JPH02120826A - 粉体の散布方法、粉体付基材および液晶セル - Google Patents
粉体の散布方法、粉体付基材および液晶セルInfo
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- JPH02120826A JPH02120826A JP27549888A JP27549888A JPH02120826A JP H02120826 A JPH02120826 A JP H02120826A JP 27549888 A JP27549888 A JP 27549888A JP 27549888 A JP27549888 A JP 27549888A JP H02120826 A JPH02120826 A JP H02120826A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、基材上に粉体を均一に散布する方法に関する
。また本発明は、前記の方法による基材上に粉体が単位
面積当り均一密度に散布された基板、特に粉体が単位面
積当り均一密度に散布され。
。また本発明は、前記の方法による基材上に粉体が単位
面積当り均一密度に散布された基板、特に粉体が単位面
積当り均一密度に散布され。
た透明電極板に関する。さらに本発明は、前記の粉末が
単位面積当り均一密度に分散された透明電極板を用いて
得られる液晶相の厚さが均一な液晶セルに関する。
単位面積当り均一密度に分散された透明電極板を用いて
得られる液晶相の厚さが均一な液晶セルに関する。
本発明の技術的背景並びにその問題点
時計、計算機、テレビ等の表示装置と1−で、液高表示
装置(以下rLCDJと記載することもある)が広く用
いられている。このLCDは、わずかな電位を加えるだ
けで分子の配向が変わって偏光方向が変化する液晶を用
いた表示装置であり、通常、二枚の電極基板間に液晶層
を挟み込んだ構造を有している。
装置(以下rLCDJと記載することもある)が広く用
いられている。このLCDは、わずかな電位を加えるだ
けで分子の配向が変わって偏光方向が変化する液晶を用
いた表示装置であり、通常、二枚の電極基板間に液晶層
を挟み込んだ構造を有している。
このようなLCDでは、液晶相の厚さをできるだけ薄く
することが望ましく、しがも液晶相の厚さにばらつきが
ないことが望まれている。すなわち、液晶相の厚さにバ
ラツキがあると、液晶相にかかる電界の強度が部分的に
不均一になるため、画像のコントラスト比が場所によっ
て変化し、画像にむらが生ずる。さらに、液晶の入力信
号に対する応答速度は、液晶層の厚さおよび電界強度に
応じて変化するので、上記のような液晶層の厚さにバラ
ツキが大きいと、応答速度に差異が生じ鮮明な画像が得
られない。このためLCDでは、二枚の電極基板間に絶
縁物からなるスペーサーを介在させて所望の厚さの間隙
を形成し、この間隙に液晶物質を充填することにより、
二枚の電極板間に薄く均一な液晶層を形成させる方法が
利用されている。
することが望ましく、しがも液晶相の厚さにばらつきが
ないことが望まれている。すなわち、液晶相の厚さにバ
ラツキがあると、液晶相にかかる電界の強度が部分的に
不均一になるため、画像のコントラスト比が場所によっ
て変化し、画像にむらが生ずる。さらに、液晶の入力信
号に対する応答速度は、液晶層の厚さおよび電界強度に
応じて変化するので、上記のような液晶層の厚さにバラ
ツキが大きいと、応答速度に差異が生じ鮮明な画像が得
られない。このためLCDでは、二枚の電極基板間に絶
縁物からなるスペーサーを介在させて所望の厚さの間隙
を形成し、この間隙に液晶物質を充填することにより、
二枚の電極板間に薄く均一な液晶層を形成させる方法が
利用されている。
このように液晶層の厚さは、電極板間に介在するスペー
サーの大きさにより決定されるため、電極基板上におけ
る単位面積当りのスペーサー密度により液晶層の厚さに
バラツキが発生する。したがって液晶層の厚さを均一に
するためには、大きさの揃ったスペーサーを用い、この
ようなスペーサーを電極基板上に単位面積当り均一な密
度で分布させなければならない。
サーの大きさにより決定されるため、電極基板上におけ
る単位面積当りのスペーサー密度により液晶層の厚さに
バラツキが発生する。したがって液晶層の厚さを均一に
するためには、大きさの揃ったスペーサーを用い、この
ようなスペーサーを電極基板上に単位面積当り均一な密
度で分布させなければならない。
従来スペーサーは、液中にスペーサーを分散させたスラ
リーをノズルから噴霧させることにより、基板上に散布
されていたが、この方法ではスペーサーを均一な密度に
散布することが困難であり、基材上に均一に粉末を散布
することのできる方法の開発が切望されていた。
リーをノズルから噴霧させることにより、基板上に散布
されていたが、この方法ではスペーサーを均一な密度に
散布することが困難であり、基材上に均一に粉末を散布
することのできる方法の開発が切望されていた。
発明の目的
本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を解消
しようとするものであって、基材上に均一密度でスペー
サー等の粉体を散布する方法の提供を目的としている。
しようとするものであって、基材上に均一密度でスペー
サー等の粉体を散布する方法の提供を目的としている。
さらに、本発明は基材上に均一密度でスペーサー等の粉
体を一度で散布することができる方法の提供を目的とし
ている。
体を一度で散布することができる方法の提供を目的とし
ている。
また本発明は、前記の方法による粉体が単位面積当り均
一密度に散布された基板の提供を目的とし、特に粉体が
単位面積当り均一密度に散布された透明電極板の提供を
目的としている。
一密度に散布された基板の提供を目的とし、特に粉体が
単位面積当り均一密度に散布された透明電極板の提供を
目的としている。
さらに本発明は、前記の粉体が単位面積当り均一密度に
分散された透明電極板を用いて得られる液晶層の厚さが
均一な透明セルの提供を目的としている。
分散された透明電極板を用いて得られる液晶層の厚さが
均一な透明セルの提供を目的としている。
発明の概要
本発明に係る散布方法は、基材もしくはノズルを相対的
に移動させながら粉体分散スラリーを基材上に散布する
方法において、移動直角方向の異なる位置に設けられた
2個以上のノズルから、基材表面に、それぞれのノズル
によって散布される粉体の散布領域が、該移動方向から
みて重なるように、粉体分散スラリーを散布することを
特徴としている。
に移動させながら粉体分散スラリーを基材上に散布する
方法において、移動直角方向の異なる位置に設けられた
2個以上のノズルから、基材表面に、それぞれのノズル
によって散布される粉体の散布領域が、該移動方向から
みて重なるように、粉体分散スラリーを散布することを
特徴としている。
また、本発明に係る基板は、基材上に粉末が散布された
基板であって、該基板上の任意の点における該粉末の単
位面積当り粒子密度が、該基材上における粒子の平均密
度に対して±50%以内の範囲内にあることを特徴とし
ている。
基板であって、該基板上の任意の点における該粉末の単
位面積当り粒子密度が、該基材上における粒子の平均密
度に対して±50%以内の範囲内にあることを特徴とし
ている。
さらに、本発明に係る液晶セルは、基板上の任意の点に
おける該粉末の単位面積当り粒子密度が、該基材上にお
ける粒子の平均密度に対して±50%以内の範囲内にあ
る透明電極基板から形成されていることを特徴としてい
る。
おける該粉末の単位面積当り粒子密度が、該基材上にお
ける粒子の平均密度に対して±50%以内の範囲内にあ
る透明電極基板から形成されていることを特徴としてい
る。
発明の詳細な説明
次に本発明に係る粉体の散布方法、基板および液晶セル
について具体的に説明する。
について具体的に説明する。
まず、本発明に係る粉体の散布方法について説明する。
第1図に1個のノズルを用いて粉体を散布したときの噴
霧量分布曲線の例を示す。なお、本発明においては、こ
の噴霧量分布曲線を、単に「パターン」と記載すること
もある。
霧量分布曲線の例を示す。なお、本発明においては、こ
の噴霧量分布曲線を、単に「パターン」と記載すること
もある。
従来の方法で粉体の単位面積当りの密度が不均−になる
のは、粉体が液中に分散されているスラリー(以下、ス
ラリーという)を相対的な移動方向に噴霧し、基材上の
直交する線分を通過した際に、その線分上で噴霧された
パターンが平坦にならず、第1図に示すように略半円形
になるためである。すなわち、例えば第1図に示すよう
に、ノズル11から噴霧されたスラリーは、移動方向を
示す矢印12に垂直な線分13とノズル11により形成
される断面においては、相対的にパターン14で示され
るような量で基材15上に散布される。
のは、粉体が液中に分散されているスラリー(以下、ス
ラリーという)を相対的な移動方向に噴霧し、基材上の
直交する線分を通過した際に、その線分上で噴霧された
パターンが平坦にならず、第1図に示すように略半円形
になるためである。すなわち、例えば第1図に示すよう
に、ノズル11から噴霧されたスラリーは、移動方向を
示す矢印12に垂直な線分13とノズル11により形成
される断面においては、相対的にパターン14で示され
るような量で基材15上に散布される。
したがって、ノズル直下14aにおける粉体の散布量は
比較的多くなるが、パターンの裾部14bにおける粉体
の散布量は比較的少なくなる。このため基材上に散布さ
れた粉体の密度はノズル直下14a近傍で最も高くなり
、裾部14b近傍で最も低くなり、このような条件で散
布を繰り返しても粉体密度が均一な基板を製造しにくい
。
比較的多くなるが、パターンの裾部14bにおける粉体
の散布量は比較的少なくなる。このため基材上に散布さ
れた粉体の密度はノズル直下14a近傍で最も高くなり
、裾部14b近傍で最も低くなり、このような条件で散
布を繰り返しても粉体密度が均一な基板を製造しにくい
。
本発明者は、上記の噴霧量分布曲線、すなわちパターン
が平坦部を有するようにノズルを配置してスラリーの散
布を行なうことにより、基材上に散布される粉体の単位
面積当りの密度が均一になるとの知見を得た。
が平坦部を有するようにノズルを配置してスラリーの散
布を行なうことにより、基材上に散布される粉体の単位
面積当りの密度が均一になるとの知見を得た。
上記のパターンが平坦部を有するようにするために、本
発明では2個以上のノズルを用いている。
発明では2個以上のノズルを用いている。
そして、この2個以上のノズルを、ノズルもしくは基材
の相対的な移動に対して直角方向の、異なる位置に設け
る。さらに、この2個以上のそれぞれのノズルから粉体
分散スラリーを噴霧することにより形成される粉体の散
布領域が、ノズルもしくは基材の移動方向から見て重な
るような位置にそれぞれのノズルを配置する。
の相対的な移動に対して直角方向の、異なる位置に設け
る。さらに、この2個以上のそれぞれのノズルから粉体
分散スラリーを噴霧することにより形成される粉体の散
布領域が、ノズルもしくは基材の移動方向から見て重な
るような位置にそれぞれのノズルを配置する。
このようにノズルを配置し、それぞれのノズルのパター
ンを合成することによって得られる全体のパターンが平
坦部を有するようになる。
ンを合成することによって得られる全体のパターンが平
坦部を有するようになる。
上記のように、本発明においては、]のノズルに対して
隣接するノズルが、ノズルもしくは基材の移動方向に対
して略横方向にずれて配置されていればよいが、複数の
ノズルが横に並ぶように配置してそれぞれのノズルによ
って形成される散布領域が直接重なりあうと、この重な
りあった散布領域における粉体の流れが乱れ、この部分
の粉体の噴霧量の制御が困難になり、従って合成された
パターンが平坦にならない。
隣接するノズルが、ノズルもしくは基材の移動方向に対
して略横方向にずれて配置されていればよいが、複数の
ノズルが横に並ぶように配置してそれぞれのノズルによ
って形成される散布領域が直接重なりあうと、この重な
りあった散布領域における粉体の流れが乱れ、この部分
の粉体の噴霧量の制御が困難になり、従って合成された
パターンが平坦にならない。
このため、本発明においては、2個以上のノズルを移動
方向に対して斜めにずらして配置し、それぞれのノズル
によって形成される散布領域が直接重なり合わず、前記
線分上で重なり合うようにすることが特に好ましい。
方向に対して斜めにずらして配置し、それぞれのノズル
によって形成される散布領域が直接重なり合わず、前記
線分上で重なり合うようにすることが特に好ましい。
第2図にノズルを斜めにずらして配置した例を模式的に
示す。
示す。
第2図に示す態様において、基材25の移動方向を矢印
Aで示]7ている。
Aで示]7ている。
そして第2図においては、基材の中心線Cの左側りの領
域に粉体を散布するためにノズル21aが備えられてお
り、右側Rの領域に粉体を散布するノズル21bが備え
られている。
域に粉体を散布するためにノズル21aが備えられてお
り、右側Rの領域に粉体を散布するノズル21bが備え
られている。
第2図に示すように複数のノズルを前後して配置する場
合、縦方向の長さYは、ノズル21aおよびノズル21
bによって形成される粉体の散布領域28a、2Bbが
直接重しないようにすることが好ましく、さらに通常は
先行するノズルによって散布された粉体分散スラリーを
形成する溶剤が蒸散する前に次のノズルによって粉体分
散スラリーを散布することができるような距離でそれぞ
れのノズルを配置する。
合、縦方向の長さYは、ノズル21aおよびノズル21
bによって形成される粉体の散布領域28a、2Bbが
直接重しないようにすることが好ましく、さらに通常は
先行するノズルによって散布された粉体分散スラリーを
形成する溶剤が蒸散する前に次のノズルによって粉体分
散スラリーを散布することができるような距離でそれぞ
れのノズルを配置する。
そして、ノズル21aおよびノズル21bの横方向の長
さXは、各ノズルによって形成される散布領域26a、
26bの両者よって基材25の中心線C付近に粉体分散
スラリーを重ねて散布できるような距離にする。この距
離は、ノズルの形状、散布条件等を考慮して求めること
ができる。なお、第2図において、斜線を付して示した
部分が移動方向から見て重なり合う散布領域である。
さXは、各ノズルによって形成される散布領域26a、
26bの両者よって基材25の中心線C付近に粉体分散
スラリーを重ねて散布できるような距離にする。この距
離は、ノズルの形状、散布条件等を考慮して求めること
ができる。なお、第2図において、斜線を付して示した
部分が移動方向から見て重なり合う散布領域である。
上記のような位置にノズルを配置してスラリーを散布す
ることにより、それぞれのノズルのパターン(噴霧量分
布曲線)を合成して得られる全体のパターンが隣接する
ノズル間で平坦部ヲ有スるようになり、そして、この全
体のパターンに対応した、非常に均一に粉体が散布され
た基板を得ることができる。
ることにより、それぞれのノズルのパターン(噴霧量分
布曲線)を合成して得られる全体のパターンが隣接する
ノズル間で平坦部ヲ有スるようになり、そして、この全
体のパターンに対応した、非常に均一に粉体が散布され
た基板を得ることができる。
本発明において、スラリーは、上記の噴霧領域が、基材
もしくはノズルの相対的な移動方向に平行な基材の両端
部に及ぶように散布することにより、基材全体に均一に
粉体を散布することができる。
もしくはノズルの相対的な移動方向に平行な基材の両端
部に及ぶように散布することにより、基材全体に均一に
粉体を散布することができる。
なお、3個以上のノズルを使用する場合には、隣接する
ノズルとの関係を上記のようにすればよい。
ノズルとの関係を上記のようにすればよい。
第9図に3個のノズルを使用する場合のノズルの配置例
を示す。
を示す。
本発明で使用するノズルは、合成されたパターンが平坦
部を持つならば、いかなる形態のノズルでも使用できる
。好ましくは二流体微噴霧ノズルが用いられる。さらに
好ましくは、ノズル孔の横断面形状が長四角状、楕円状
等その形状において、対称軸を2本以上持つノズルを用
いることが好ましい。本発明で使用することが好ましい
ノズルの形態の例を第3図および第4図に示す。本発明
においては、ノズルの配置は、前記の2本以上の対称軸
を持つノズルと、2本の対称軸を持たないノズルを交互
に配置してもよいが、2本以上の対称軸を持つノズルを
配置することが特に好ましい。
部を持つならば、いかなる形態のノズルでも使用できる
。好ましくは二流体微噴霧ノズルが用いられる。さらに
好ましくは、ノズル孔の横断面形状が長四角状、楕円状
等その形状において、対称軸を2本以上持つノズルを用
いることが好ましい。本発明で使用することが好ましい
ノズルの形態の例を第3図および第4図に示す。本発明
においては、ノズルの配置は、前記の2本以上の対称軸
を持つノズルと、2本の対称軸を持たないノズルを交互
に配置してもよいが、2本以上の対称軸を持つノズルを
配置することが特に好ましい。
またノズルは、同一ノズルの組み合わせ、あるいは異種
ノズルの組み合わせてあろうと構わない。
ノズルの組み合わせてあろうと構わない。
このようにパターンが一致しないようにノズルを配置し
、ノズルからスラリーを基材に噴霧することにより、単
位面積当りの粉体密度のバラツキを少なくすることがで
きる。
、ノズルからスラリーを基材に噴霧することにより、単
位面積当りの粉体密度のバラツキを少なくすることがで
きる。
本発明において、スラリー中における粉体濃度およびス
ラリーの供給、基材またはノズルの移動速度、基材とノ
ズルとの距離を適宜に調整すれば単位面積当り均一密度
で粉体の個数を任意に変えることができる。
ラリーの供給、基材またはノズルの移動速度、基材とノ
ズルとの距離を適宜に調整すれば単位面積当り均一密度
で粉体の個数を任意に変えることができる。
本発明で使用することかできる基板としては、ガラス、
プラスチックシート及びプラスチックフィルム等を挙げ
ることができる。例えば液晶セルを形成するための透明
電極基板を製造する際には基材としてITO硝子等を使
用することができる。なお、このような基材には、通常
、電極が形成されている。
プラスチックシート及びプラスチックフィルム等を挙げ
ることができる。例えば液晶セルを形成するための透明
電極基板を製造する際には基材としてITO硝子等を使
用することができる。なお、このような基材には、通常
、電極が形成されている。
また、このような基材上に散布する粉体としては、シリ
カ微粉末、ガラスファイバー α−アルミナ微粉末、樹
脂微粉末等を使用することができる。例えば液晶セルを
製造する場合には、平均粒子径が0.1〜20μmのシ
リカ微粉末等が使用される。このような粉体は、比較的
沸点の低い有機溶媒に分散して使用することができる。
カ微粉末、ガラスファイバー α−アルミナ微粉末、樹
脂微粉末等を使用することができる。例えば液晶セルを
製造する場合には、平均粒子径が0.1〜20μmのシ
リカ微粉末等が使用される。このような粉体は、比較的
沸点の低い有機溶媒に分散して使用することができる。
本発明において、粉体の単位面積当りの密度は、例えば
第5図に示すように基材にスラリーを散布して形成され
た基板上に仮想横線および仮想縦線を設け、両者の交点
の密度を求め、求めた値を基にして粉体の単位面積当り
の密度の平均値を求めることができる。
第5図に示すように基材にスラリーを散布して形成され
た基板上に仮想横線および仮想縦線を設け、両者の交点
の密度を求め、求めた値を基にして粉体の単位面積当り
の密度の平均値を求めることができる。
そして、上記のようにして算出された粉体の単位面積当
りの密度の平均値を基準にして、本発明の方法により基
材上に粉体が散布されることにより形成された基板また
は透明電極板における粉体の単位面積当りの密度のバラ
ツキを求めると、本発明の基板におけるバラツキは、基
板全体の粉体密度の平均値に対して、通常±50%以内
になる。
りの密度の平均値を基準にして、本発明の方法により基
材上に粉体が散布されることにより形成された基板また
は透明電極板における粉体の単位面積当りの密度のバラ
ツキを求めると、本発明の基板におけるバラツキは、基
板全体の粉体密度の平均値に対して、通常±50%以内
になる。
そして、散布条件等を変えることによりこのバラツキを
±35%以内に制御することも可能である。
±35%以内に制御することも可能である。
すなわち、本発明の散布方法を採用して得られた基板に
散布された粉体の密度を、上記第5図に示すようにして
測定した各交点における値を基にして模式的に示すと、
第6図および第7図に示すようになる。この第6図は、
実施例1で製造された基板における実測値に基づいて作
製した図であり、第7図は実施例5で製造された基板に
おける実測値に基づいて作製した図である。これに対し
て、従来の1個のノズルを用いて製造した基板の粉体の
密度を、同様な方法により示すと、第8図に示すように
なる。この第8図は、比較例1で製造された基板におけ
る実測値に基づいて作製した図である。
散布された粉体の密度を、上記第5図に示すようにして
測定した各交点における値を基にして模式的に示すと、
第6図および第7図に示すようになる。この第6図は、
実施例1で製造された基板における実測値に基づいて作
製した図であり、第7図は実施例5で製造された基板に
おける実測値に基づいて作製した図である。これに対し
て、従来の1個のノズルを用いて製造した基板の粉体の
密度を、同様な方法により示すと、第8図に示すように
なる。この第8図は、比較例1で製造された基板におけ
る実測値に基づいて作製した図である。
上記第6図および第7図と、第8図とを比較すると、本
発明に係る方法を採用することにより、得られる基板は
、非常に高い粉体密度の均一性を有するようになること
がわかる。
発明に係る方法を採用することにより、得られる基板は
、非常に高い粉体密度の均一性を有するようになること
がわかる。
本発明の散布方法により形成された透明電極をaする基
板を用いることにより、液晶層の厚さ(セルギャップ)
のバラツキの少ない液晶セルを製造することができる。
板を用いることにより、液晶層の厚さ(セルギャップ)
のバラツキの少ない液晶セルを製造することができる。
すなわち、前記の透明電極板を用いた液晶セルは、透明
電極基板の粉体密度のバラツキが少ないため、セルギャ
ップバラツキがそのセルギャップの平均値に対して±0
.1μm以内、さらには±0.05μm以内になる。し
たがって、このような液晶セルを用いることにより液晶
層にかかる電界の強度が部分的に不均一になることが少
なくなるため、画像のコントラスト比が場所によって変
化して画像にむらが生ずることがなくなる。さらに、セ
ルギャップのバラツキが小さいために、部分的な応答速
度の差異も少なくなるので、本発明の液晶セルを用いる
ことにより鮮明な画像を得ることができる。
電極基板の粉体密度のバラツキが少ないため、セルギャ
ップバラツキがそのセルギャップの平均値に対して±0
.1μm以内、さらには±0.05μm以内になる。し
たがって、このような液晶セルを用いることにより液晶
層にかかる電界の強度が部分的に不均一になることが少
なくなるため、画像のコントラスト比が場所によって変
化して画像にむらが生ずることがなくなる。さらに、セ
ルギャップのバラツキが小さいために、部分的な応答速
度の差異も少なくなるので、本発明の液晶セルを用いる
ことにより鮮明な画像を得ることができる。
なお、このような液晶セルは、従来の方法に準じて、例
えばITO硝子の周縁部にシール用樹脂をスクリーン印
刷等の方法を利用して塗設し、次いで上記の方法で得ら
れた本発明の透明電極基板を貼着することにより製造す
ることができる。
えばITO硝子の周縁部にシール用樹脂をスクリーン印
刷等の方法を利用して塗設し、次いで上記の方法で得ら
れた本発明の透明電極基板を貼着することにより製造す
ることができる。
発明の効果
本発明の散布方法では、基材もしくはノズルを相対的に
移動させながら粉体分散スラリーを基材上に散布する方
法において、移動直角方向の異なる位置に設けられた2
個以上のノズルから、基板表面に、それぞれのノズルに
よって散布される粉体の散布領域が、該移動方向からみ
て重なるように、粉体分散スラリーを散布している。そ
のため粉体分散スラリーを基材上に均一に散布すること
ができ、形成される基板における単位面積当りの粉体密
度のバラツキが小さくなる。
移動させながら粉体分散スラリーを基材上に散布する方
法において、移動直角方向の異なる位置に設けられた2
個以上のノズルから、基板表面に、それぞれのノズルに
よって散布される粉体の散布領域が、該移動方向からみ
て重なるように、粉体分散スラリーを散布している。そ
のため粉体分散スラリーを基材上に均一に散布すること
ができ、形成される基板における単位面積当りの粉体密
度のバラツキが小さくなる。
しかも本発明の方法を採用してノズル数を散布面積に対
応させて調整することにより、広い面積を有する基板を
一回の粉末分散スラリーの散布で製造することができる
ようになる。したがって、本発明の方法は、大面積、大
型のL CDを製造しようとする場合に特に有効である
。
応させて調整することにより、広い面積を有する基板を
一回の粉末分散スラリーの散布で製造することができる
ようになる。したがって、本発明の方法は、大面積、大
型のL CDを製造しようとする場合に特に有効である
。
このようにして得られた基板における粉体密度のバラツ
キは、基板における粉体密度の平均値に対して、±50
%以内である。
キは、基板における粉体密度の平均値に対して、±50
%以内である。
したがって散布された基板をLCD用電極基板として使
用することにより、液晶層の厚さが均一であるため鮮明
な画像を表示するLCDを得ることができる。
用することにより、液晶層の厚さが均一であるため鮮明
な画像を表示するLCDを得ることができる。
以下実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
実施例に
流体微噴霧ノズル(Spraying 5ysLeo+
s、Co、。
s、Co、。
製、1/4J、 5tl13^)2個を第2図のように
配置し、シリカ微粒子(触媒化成工業■製、真糾球SW
1平均拉径6.8μm)がエタノール/フロン(ダイキ
ン、工業■製、商品名ダイフロンS3、容量比1/1)
混合溶液に0.4重量%となるように分散し、スラリー
を得た。このスラリーを、表1の条件で154 mi
X 300 mmのITO硝子に空気圧2 kg /
cd 、空気流量20 ml 7分の流量で噴霧した。
配置し、シリカ微粒子(触媒化成工業■製、真糾球SW
1平均拉径6.8μm)がエタノール/フロン(ダイキ
ン、工業■製、商品名ダイフロンS3、容量比1/1)
混合溶液に0.4重量%となるように分散し、スラリー
を得た。このスラリーを、表1の条件で154 mi
X 300 mmのITO硝子に空気圧2 kg /
cd 、空気流量20 ml 7分の流量で噴霧した。
その後、90℃、30分間加熱してエタノール/フロン
を乾燥させた。
を乾燥させた。
実施例2〜6および比較例1
噴霧条件を表1にしたがって行なった以外は実施例1と
同一条件にした。
同一条件にした。
散布密度の評価
第5図の測定点(直線の交点)について散布密度を測定
し、た。
し、た。
11PI定結果を表1に記載する。
実施例7〜12および比較例2
シール用樹脂(三井東圧■製、エポキシ樹脂)100g
にシリカ微粒子(触媒化成工業■製、真縣球SW1平均
粒径6.8μm)Igを分散させてシール用組成物を調
製した。
にシリカ微粒子(触媒化成工業■製、真縣球SW1平均
粒径6.8μm)Igを分散させてシール用組成物を調
製した。
得られたシール用組成物を、配向膜が形成された1 5
0 mm X 300 mmのITO硝子の周縁部にス
クリーン印刷機で印刷した。
0 mm X 300 mmのITO硝子の周縁部にス
クリーン印刷機で印刷した。
次にこのITO硝子と実施例1〜6および比較例1で得
られたITO硝子基板とを貼り合わせ、3 kg /
c−の加圧下で150℃、1時間加熱して樹脂を硬化さ
せ液晶セルを得た。
られたITO硝子基板とを貼り合わせ、3 kg /
c−の加圧下で150℃、1時間加熱して樹脂を硬化さ
せ液晶セルを得た。
セルギャップの評価方法
第5図のn1定点(直線の交点)についてセルギャップ
を測定した。
を測定した。
結果を表2に記載する。
表2
バラツキはセルギャップの母標準偏差。
第1図は、1個のノズルから噴霧された粉体の噴霧量分
布曲線(パターン)の−例を示す図である。 11・・・ノズル孔、14・・・噴霧量分布曲線(パタ
ーン)14a・・・ノズル直下部、i4b・・・裾部第
2図は、2個のノズルの配置とITO硝子基材の移動方
向の例を示す図である。 21a、21b =−ノズル孔、213a、28b −
・・散布領域25・・・基材 第3図および第4図は、ノズル孔の形状を表わす図であ
る。 第5図は。散布密度およびセルギャップのΔIII定点
を示す図である。 第6図は、実施例1で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第7図は、実施例5で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第8図は、比較例1で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第9図は、実施例3又は4の時のノズル配置を表わす図
である。 代 理 人 弁理士 鈴 木 俊一部
第 図 第 コ 図
布曲線(パターン)の−例を示す図である。 11・・・ノズル孔、14・・・噴霧量分布曲線(パタ
ーン)14a・・・ノズル直下部、i4b・・・裾部第
2図は、2個のノズルの配置とITO硝子基材の移動方
向の例を示す図である。 21a、21b =−ノズル孔、213a、28b −
・・散布領域25・・・基材 第3図および第4図は、ノズル孔の形状を表わす図であ
る。 第5図は。散布密度およびセルギャップのΔIII定点
を示す図である。 第6図は、実施例1で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第7図は、実施例5で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第8図は、比較例1で製造した基板における粉体の散布
分布を模式的に表わす図である。 第9図は、実施例3又は4の時のノズル配置を表わす図
である。 代 理 人 弁理士 鈴 木 俊一部
第 図 第 コ 図
Claims (5)
- (1)基材もしくはノズルを相対的に移動させながら粉
体分散スラリーを基材上に散布する方法において、移動
直角方向の異なる位置に設けられた2個以上のノズルか
ら、基材表面に、それぞれのノズルによって散布される
粉体の散布領域が、該移動方向からみて重なるように、
粉体分散スラリーを散布することを特徴とする粉体の散
布方法。 - (2)基材上に粉末が散布された基板であって、該基板
上の任意の点における該粉末の単位面積当り粒子密度が
、該基材上における粒子の平均密度に対して±50%以
内の範囲内にあることを特徴とする基板。 - (3)該基板上の任意の点における該粉末の単位面積当
り粒子密度が、該基材上における粒子の平均密度に対し
て±35%以内の範囲内にあることを特徴とする請求項
第2項記載の基板。 - (4)基材が透明電極板であることを特徴とする請求項
第2項もしくは第3項記載の基板。 - (5)基板上の任意の点における該粉末の単位面積当り
粒子密度が、該基材上における粒子の平均密度に対して
±50%以内の範囲内にある透明電極基板から形成され
ていることを特徴とする液晶セル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275498A JP2807475B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 粉体の散布方法、粉体付基材および液晶セル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275498A JP2807475B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 粉体の散布方法、粉体付基材および液晶セル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02120826A true JPH02120826A (ja) | 1990-05-08 |
| JP2807475B2 JP2807475B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=17556332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63275498A Expired - Fee Related JP2807475B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 粉体の散布方法、粉体付基材および液晶セル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2807475B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006022000A1 (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Nagase & Co., Ltd. | スペーサ散布装置 |
| WO2006021998A1 (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Nagase & Co., Ltd. | スペーサ散布装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176621A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-17 | Nissan Motor Co Ltd | スペ−サ材微粒子散布装置 |
| JPS62251721A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-02 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
| JPS6396634A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPS63187121U (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-30 | ||
| JPH01224724A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-07 | Seiko Epson Corp | 液晶光学装置の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63275498A patent/JP2807475B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176621A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-17 | Nissan Motor Co Ltd | スペ−サ材微粒子散布装置 |
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| JPS6396634A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPS63187121U (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-30 | ||
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| WO2006022000A1 (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Nagase & Co., Ltd. | スペーサ散布装置 |
| WO2006021998A1 (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Nagase & Co., Ltd. | スペーサ散布装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2807475B2 (ja) | 1998-10-08 |
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