこで生産性を向上させるため、シールロールと隔壁と
によって複数段に仕切られた減圧室を設代それら減圧室
をそれぞれ排気して、大気圧から真空まで段階的に低く
する圧力を作り出し、そこにフィルム等、可撓性の基板
を通すことにより、大気中から真空中へ、そして再び大
気中へと、基板を連続的に走行させて真空蒸着を施すこ
とが考えられている。
しかしながら、第2図図示のバッチ方式の場合には1パ
ツチ毎に、また基板を連続的に走行させる方式の場合に
は走行基板が切れた時や真空室内に異常が発生した時な
どに、真空室を大気に開放する必要がある。そ5すると
その度毎に、るつぼは700ないし800℃1時には1
400℃という高温の状態で大気にさらされるため、焼
損等によって寿命が短くなる。またるつぼの破損防止の
ために。
るつぼ内のアルミニウムをくみ出す作業、およびるつぼ
を手入する作業も必要である。
本発明は、上記のような従来の課題を解決するために、
真空室の大気開放が必要になった場合でもるつぼの部分
のみは真空に保つことができるような、真空蒸着装置を
提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、前記目的を達成するために、可撓性の基板を
大気中から真空室内へ減圧室を経て連続的に導入し、上
記真空室内において上記基板を冷却ロールに巻付け、る
つぼ内で加熱され蒸発した蒸着材を上記基板に蒸着させ
た後、上記基板を減圧室を経て大気中に搬出するように
したものにおいて、上記冷却ロールと上記るつぼの間に
開口部を有する隔壁を設けるとともに、上記開口部に同
開口部を密閉できかつ開閉自在な蓋を設けたことを特徴
とする連続真空蒸着装置を提案するものである。
〔作 用〕
蒸着運転中は、るつぼから蒸着材は隔壁の開口部を通し
、冷却ロール(蒸着ロール)に巻付けた走行基板に蒸着
される。
走行基板が切断した場合等、大気開放の必要が生じた場
合には、開口部を蓋によって密閉し、るつぼを納めた部
分のみを真空にして、蒸着ロール部がある部分を大気に
開放する。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例を示す縦断側面図である。
本実施例はプラスチックフィルムの基板に蒸着材として
アルミニウムを蒸着する装置の例である。
コイル状に巻かれたプラスチックフィルムは大気中に置
かれた払い出し装置(図示せず)から払い出され、シー
ルロールSl、820間を通り、シールロールS1.S
2.S3と隔壁Wl 、 W2とによって囲まれた減圧
室2aに入る。減圧室はほぼ同様な構造のものが複数段
(6〜7段)直列に配置されており、プラスチックフィ
ルム1はそれらを順次通って、最後の減圧室2bから真
空室(蒸着室)3に入る。上記減圧室2a、・・・、2
bおよび真空室3は。
真空排気装置4によりそれぞれ排気され、大気圧から真
空まで顆次段階的に圧力が低くなっている。
プラスチックフィルム1は真空室3内で冷却ロール(蒸
着ロール)5に巻付き、るつぼ6内から蒸発したアルミ
ニウムが蒸着された後、シールロール82 、 S3の
間を通り、減圧室2b・・・2aを経て。
減圧室2a上部のシールロールS2.S3の間から。
大気中に払い出され9巻取装置(図示せず)によって巻
取られる。
真空室(蒸着室)3は、冷却ロール(蒸着ロール)5の
ある上部蒸着室3aと、高周波誘導加熱(図示せず)等
の加熱手段を持つグラファイト製のるつぼ6を納めた下
部蒸着室3bとに、隔壁8によって仕切られている。そ
の隔壁8には、るつぼ6内のアルミニウム7の蒸気が通
るための開口部8aが設けられている。そしてその開口
部8aには。
水平方向および垂直方向(矢印A)に移動できる蓋9が
設けられる。蓋9の下面と隔壁8の上面との間には、開
口部8aを密閉できる真空シール機構(たとえばOリン
ダとメタル面)が設けられる。
蒸着作業中には蓋9は開口部8aの側方に位置し。
るつぼ6内のアルミニウム7の蒸気が蒸着ロール5に巻
付いて走行するプラスチックフィルム1に蒸着される。
この時、上部蒸着室3aに接続する真空配管のパルプV
lおよび下部蒸着室3bに接続する真空配管のパルプv
2は2両方とも開いた状態になっており、真空室(蒸着
室)3全体がI X 10−’Torr程度の圧力に保
持されている。
真空蒸着装置を開放する必要(例えばフィルム切れ)が
生じた場合には、上部蒸着室3aのパルプv1を閉じて
下部蒸着室3bの内圧をアルミニウム7が蒸発しない圧
力(例えばI X 1O−2Torr )にまで高めた
後、蓋9を図示しない移動手段により開口部8aに移動
して真空シールを行ない、開口部8aを密閉する。この
ようにして下部蒸着室3bだけはアルミニウム7が蒸発
しない圧力に保持した状態で、減圧室2a、2bおよび
上部蒸着室3aを開放し。
必要な作業(例えばフィルム1の接続)を実施する。そ
して運転を再開する時には、パルプv1を開き再度減圧
室2a+2bおよび上部蒸着室3aの真空引きを行なう
。所要圧力まで到達したならば。
蓋9を図示しない移動手段によって再度開口部8aの側
方に移動した後、るつぼ6内のアルミニウム7が蒸発す
る圧力まで真空引きを行ない、蒸着を再開する。
〔発明の効果〕
本発明によれば、るつぼを高温の状態で大気中にさらさ
ずに済むので1次の効果が得られる。
(1)  るつぼの酸化による寿命の短縮がなくなる。
(2)  るつぼ内のアルミニウム汲み出し作業が最少
回数で済む。
(3)  るつぼの手入作業の回数が減少する。
(4)上記+21 、 (31により、運転中断時間が
短縮され生産性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す縦断側面図。 第2図は従来の真空蒸着装置の一例を示す縦断側面図で
ある。 1・・・プラスチックフィルム   2a、2b・・・
減圧室3・・・真空室(蒸着室) 3b・・・下部蒸着室 5・・・冷却ロール(蒸着ロール) 7・・・アルミニウム 8a・・・開口部 81.82.S3・・・シールロール v1.v2・・り丈ルプ 3a・・・上部蒸着室 4・・・真空排気装置 6・・・るつぼ 8・・・蒸着室隔壁 9・・・蓋 wl、w2・・・隔壁 第1図 代 理 人

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 可撓性の基板を大気中から真空室内へ減圧室を経て連続
    的に導入し、上記真空室内において、上記基板を冷却ロ
    ールに巻付け、るつぼ内で加熱され蒸発した蒸着材を上
    記基板に蒸着させた後、上記基板を減圧室を経て大気中
    に搬出するようにしたものにおいて、上記冷却ロールと
    上記るつぼの間に開口部を有する隔壁を設けるとともに
    、上記開口部に同開口部を密閉できかつ開閉自在な蓋を
    設けたことを特徴とする連続真空蒸着装置。
JP63270943A 1988-04-11 1988-10-28 連続真空蒸着装置 Pending JPH02118073A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63270943A JPH02118073A (ja) 1988-10-28 1988-10-28 連続真空蒸着装置
KR1019890004722A KR920003591B1 (ko) 1988-04-11 1989-04-10 연속진공증착장치
DE89106353T DE68909988T2 (de) 1988-04-11 1989-04-11 Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung.
US07/336,349 US5000114A (en) 1988-04-11 1989-04-11 Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices
EP89106353A EP0337369B1 (en) 1988-04-11 1989-04-11 Continuous vacuum vapor deposition apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63270943A JPH02118073A (ja) 1988-10-28 1988-10-28 連続真空蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02118073A true JPH02118073A (ja) 1990-05-02

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ID=17493171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63270943A Pending JPH02118073A (ja) 1988-04-11 1988-10-28 連続真空蒸着装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6696096B2 (en) 2000-06-22 2004-02-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Apparatus for and method of vacuum vapor deposition and organic electroluminescent device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6696096B2 (en) 2000-06-22 2004-02-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Apparatus for and method of vacuum vapor deposition and organic electroluminescent device
KR100483487B1 (ko) * 2000-06-22 2005-04-15 마츠시다 덴코 가부시키가이샤 진공 증착장치 및 방법 그리고 유기 전자 발광장치

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