JPH02120864A - 感光性記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は１．少なくとも一種の結合剤、少なくとも一種
の重合開始剤、結合剤と相溶性の少なくとも一種の光重
合性オレフィン様不飽和化合物（モノマー）および／ま
たは重合体結合剤に側鎖基および／または末端基として
結合した光重合性オレフィン様不飽和残基、並びに少な
くとも一種の助剤から成る少なくとも一層の光重合性記
録層を有する印刷版ｍ　（Ｄｒｎｅｋｆｏｒｍ）または
レリーフ版型（Ｒｓｌｉｅｆｒｏｒ＋ｍ）の製造のため
の感光性記録材料に関するものである。

［従来の技術］ 冒頭に挙げた種類の感光性記録材料は周知である。印刷
版型またはレリーフ版型を作成するためにはその光重合
性記録層（Ａ）を化学線（＊ｋｔｉｎｉｓｃｋｅ　Ｌｉ
ｅｂｉｇ）に像様露光して照射領域が光重合し架橋し、
現像溶剤に不溶性の層領域を形成する。

その後、像様露光した記録材料（Ａ）の非露光領域を適
当な現像溶剤を使用して洗い落として光重合レリーフ層
（Ａ′）を形成している。

公知の感光性記録材料から作成されたレリーフ層（Ａ′
）は、印刷業界では通常約３００μｍ〜１ｃｍのレリー
フ厚であるが、勿論たいていけ希望する鋭敏なレリーフ
微細構造を持たず、しばしばレリーフ側面角度が小さ過
ぎて、像様露光時に光重合性記録層（Ａ）内に化学線が
比較的に強く散乱する原因となっている。

公知の感光性記録材料の光重合性記録層（Ａ）に所定の
、レリーフ微細構造改善をする助剤、即ち、いわゆる感
度調整剤　（Ｓｃ＋＋ｓｉｔｏｍｅｔｒｉｓｃｈ＊ｒＲ
ｓ（ｌｅｒ）を添加することにより、これらの欠点を除
去ないし少なくとも減少させることが既に研究されてい
る。

西独特許公開公報第２Ｌ２２４Ｈ号に記載のように、光
重合性記録層（Ａ）が、レリーフ構造改善のために、均
一に分布する０、００１〜０．１重量％のアルキル残基
に１〜１２個の炭素原子を有するアルキルチオアントラ
キノンを含有するものが出現している。これらの化合物
はレリーフ構造の一定の改善をもたらすとはいえ、未だ
実地上の要請をすべて満たしている訳ではない。これら
の化合物は取り扱いに細心の注意を必要とするだけでな
く、それらの持つ固有の色のために現像の前後における
像様露光記録層（Ａ）の視覚的判定を妨害している。西
独特許公開公報第０２０５５９号に問題にされている種
類のレリーフ感光性記録材料の構造改善のために推奨さ
れている１　０．１０’　　−ビスアンスロンおよび９
−ニトロアントラセンについても同様のことが該当し、
西独特許公開公報第２７２０５６０号にこの目的のため
に提案されている９−ジアンスロニルについても該当す
る。これらの化合物は比較的に少量でレリーフ構造の一
定の改善を生じるけれども、それによりこれらの化合物
のその他の欠点が補償されはしない。さらに、レリーフ
構造改善効果はこれらの化合物を大量に使用しても強化
されず、かえって、それによりこれらの化合物のその他
の欠点がより強く現れる。

西独特許公開公報第３２４８２４７号に推奨されている
、０．０００１〜１ｔｆｉ％のフェノキサジニウム−１
７エナジニウムー、アクリジニウム−またはフェノチア
ジニウム色素とｏ、ｏｏｓ〜５重量％の、問題の色素を
励起された電子状態に還元することができるだけの、弱
い還元剤との組み合わせを使用すると明白な進歩が見ら
れる。勿論、これらの色素／還元剤−系を含有する感光
性記録材料において、不適切な操作をすると、光重合性
記録／］　（Ａ）に望ましくない光開始反応が起きるこ
とになり、記録材料の適用技術上の特性プロフィルを害
する。

既知のレリーフ構造改善方法のすべてに共通して強く着
色した化合物が使用されている。これらの強く着色され
た化合物は像様露光した感光性記録材料の光重合性記録
層（Ａ）の現像の際に一緒に洗い落とされ、使用した現
像剤を着色し、現像剤の再使用および／またはそれらの
環境適性化上の不安解消をさらに困難にする。

このため、近年、光重合性記録層（Ａ）を使用して製造
された、安定して洗浄された印刷版型またはレリーフ版
型の品質に対する印刷業界や電気業界の要求があり、こ
の要求によりレリーフ構造改善方法を引続きさらに開発
することが強いられている。

感光性記録材料を使用した像形成にレシチンを使用する
ことも公知である。米国特許第３５８５０３１号および
カナダ特許筒９４５８００号に記載のように、レシチン
（化学線感受性フォスファチド化合物）から成る層を用
いて実施される複写方法が多数出現している。これらの
複写方法はレシチン層の特性を利用して、化学線（紫外
線、β線、レントゲン線）で像様露光する際に潜像を生
じる。これらの潜像は種々の方法で現像され持続性のあ
るシングルコピーを提供し、あるいは複数コピーの製造
に適している。

化学線で像様露光することによりレシチン層に生じｔ；
潜像は、例えば加熱により、暗所に１〜７日間放置する
ことにより、または銅／塩化アンモニウム水溶液に浸漬
することにより、可視的になる。さらに、可視像は潜像
をヨウ化カリウム水溶液に浸漬することにより得られる
。レシチン層の像様露光された領域に含まれる過酸化物
（パーオキサイド）がヨウ化カリウム溶液からヨウ素を
遊離させ、明うかな可視像を生じる。

レシチン層の像様露光領域の過酸化物によりラジカル重
合性記録層に像様重合を開始させることも既に公知であ
る。この目的のために、例えばジエチレングリコール−
ジメタクリレートおよびセルロース・アセテート・スク
シネートまたはポリオールとα、β−オレフィン様不飽
和α、β−ジカルボン酸とから成るポリエステルラジカ
ル重合性記録層の上に直接に、像様露光されたレシチン
層を置いて、レシチン層の過酸化物が下に位置するラジ
カル重合性記録層においてラジカル重合を開始するよう
にしている。この重合は加熱により促進することができ
る。従って、この場合、光重合性記録層（Ａ）において
は厳密に回避されなければならない、純粋に熱的に開始
されるラジカル重合が問題とされる。というのは、さも
ないと複製品質が使用に堪えないまでに急激に劣化する
からである。

さらに、レシチン層の潜像の可視化は、像様露光したレ
シチン層をまず非極性高＠融解性ワックスで被覆加工し
、次いでワックスの融点より高い温度に加熱することに
より、行うことができる。

この加熱により潜像の像様露光領域は親水性になるのに
対して、非露光領域は疎水性または親油性になる。

融解したワックスは親水性領域から流出して疎水性親油
性領域に蓄積する。冷却後、こうしてワックスレリーフ
がレシチン層の表面に生じる。レシチン表面のこの像様
分化は逆の意味でも利用することができる。即ち、疎水
性ワックスの代わりに高温融解性の水溶性物質を使用し
、親水性領域に蓄積するようにしてもよい。このために
、例えば、ソルビット、デキストロース、ポリビニルア
セテートまたはポリビニルアルコールが挙げられる。光
重合性記録層（Ａ）におけるレシチン層の使用および作
業方法については、米国特許代３５８５０３１号もカナ
ダ特許第９４５８００号も何も引用していない。

レシチンを使用した別の複製方法が西独特許公開公報第
２１４６７７９号から公知である。この複写方法では、
化学線を用いた像様露光の際に、その物質的組成に応じ
て、露光領域が粘着性を帯びて腐食性粉末（ｉｌｘｃｎ
ｄｅ　Ｐｕ１ｖｃｒ）がこれに粘着する感光性層（陰画
ＰＩ　（ｎＢｚｔｉｖ　ｖｉｒｋｅｎｄｅ　５ｃｈｉｃ
ｂＬ）　）を使用するか、または像様露光領域において
硬化してこの層が腐食性粉末を保持せず、それにより非
露光領域が粘着性のまま残る感光層（陽画層（ｐｏｓｉ
ｔｉｖ　ｖｉｒｋ！ｎｄｔ　５ｃｂｉｃｈ１）　）を使
用してもよい。

西独特許公開公報第２目６７７９号に従えば、陽画層の
構成するために、大豆レシチン、部分的に水素化したレ
シチンまたはシリルニル−α−レシチン（膜形成剤）を
、膜形成剤の重量に対して０゜００１−２倍、特に０．
００１−０．８倍ノアシロインまたは隣接ジケトンのよ
うな光重合開始剤と組み合わせて使用することが推奨さ
れる。さらに、補助開始剤（Ｃｏｉｎｉｌｉ＊ｔ＋＋ｒ
）としての色素並びに周知慣用の可塑化剤を膜形成特性
の改善のｔ；めに共用することもできる。光重合開始剤
の含有景を膜形成剤の重量の少なくとも１倍高めること
により、陽画層が陰画層に変化する。この高感度磨を化
学線で像様露光すると腐食性粉末が露光領域または非露
光領域のいづれかに塗布され粘着する。

その後、腐食性粉末の非粘看部分を除去しすることによ
り、原像に対応した腐食性粉末の模型（Ｍｕｓ＋ｓｒ）
が作られる。この腐食性粉末またはこれに含まれる腐食
活性物質を、感光性層の下に存在する腐食性の層形状の
材料に、種々の方法で接触させ、それにより最終的にこ
の層形状の材料に、腐食（エツチング）された模型が生
じる。

この方法の一つの変法が南ア特許公開公報第７０７０３
Ｈ号に記載されており、同方法に従えば、レシチンの特
に好適な光活性剤として塩化鉄（Ｉ［［）を使用してい
る。

西独特許公開公報第２１４６７７９号も南ア特許公開公
報第７０１０３８４号もレシチンを光重合性記録Ｎ（Ａ
）においてレリーフ構造改善の目的に使用することを奨
励したものであるとの示唆を引き出せない。反対に、レ
シチンの種々多数の反応方法があること、特に過酸化物
を形成し易いこと、または化学線で像様露光した後に後
発的に変化することから、光重合注記ｅＮ　（Ａ）に使
用しても有益な技術的効果が得られず、しかも以前より
も重大な欠点が一緒にもたらされることが懸念される。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の課題は、少なくとも一種の重合体結合剤、少な
くとも一種の重合開始剤、結合剤と相溶性の少なくとも
一種の光重合性オレフィン様不飽和化合物（モノマー）
および／または重合体結合剤に側鎖基および／または末
端基として結合した光重合性オレフィン様不飽和残基、
並びに助剤から成る少なくとも一層の光！８性記録層（
Ａ）を有し、非常に微細な像要素の場合にも、原本に忠
実な良く刻印されたレリーフ構造を持つ印刷板製または
レリーフ版型の製造を許容する、新規な感光性記録材料
を提供することである。

この新規な感光性記録材料はさらに技術水準の欠点をも
はや示さないものである。特に、化学線で像様露光し現
像した後、改善されたレリーフ構造を持つ印刷版型およ
びレリーフ版型が得られるものである。

［課題を解決するための手段］ 今回、この課題は、問題となっている種類の光重合性記
録層τＡ）を少なくとも一層有する感光性記録材料であ
って、その感光性記録材料（Ａ）に以下に詳細に説明す
るようなレシチンを一種または複数種助剤として含有す
るものによって解決されることが特に見出された。

従って、本発明の対象は、（ａ□）結合剤として少なく
とも一種の重合体、 （ａ４）少なくとも一種の重合開始剤、（ａ４）重合体
結合剤（ａ４）と相溶性の少なくとも一種の光重合性オ
レフィン様不飽和化合物（モノマー）および／または重
合体結合ｉ（ａ４）に側鎖基および／または末端基とし
て結合した光重合性オレフィン様不飽和残基、並びに （ａ４）少なくとも一種の助剤 から成る少なくとも一層の光重合性記録層（Ａ）を有す
る印刷版型またはレリーフ版型の製造のための感光性記
録材料において、該光重合性記録層（Ａ）が助剤（ａ４
）として、光重合性記録層（Ａ）の重量に対して０．１
〜１０重量％の少なくとも一種または二種以上の下記一
般式（１）または（ＩＩ）のレシチン （式中、残基Ｒ′およびＲ２は、同一または相異って、
Ｃ１１−〜Ｃ１，−アルキル基またはＣＩ＋−〜Ｃ１゜
−アルケニル基を表す。ただし、残基Ｒ１またはＲ２の
少なくとも一方はＣ１１−〜Ｃ１ｍ−アルケニル基を表
す。）を含有することを特長とする、新規な感光性記録
材料である。

本明細書において、「相溶性」なる概念は一般に光重合
性記録層（Ａ）の当該成分が分子分散して、および／ま
たは濁りまたは粘りを生じることなく、分布させること
ができるとともに、経時後析出しないことを示す。

「助剤」は、本明細書では、それを使用すると、全般的
に、感光性記録材料、特に光重合性記録層（Ａ）の連用
技術上の特性の目的とする変化−通常は散着−が達成さ
れる化合物をいう。この改善は、とりわけ、これらの助
剤を含有する感光性記録層から製造されるレリーフ印刷
版　（Ｒｓｆｉｔｌ−Ｐｌｚｔｔｓ）　、凸版中１５１
１版（■ｏｃｈｄｒｎｅｋｐｌａｌｌｓ）　、フレキソ
印刷版（ＦｌｅｘｏｄｒｕｅｋｐｌａｌＬｃ）および凹
版印刷版（Ｔｉｔｌｄｒｕｃｋｐｌ！ｔｔｓ）ならびに
ホトレジスト（Ｐｈａｔｏｒｅｘｉｓｔ）において明ら
かである。

印刷版型には、例えば凸版印刷版型、７レキソ印刷版型
、オフセット印刷版型、凹版印刷版型がある。印〃１１
版型はしばしば印刷版とも呼ばれる。

レリーフ印刷版型は、例えば、像様に構成されたホトレ
ジスト層および装飾レリーフである。

少なくとも一層の光重合性記録層（Ａ）を有する、印刷
版型またはレリーフ版型を製造するための本発明に従う
新規な感光性記録材料は、以下にｒ本発明の記録材料」
と略称する。

本発明の記録材料の本質的構成要素はその新規な光重合
性記録層（Ａ）である。

（作用および発明の効果］ 本発明の新規な光重合性記録層（Ａ）の本質的構成要素
は助剤（ａ４）、即ち、レシチン（Ｉ）および（ＩＩ）
である。レシチンは、燐酸が一方゛：おいてフリンと他
方においてグリセリンとエステルを形成しているホスホ
リピッドの特別のグループである。その遊離水酸基が長
鎖脂肪酸でエステル化されるとホスファチジルコリン（
レシチン）が得られる。天然に産出するのは殆ど例外な
くレシチン（Ｉ）であり、これはα−レシチンとも呼ば
れている。これに対して、β−レシチンとも呼ばれるレ
シチン（Ｉ［）は天然物としては非常に希にしか産出し
ない。

本発明に従えば、本発明の記録材料の新規な光重合性記
録層（Ａ）には少なくとも一種のレシチン（１）または
レシチン（Ｉ［）が含有される。あるいは、新規な光重
合性記録層（Ａ）には少なくとも一種のレシチン（Ｉ）
および少なくとも一種のレシチン（ＩＩ）が含有される
。この場合、レシチン（Ｉ）および／または（ＩＩ）は
唯一の助剤（ａ４υであるか、あるいは必須のレシチン
（１）および／または（Ｉｆ）以外にさらに別の助剤（
ａ４）が共存する。

レシチンＣＩ）および／または（ｎ）が単独で使用され
るか、あるいは他の助剤（ａ４）と−緒に使用されるか
に拘わらず、新規な光重合性記録層（Ａ）に０．１〜１
０重量％の量で含有される。

この場合、新規な光重合性記ｆｉｇ’ｉｆｆ　（Ａ）の
レシチン（１）および／または（ｎ）の含有量を１０重
量％より高くすることは一般に推奨されない。その理由
は、この場合、一定の情況下で新規な光重合性記録層（
Ａ）に、その貯蔵時および／または像様露光時もしくは
像様露光後に、望ましくない副反応が起きることがある
からである。これに対して、新規な光重合性記録Ｊｌ　
（Ａ）におけるレシチン（Ｉ）および／または（ｎ）の
含有量は一般に０　、１重ｆｌ（％より低くてはならな
い。その理由は、さもないと、レシチン（Ｉ）および／
まｔ二は（Ｕ）により生じる技術的効果が実地上の要求
に十分に応じているとは限らないからである。それ故、
０．１−１０重量％の範囲で、新規な光重合性記録／Ｗ
　（Ａ）のレシチン（Ｉ）および／または（ＩＩ）含有
量がその範囲内で変化し、かつその都度、使用されｔ；
光重合性記録層（Ａ）に適合するような最適値が問題と
なる。この最適範囲内では０．５〜５重量％の範囲が好
ましい。その理由は、そのような含有量のレシチン（Ｉ
）および／または（ｆｆ）を有する新規な光重合性記録
Ｊｌ　（Ａ）は特に有利であり、優れたレリーフ構造を
持つレリー−ｙＮ（Ａ″）を与えるからである。特に好
ましい範囲は再び０．８〜４重量％の範囲である。それ
は、そのような含有ｌのレシチン（ｒ）および／または
（ｎ）から当該新規な光重合性記録層（Ａ）に特に有利
な適用技術上の特性プロフィルが生じるからである。こ
れの意味するところは、レシチン（Ｉ　）ｌよび／また
はＣＩ［）のこの含有量が、一方において材料消費の観
点から、他方においてこれにより得られる技術上の効果
の観点から優れていると評価され、従って、本発明にお
いて特に好ましい、ということである。

本発明で使用すべきレシチン（Ｉ）および／または（ｎ
）は残基Ｒ１およびＲ２を含んでいる。この場合、残基
Ｒ′およびＲ２はＣ、、＃　Ｃ、、−アルキル基、例え
ばウンデカン−１−イル、ドデカン−１−イル、トリデ
カン−１−イル、テトラデカン−１−イル、ペンタデカ
ン−１−イル、ヘキサデカン−１−イル、ヘプタデカン
−１−イルまたはオクタデカン−１−イルのような基を
表す。

或は、残基Ｒ１およびＲ１はＣ１ｌ〜Ｃ１１−アルケニ
ル基、例えば、ウンデク（Ｕｎｄｅｃ）　−２−一９−
または−１０−工ン−１−イル；　ウンデク−３，６−
−４，７−または−７，１０−ジエン−１−イル：　ド
ブクー２−　−３−−４−または−１１−エン−１−イ
ル；　ドブクー３．６−または−６，１１−ジエン−１
−イル；トリデク−２−−９−−１０−−１１−または
−１２−エン−１−イル；　　トリデク−４，７，１０
−）ツエン−１−イル；　テトラゾクー２−　−３−　
−４−−１ｌ−−１２−まｌ二は−１３−エン−１−イ
ル；　テトラゾクー４．１０−まｔ；は−５，８−ジエ
ン−１−イル；　ペンタデク−２−−３−−４−−１１
−−１２−−１３−または−１４−エン−１−イル；　
ヘキサデク−２−−３−−４−−１１−−１２−−１３
−−１４−または−１５−エン−１−イル；　ヘプタデ
ク−２−−１４−−１５−または−１６−エン−１−イ
ル；　ヘプタデク−８，１１−ジエン−１−イル：　ヘ
プタデク−８，１０，１２−または８，１１゜１４−ト
リエン−１−イル：　オクタデク−２−−１４−−１５
−−１６−または−１７−エン−１−イル；　またはオ
クタデク−６，１５−−７，１０−または−９，１１−
ジエン−１−イルのような基を表す。この場合、残基Ｒ
′およびＲ２は相異なるかまたは同じである。相異なる
場合は、少なくとも残基Ｒ１またはＲ：の一方がＣＩｌ
〜ｃｒａ−アルケニル基を表す。残基Ｒ１およびＲ：が
同じ場合は、残基Ｒ１およびＲ２の双方が常にＣ，、−
ｃ＋、−アルケニル基のグループの二つの同等の基を問
題としている。これは、本発明で使用すべきレシチン（
Ｉ）および／または（Ｉ［）は常に一つのオレフィン様
不飽和残基Ｒ１またはＲ２あるいは二つのオレフィン様
不飽和残基Ｒ１およびＲ１を含有していることを意味す
る。

上記残基Ｒ１およびＲ２の内、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノー
ル酸およびリルン酸から導かれるウンデカン−１−イル
、トリデカン−１−イル、ペンタデカン−１−イル、ヘ
プタデカン−１−イル、シス−ヘプタデク−８−エン−
１−イル、ヘプタデク−８，１１−ジエン−１−イルお
よびヘプタデク−１８，１１，１４−トリエン−１−イ
ルが特に有利である。これらの基を有するレシチン（Ｉ
）および／または（Ｉ［）は従って本発明では特に好ま
しい。最も好ましいのは、対応する天然も産出するレシ
チンＣＩ）である。その理由は、これらは残基Ｒ１およ
び／またはＲ２を最も有利な組み合わせで含んでいるか
らである。これらの天然レシチン（Ｉ）の内では、大豆
レシチンが優れている。それは本発明の記録材料の新規
な光重合性記ａＦＪ　（Ａ）において最も有利な技術的
効果を奏するからである。

この新規な光重合性記録層（Ａ）は、総量の１０〜９９
重量％、好ましくは２５〜９５重量％、特に３０〜９０
１ｉ量％の一種または二種以上の重合体を結合剤（ａ１
）として含有しており、この使用目的に対しては、現像
溶媒に溶解性まＩ；は膨潤性であり、光重合性記録層（
Ａ）の他の成分と混合でき、これと相溶性であるすべて
の重合体を考慮に入る。好適な重合体または結合剤（ａ
４）の例は、ポリアミド、コポリアミド、ポリエステル
、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリアルカジ
エン、ビニル方香ｔ　（Ｖｉｎｙｌ！ｒｏｍｘｔ）　／
アルカジエンー共重合体および一ブロック共重合体（Ｂ
Ｉｏｃｋｍｉｓｅｈｐｏｌｙｍｃｒｉｓ＆ｔ＊）　、ア
ルカジエン／アクリロニトリル共重合体、ブチルゴム、
アクリレートゴム、ポリクロロプレン、フッ素ゴム、ポ
リスルフィドゴム、シリコーンゴム、エチレン／フロピ
レンゴム、エチレン／プロピレン／アルカジエンゴム、
クロルスルフォン化ポリエチレン、エチレン／（メト）
アクリレート共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体
、エチレン／（メト）アクリル酸共重合体、および（メ
ト）アクリル酸／（メト）アクリレート共重合体である
。

これらの結合剤（ａ　４）として適した重合体は公知の
化合物であり、重合体化学の公知慣用方法により製造さ
れる。

特に有利な結合剤（ａ１）はポリアミド、コポリアミド
、ポリビニルアルコール、ポリアルカジエン、ビニル芳
香族／アルカジエン−共重合体およびブロック共重合体
、アルカジエン／アクリロニトリル共重合体、エチレン
／プロピレン／アルカジエンゴムおよびエチレン／（メ
ト）アクリル酸共重合体の重合体類から由来するか、あ
るいはこのグループから使用に対して選択される。

ポリアミドおよびコポリアミドの重合体類からの特に有
利な結合剤（ａ１）の例は、公知の方法で二官能性カル
ボン酸およびジアミンから、またはω−アミノ酸、ラク
タムもしくはこれらの化合物の適当な誘導体から製造さ
れる線状ホモ−およびコポリアミド、例えば、ナイロン
３．４．５．６　、　　８　、　　１１，１２　　、　
　　ｌ　　３　、　　６　、６　、　　６　、１　０　
ま　には６，１３；　　メタキシリレンジアミンおよび
アジピン酸、またはトリメチル−ヘキサメチレンジアミ
ンもしくはインホロンジアミンおよびアジピン酸から成
るポリアミド；　ナイロン６／６，６．６／６，６．／
６，１０または６／６．６／６．１０／６．１２．　　
ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／４，４−ジアミノジシクロヘキシルメタンまたは
ε−カブロカクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／ポリエチレングリコールジアミン；　これらすべ
てのホモ−およびコポリアミドのＮ−メチロール−また
はＮ−アルコキシメチル誘導体；　または光重合性オレ
フィン様不飽和基（Ｒ１）を含有する上記の８ｉ類のホ
モ−およびコポリアミドである。

ポリビニルアルコールの重合体類からの特に有利な結合
剤（ａ１）の例は、水に溶解性または分散性のポリビニ
ルアルコールであって、分子鎖中に１−ヒドロキシエチ
リデン−１，２−ｆｆ復単位−ＣＨ，−ＣＨ− Ｈ を有し、数平均分子Ｍ　Ｍ　ｎが１０４〜１０６、特に
１．５・１０４〜５・１０’であるもの、例えば、加水
分鮮度６０〜１００％、好ましくは、７０〜９９％、特
に７５〜９５％の部分的にまたはほぼ完全に加水分解さ
れたポリビニルアセテートもしくはポリビニルプロピオ
ネートである。特に有利なのは、部分的またはほぼ完全
に加水分解されたビニルアルコール−アルカンカルボン
酸エステル／アルキレンオキシド−グラフト共重合体（
ａ工）であり、特に、ビニルアセテートまたはビニルプ
ロピオネートをポリエチレンオキシドにグラフトし、次
いで加水分解することにより得られ、かつ、それぞれグ
ラフト共重合体（ａ４）に対して、１０〜３０重量％の
１−才キサブ口ビリデン−１゜３−単位 −Ｏ−ＣＨ２ＣＨ！　− ０〜３０重量％の１−アセチルエチリデン−１゜２−単
位 −（、Ｈ，−ＣＨ− ０−Ｃ−ＣＨ。

匿 および、９０〜４０重量％の１−ヒドロキシエチリデン
−１，２−単位、 から成るものである。

これらのポリビニルアルコール（ａ１）は、ポリビニル
アルコールに始めに存在する水酸基に対して、０．１な
いし１０モル％、好ましくは０．５〜８モル％、特に１
〜６モル％の公知慣用のポリマーアナログ置換により導
入された側鎖であるアルケンカルボン酸エステル残基（
例えばアクリル、メタクリル−またはマレイン酸エステ
ル残基）；アルケンカルボニルアミノ−Ｎ−メチレンエ
ーテル残基（例えばアクリル−またはメタクリルアミド
−Ｎ−メチレンエーテル残基）；（−光重合性オレフィ
ン様不飽和残基（ａ４））を含有していてもよい。これ
らの光重合性オレフィン様不飽和残基（ａ４）は他の結
合剤（ａ１）に含まれていてもよい。

アルカジエンの重合体類から成る結合剤（ａ１）の特に
有利な例は、天然ゴム、ブタジェンもしくはイソプレン
の単独重合体、ブタジェン／イソプレンきょうまたは光
重合性オレフィン様不飽和残基（ａ４）を有する対応す
る重合体である。

ビニル芳香族／アルカジエン共重合体の重合体類から成
る特に有利な結合剤（ａ４）の例は、重合された単量体
（モノマー）が統計的分布をしており、重合されたスチ
レンの含有量が好ましくは１０〜５０を量％であるスチ
レンおよびブタジェンおよび／またはイソプレンから成
る共重合体、あるいは光重合性オレフィン様不飽和残基
（ａ４）を有する対応する共重合体である。

ビニル芳香族／アルカジエン−ブロック共重合体の重合
体類から成る結合剤（ａ１）のとくに有利な例は、少な
くとも一種のエラストマージエン重合体ブロックＸと、
少なくとも一種の熱可塑性ビニル芳香族重合体ブロック
Ｙとを含み、両方のブロックＸ８よびＹが一般に炭素−
炭素結合を介して相互に化学的に結合しているものであ
る。与えられたブロック共重合体においてブロックＸと
ブロックＹの結合は、共役ジエンとビニル芳香族が重合
される統計的共重合体または交互共重合体によっても得
られる。あるいは、ブロックＸおよびＹの結合は共役ジ
エンとビニル芳香族から成る共を金体であって、重合さ
れた共役ジエンの濃度がブロックＸからブロックＹに向
けて減少し、重合されたビニル芳香族の濃度が増加する
共重合体を使用して得られる。

さらに、適当な多価原子またはイオン並びに無機、有機
または有機合成分子残基を介してブロック共重合体をよ
り大きいブロック共重合体結合体に結合することもでき
る。この場合、結合は二つの分子残基の間の共有結合ま
たはイオン結合の形成を意味する。

また、ジエン霊合体ブロックＸ８よびＹのオレフィン性
および芳香性結合またはオレフィン性結合のみを部分的
にまたは完全に水素化することもできる。そのうえ、ブ
ロックＸおよびＹは別の単量体（これは共役ジエンやビ
ニル芳香族である必要はない）例えばアクリロニトリル
、アクリル酸、無水マとイン酸、（メト）アクリル酸ア
ミドまたは（メト）アクリル酸エステルを重合させて含
めることができる。この場合、そのブロック共重合体に
おける含有量は一般に１０重量％を越えない。

その場合、ブロックＸはビニル芳香族を重合して含んで
いてもよく、その量はブロックＸのエラストマー特性が
害されないように選ばれる。さらに、ブロック共重合体
は光重合性残基（ａ４）を含んでいてもよい。

ブロック共重合体が二個以上のエラストマーブロックＸ
および／または二個以上の熱可盟性ブロックＹを含むば
あいは、ブロックＸまたはＹはそれぞれ化学的に同等も
しくは近似的に等しくなければならない訳ではなく、必
要とされるエラストマーまたは熱可塑性オレフィン様不
飽和特性を持つ限り、それぞれ明らかに相異していても
よい。

一般に、ブロックＸはガラス転移点Ｔｇが２０℃未満、
好ましくは０℃未満、特に−１５℃未満である。これら
のブロックは一般に平均分子量が１０”〜２・１０’で
ある。一般に、これらは重合された共役ジエンを各ブロ
ックＸに対して３０〜１００重１％、好ましくは３０〜
９５を量％含有している。。

ブロックＹは一般にガラス転移点Ｔｇが２０℃より高い
。これらは一般に平均分子量が１．５・１０３〜２・１
０６、好ましくは５・１０３〜１．５・１０＠、特に１
０４〜１．２・１０’である。これらは一般に重合され
たビニル芳香族を各ブロックＹに対して３０〜１００重
量％、特に４０〜９０重量％含有している。

共役ジエンの有利な例は、ブタジェン、イソプレン、ペ
ンタン−１，３−ジエン、２．３−’；メチルブタジェ
ンまたはヘキサン−２，４−ジエンであり、ブタジェン
および／またはイソプレンが好ましい。

ビニル芳香族の有利な例は、スチレン、α−メチルスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−１ｅｒｔ。

−ブチルスチレンまたは１−ビニルナフタリンであり、
スチレンが好ましい。

特に有利なブロック共重合体の例としては、熱可塑性円
ラストマー三元ブロック共重合体Ｙ−Ｘ−ｘ′が挙げら
れる。この場合、Ｙは熱可塑性の非弾性スチレン重合体
ブロックを表し、Ｘはエラストマーブタジｎンーおよび
／またはイソプレン重合体ブロックを表し、Ｘ′はＸと
は異なる重合されたブタジェンおよび／またはイソプレ
ン並びに場合によって重合されたスチレンから成るエラ
ストマー重合体ブロックを表す。

特に有利なブロック共重合体の別の例としては、Ｘ−Ｙ
−Ｘ−Ｙ、Ｙ−Ｘ−Ｘ’　−ＹまにはＹ−Ｘ−Ｙ−Ｘの
ような四元ブロック共重合体が挙げられる。

ｒＥＰＤＭゴム」とも呼ばれるエチレン／プロピレン／
アルカジエンゴムの重合体類から成る特に有利な結合剤
（ａ４）の例は、 エチレンープロピレンージシクロペンタジェンーエチレ
ンープロピレンーエチリデンノルポルネンーエチレン−
７０ピレン−ｔｒ為ａｓ−ヘキサ−１，４−ンエ／− エチレンープロピレンージシクロペンタジェンーエチリ
デンノルポルネンー エチレン−プロピレン−ジシクロペンタジェン−ｔｒａ
ｆｌｓ−へ、キサ−１，４−ジエン−エチレン−プロピ
レン−エチリデンノルボルネン−（ｒｘｎｓ−ヘキサ−
１，４−ジエン−またはエチレンープロピレンーエチリ
デンノルポルネンージシクロペンタジエン−ｔｚｎｓ−
ヘキサ−１，４−ジエン三元共重合体（ａ４） であって、４０〜８６ｉｉ％のエチレンと、二重結合金
量が炭素原子ＩＱＯＯ＠当たりオレフィン様二重結合が
２〜２０個であるような量のアルカジエンが重合されて
含まれているもの、または上記の種類のＥＰＤＭ−ゴム
で光重合性残基（ａ４）を有するものがある。

エチレン／（メト）アクリル酸共重合体の重合体類の特
に有利な結合剤（ａ１）の例は、ａ＋＋）　　エチレン
、 ａｄｚ）　　アクリル酸および／またはメタクリル酸ａ
１３）　　ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミド
およびメタクリル酸アミド から成り、それらの重量比が、重量部で表示して、以下
の条件を満たす単量体混合物の共重合により得られるも
のである。

（ａｚ）−Ｆ　　（ａｄｚ）　　＋　　（ａｄｚ）　　
−１００％３０≦　（ａ、４）　　≦７０゜ ５≦（ａｄｚ）＜ｓｏ−および ５≦　（ａ、３）　　≦４０ それらの製造は、例えばＬＤＰＥ　（低密度ポリエチレ
ン）−高圧重合法に従って、２ｏｏ〜４゜ＯｏＣの温度
で８００　ｋ　ｇ　／　Ｃｍ　”より高い圧力下で行う
ことができる［例えば、西独特許公報第２３４１４０号
および米国特許公報第０６４２８号参照〕。

コモノマー（ａ、４）として適しているビニルエステル
は、この場合、特に、一般式（Ｉ［［）％式％（） （式中　Ｒ３はＣ３〜Ｃｌ０−アルキル基またはシクロ
アルキル基を表す。）で表されるもの、例えば酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニルま
たはヘキサンカルボン酸ビニルがあり、酢酸ビニルが好
ましい。

コモノマ−（ａ　、４）として適しているビニルエ−チ
ルは、この場合、特に、一般式（ｒＶ）ＣＨ，−ＣＨ−
０Ｒ”　　　　（ＩＶ）（式中、Ｒ３は上記と同じ意味
をもつ。）で表されるものであり、例えば、ビニルエチ
ルエーテル、ビニル−１−プロピルエーテル、ビニル−
２−プロピルエーテル、ビニル−１−ブチルエーテル、
ビニル−２−ブチルエーテルまたはビニル−１−ペンチ
ルエーテルがある。好ましいのはビニル−１−ブチルエ
ーテルである。

コモノマー（ａ、Ｓ）として適しているアクリル酸エス
テル、メタクリル酸エステル、アクリル酸アミドおよび
メタクリル酸アミドは、この場合、特に、一般式（Ｖ） Ｒ’　　　　　０ 暫 ＣＨ！　＝　Ｃ−−−Ｃ−Ｑ　−Ｒ４（’／　）（式中
１．Ｒｓはメチル基または水素原子を表し、Ｒ３はＣ１
〜Ｃ１６−アルキル基もしくはシクロアルキル基または
ω−メチル−ポリ（アルキレンオキシド）−α−オキシ
基を表し、Ｑは酸素原子またはＮＲ＠基を表す。Ｒｓは
水素原子またはＣｌ−Ｃ４−アルキル基を表す。）で表
されるものがある。

好適なアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ア
クリル酸アミドおよびメタクリル酸アミドの例は、メタ
クリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
ト、エチルメタクルレート、プロピルアクリレート、プ
ロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−
ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ
−ペンチルメタクリレート、ｎ−へキシルアクリレート
、ｎ−へキシルメタクリレート、ｊｅｒｋ、−ブチルア
クリレート、シクロへキシルアクリレート、シクロへキ
シルメタクリレート、２−エチルへキシルアクリレート
、２−エチルへキシルメタクリレート、ジシクロペンク
ンジェニルアクリレート、ω−メチル−ポリ（エチレン
オキシド）−α−イル−（メト）アクリレート、ω−メ
チル−ポリ（プロピレン−１，２−オキシド）−α−イ
ル−（メト）アクリレート、ω−メチル−ポリ（プロピ
レン−１，３−オキシド）−σ−イルー（メト）アクリ
ミドまたはＮ−エチル−Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
アクリルアミドである。好ましいのは、ｎ−ブチルアク
リレート、２−エチルへキシルアクリレート、。−メチ
ル−ポリ（エチレンオキシド）−σ−イルーアクリレー
トおよびジシクロペンタジェニルアクリレートであり、
その内、最初の三つが特に好ましい。

最も好ましい共重合体の例は、ｎ−ブチルアクリレート
、２−エチルへキシルアクリレートおよび／またはω−
メチル−ポリ（エチレンオキシド）−α−イル−アルリ
レートをコモノマーとして重合して含むエチレン／（メ
ト）アクリル酸共重合体である。

これらの共重合体はさらに下記一般式（Ｖ１）で表され
る光重合性残基（ａ４）を含む。

Ｒｓ −ＣＨ２−ＣＨＣＨ２−Ｔ　−Ｃ−ＣＨ２（Ｖｌ　）（
式中、Ｕは水酸基、アミノ基またはチオール基を表し、
Ｔはエステル基、アミン基、エーテル基または０１〜Ｃ
，。−アルカンジイル基を表し、Ｒｓは水素原子または
メチル基を表す。） 光重合性オレフィン様不飽和残基（ａ４）の好適な例は
、２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−オキサヘプト−６
−エン−１−イルー基、２−アミノ−５−オキソ−４−
オキサヘプト−６−エン−１−イル基、２−チオ−ロー
５−オキソ−４−オキサヘプト−６−エン−１−イル基
、２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−オキサ−６−メチ
ルヘブトー６−エンー１−イル基、２−アミノ−５−オ
キソ−４−オキサ−６−メチルヘブトー６−エンー１−
イル基、２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−アザヘプト
−６−エン−１−イル基、２−アミノ−５−オキソ−４
−アザヘプト−６−エン−１−イル基、２−チオ−ロー
５−オキソ−５−アザヘプト−６−３ンー１−イル基、
２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−アザ−６−メチルヘ
グトー６−エンー１−イル基、２−ヒドロキシ−５，１
０−ジオキソー４．９−ジオキサ−６−アザ−１１−メ
チルドデクー１１−工ンー１−イル基、２−アミノ−５
−オキソ−４−アザ−６−メチルヘブトー６−エンー１
−イル基、２−チオ−ロー５−オキサ−４−アザ−６−
メチルヘブトー６−エンー１−イル基、２−ヒドロキシ
−４−オキサヘクス−５−エン−１−イル基、２−アミ
ノ−４−オキサヘクス−５−エン−１−イル基、２−チ
オ−ロー４−オキサヘクス−５−エン−１−イル基、２
−ヒドロキシへラス−５−エン−１−イル基、２−アミ
ノヘクス−５−エン−１−イル基、２−チオーロへケス
−５−二ンー１−イル基、２−ヒドロキシヘプト−６−
エン−１−イル基、２−アミノヘプト−６−エン−１−
イル基または２−チオーロヘプトー６−工ンー１−イル
基である。

好ましいのは、２−ヒドロキシ−５−オキソ−４−オキ
サ−６−メチルヘブトー６−エン−１−イル基（■）で
ある。

−ＣＨ！　−ＣＨ−ＣＨ！　−０−Ｃ−Ｃ−ＣＨ！蓋 ＯＨＯＣＨ３（■） 上記光重合性オレフィン様不飽和残基（ａ４）は他の結
合剤（ａ１）中に存在していてもよい。

さらに、上記共重合体は光重合性オレフィン様不飽和残
基（ａ４）に追加しであるいはこの側鎖の代わりに、一
般式（■） −ＣＨｆｆ−ＣＨ−Ｒ’ Ｕ　　　　　　　　　　　（■） （式中、Ｒ７は極性基、水素原子または別のＵの基を表
す。）の基を含んでいてもよい。

極性基は、双極子−双極子変換作用、双極子−イオン変
換作用またはイオン−イオン変換作用が可能な基をいう
。

一般式（■）の好適な例は、２−ヒドロキシエ）−１−
イル基、２−アミノエト−１−イル基、２−チオーロエ
トー１−イル基、２．３−ジヒドロキシプロプ−１−イ
ル基、２−アミノ−３−ヒドロキシプロプ−１−イル基
、２−チオ−ロー３−ヒドロキシプロプ−１−イル基ま
たは２−ヒドロキシ−２−〔ω−アルキル−ポリ（エチ
レンオキシド）−１−イル］−エトー１−イル基である
。

新規な光重合性記録層（Ａ）は総領に対して０．００１
〜１０：ｉｔ量％、好ましくは０．１−７重量％、さら
に好ましくは０．２〜５重量％、特に０．３〜４重量％
の一種または二種以上の光重合開始剤（ａりを含有して
おり、この量は一緒に使用される成分（ａ４）と−緒に
決定される。

光重合開始剤（ａ４）の好適な例は、ベンゾインまたは
ベンゾイン誘導体、例えばそのメチル−インプロとルー
　ｎ−ブチル−またはイソブチルエーテル；　対象もし
くは非対象置換ベンジルアセクール、例えばベンジルジ
メチルアセタール、ベンジル−１−メチル−１−二チル
アセタール；アルリルホスフインオキシド、例えば２−
ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
２．４．６−４）リメチルペンゾイルジフェニルホスフ
ィンオキシド、２，４．６−ドリメチルベンゾイルフエ
ニルホスフイン ４、６−）リメチルベンゾイルフェニルホスフイン酸ナ
トリウム塩；　あるいは、置換または非置換キノン、例
えばエチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、ベ
ンゾフェノンまたハ４　、　４　’ービスー（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノンである。これらは単独または相
互に混合して、あるいは補助開始剤と組み合わせて使用
することができる。例えば、エチルアントラキノンと４
，４″　−ビス−（ジメチルアミノ）へンゾフェノン、
ベンゾインメチルエーテルとトリフェニルホスフィン、
ジアシルホスフィンオキシトと第三アミンまたはアシル
アリールホスフィンオキシトとベンジルジメチルアゾタ
ールの組み合わせが使用できる。

新規な光１Ｌ合性記録層（Ａ）は光重合性オレフィン様
不飽和成分（ａ，）を含む。この場合、結合剤（ａ．）
と相溶性の光重合性オレフィン様不飽和化合物（モノマ
ー）（ａ＝）または上記の重合体結合剤（ａ１）のとこ
ろで説明した、重合体結合剤（ａ１）と側鎖基または末
端基として結合している光重合性オレフィン様不飽和残
基（ａ１）が問題となる。

モノマー（ａ４）と光重合性オレフィン様不飽和残基（
ａ４）はともに−緒に新規な記ｆｉＦ！！（Ａ）にあり
、その量比は広い範囲で変えられる。それらは−緒に新
規な光重合性記録層（Ａ）において、総量に対して０．
５〜６０重量％、好ましくは２〜３０重量％、特に２〜
１５ｆｔ％含まれている。

それにも拘わらず、新規な光重合性記録層（Ａ）におい
て、モノマー（ａ４）のみか、あるいは光重合性オレフ
ィン様不飽和残基（ａ４）のみを存在させることもでき
る。新規な光重合性記録層（Ａ）が光重合性オレフィン
様不飽和残基（ａ４）のみを含む場合、その量は新規な
光重合性記録層（Ａ）のＯ，Ｓ〜６０重二％、好ましく
は２〜３０重量％、特に２〜１５１Ｌ量％である。

新規な光重合性記録層（Ａ）がモノマーのみを含む場合
、その量はその量は新規な光重合性記録ＦＪ　（Ａ）の
０．５〜６０重量％、好ましくは２〜３０重量％、特に
２〜１５重量％である。

好適なモノマー（ａ４）は一般に大気圧下で１００°Ｃ
の沸点を持ち、分子量は３０００以下、特に２０００以
下である。一般に、好適なモノマー（ａ４）では、アク
リルａｈよびメタクリル酸のエステル、スチレンおよび
その誘導体、７マール酸およびマレイン酸のエステル、
ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリルアミドおよ
びメタクリルアミドおよびアリル化合物が問題となる。

それらが使用可能であるとの前提は、請求項の結合剤（
ａ１）との相溶性の条件を満たすことにある。

特に有利な効果が得られる特に好適なモノマー（ａ４）
の例は、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、
２−エチルへキシルアクリレート、ラウリル（メト）ア
クリレート、エチレングリコールジ（メト）アクリレー
ト、ブタンジオール−１，４−ジ（メト）アクリレート
、ネオペンチルグリコールジ（メト）アクリレート、３
−メチルペンタンジオールジ（メト）アクリレート、２
−ヒドキシゾロピル（メト）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メト）アクリレート、１，６−ヘキサンシ
オールジ（メト）アクリレート、１゜１．１−）リメチ
ロールプロパントリ（メト）ア、クリレート、ジー　ト
リーおよびテトラエチレングリコールジ（メト）アクリ
レート、トリプロピレングリコールジ（メト）アクリレ
ートまたはペンタエリスリトチトラ（メト）アクリレー
ト、ポリ（エチレンオキシド）ジ（メト）アクリレート
、ω−メチル−ポリ（エチレンオキシド）−α−イル−
（メト）アクリレ−）、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノエチル
アクリレート、１モルのグリセリン、１モルのエピクロ
ルヒドリンおよび３モルのアクリル酸の反応生成物、イ
ンボルニルアクリレート、インボルニルメタクリレート
、ジヒドロジシクロペンタジェニルメクリレート、ジヒ
ドロジシクロペンタジェニルメタクリレート、ヘキス−
１−エン−６−イルアクリレート、ヘキス−１−エン−
６−イルメタクリレート、ジヒドロキシリモネンジアク
リレート、ジヒドロキシリモネンジメタクリレート、ジ
シクロペンチルデジエチレンジアクリレート、ジシクロ
ペンチルジメチレンジメタクリレート、チオジエチレン
グリコールジアクリレート、チオジエチレングリコール
ジメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメ
タクリレート、ドデカンジオールジアクリレート、ドデ
カンジオールジメタクリレート、フマール酸ジブチルエ
ステル、フマール酸ジーｎ−オクチルエステル、ジビニ
ルペンゾール、ビニルオレエート、オクタデシルビニル
エーテル、ブタンジオール−１，４−’；ヒニルエーテ
ル、ジアリルフタレートまたはイタコン酸ビスアリルエ
ステルである。

新規な光重合注記ｆｉＦ！　（Ａ）は本発明に必須のレ
シチン（Ｉ）および／または（■）（−助剤ａ　４１）
の外に、本発明の記録材料の新規な層（Ａ）の適用技術
特性プロフィルおよびそれから製造される印刷版型およ
びレリーフ版型を変化させることができる一独または二
種以上の別の助剤（ａ４）を含んでいてもよい。

ここでまず問題となるのは、柔軟剤、熱開始重合の阻害
剤、色素、顔料、ホトクローム（ｐｈｏｔｏ−ｃｈｒａ
ｍｔ）添加剤、レリーフ構造改善剤、架イ１１助剤、酸
化防止剤、オゾン化防止剤（Ａｎｔ　１ｏｔｏｆｉａ＋
Ｉ　ｉＣ＋＋）、充填材、融剤（Ｆｌｕ１３＋ｎ１ｌｔ
ｅ１）または版型分離剤（ＦｏｒｍｔｒｅｎｎｍｉＮｅ
１）が問題となる。これらの場合によって存在する他の
助剤（ａ４）の量は、本発明のレシチンＣＩ）および／
または（■）（助剤ａ、１）を加算して、一般に新規な
光重合注記＠暦の４０重量％を越えてはならない。

柔軟剤の例は、修飾または非修飾天然油および天然樹脂
、例えばパラフィン油またはナフテン油並びに石油樹脂
、水素化コロフオニウムのペンタエリスリトールエステ
ル；酸、例えばクエン酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、
エチル酪酸、エチルヘキサン酸、グリコール酸、安息香
酸、７タル酸、トリメリット酸、アビエチン酸、燐酸ま
たはステアリン酸のアルキル−、アルケニル−アリール
アルキル−またはアリールアルケニルアルコールエステ
ル；　合成オリゴマーまたは樹脂、例えばオリゴスチレ
ン、オリゴマースチレン−ブタジェン−共重合体、オリ
ゴ−σ−メチルスチレン、オリゴマークーメチルスチレ
ン／ｐ−メチルスチレン−共重合体、液状１．２−もし
くは１．４−オリゴブタジェン、オリゴペンタジェン、
液状オリゴマーアクリロニトリル−ブタジェン−共重合
体、公知のポリ（オクテニレン）から成るマクロ環状化
合物が含まれる分子量が１０１〜１．２・１０’のポリ
オクテナマー（Ｐｏｌｙｏｃｔｅ＋＋ｘｍｃｒｅ）　；
　　ポリテルペン−ポリアクリレート−ポリエステル−
またはポリウレタン樹脂、合成ポリマー、例えばポリエ
チレンまたはエチレン／プロピレン／ジエンゴム；　ω
−メチル−オリゴ（エチレンオキ・ンド）；　まにはス
ルフォンアミドがある。新規な光重合性記録Ｆｌ　（Ａ
）に対して１〜２５重量％の量が有利である。

熱開始重合の阻害剤は一般に新規な光重合性記録ＮＪ（
Ａ）に対して０．００１〜２重量％の量で添加される。

上記阻害剤は、光重合開始剤（ａりが吸収する化学線領
域では言うに値する固有吸収を示さない。阻害剤の例は
、ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−シ
ーｔｅｒｔ、−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナフトー
ル、フェノチアジン、ピリジン、ニトロペンゾール、ｍ
−ジニトロペンゾールまたはクロラニル：　チアジン色
素、例えばチオニンブルーＧ　（Ｃ，１，ＮＧｔ５）　
、メチレンブルーＢ　（Ｃ，１，５２０１５）またはト
ルイジンブルー（Ｃ，１，５２Ｑ４０）　　；　　また
はＮ−ニトロサミン、例えばＮ−ニトロンジフェニルア
ミン、もしくはその塩、例えばカリウム塩、カルシウム
塩、アルミニウム塩、Ｎ−ニトロンシクロへキシルヒド
ロキシルアミンである。

新規な光重合性記録層（Ａ）の色素、顔料またはホトク
ローム添加剤は新規な光重合性記録層（Ａ）に対して０
．００１〜２重量％の量で添加される。それらは露光特
性の制御、確認、露光結果の直接コントロールまたは美
的目的のために役立つ。そのような添加剤の選択と量の
前提は、熱開始重合の阻害剤と全く同様に、それらが光
重合を妨害しないことである。適しているのは、例えば
溶解性の７工ナジニウム色素、フェノキサジニウム色素
、アクリジニウム色素およびフェノチアジニウム色素で
ある。これらの色素は、化学線の不存在下では色素を還
元しないが露光時に色素を励起された電子状態に還元す
ることができる還元剤の十分量とともに使用されること
もある。そのような穏やかな還元剤の例は、アスコルビ
ン酸、アネトール、チオ尿素（例えば、ジエチルアリル
チオ尿素、特にＮ−アリルチオ尿素）並びにヒドロキシ
ルアミン誘導体、特に、Ｎ−ニトロンシクロへキシルヒ
ドロキシルアミンの塩、好ましくはカリウム塩、カルシ
ウム塩およびアルミニラ塩である。最後のものは、上述
のように、同時に熱開始重合の阻害剤として働くことが
できる。還元剤は、一般に、新規な光重合性記録層（Ａ
）に対してｏ、ｏｏｓ〜５重量％の量で添加される。多
くの場合、−緒に使用した色；ズの３〜１０倍量が有効
である。

架橋助剤の例は公知慣用の三価および四価のチオール化
合物である。

酸化防止剤の例は、立体障害モノフェノール、例えば２
，６−ジ−１ｅｒＬ、−ブチル−ｐ−クレゾール；　ア
ルキル化チオビスフェノールおよびアルキリデンビスフ
ェノール、例えば２，２−メチレン−ビス−（４−メチ
ル−ｓ　−ｔｅｒｔ、−ブチルフェノール）または２．
２−ビス−（１−ヒドロキシ−４−メチル−６−ｔｓｒ
Ｌ、−ブチルフェニル）スルフィド；　ヒドロキシベン
ジル、例えば１．３．５−トリメチル−２，４，６−ド
リスー（３，５−ジー　１ｅｒｔ、　−フチルー４−ヒ
ドロキシベンジル）ペンゾール；　トリアジン、例えば
２−（４−ヒドロキシ−３，５−ｔｅｒｔ、ブチルアニ
リノ）−４，６−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−１，３
，５−トリアジン；　重合されたトリメチルジヒドロキ
ノン；　ブチルジチオカルバミド酸亜鉛；　ジラウリル
チオジグロピオネート：　またはホスファイト、例えば
トリス（ノニルフェニル）フォスファイトである。新規
な光重合性記録層（Ａ）に対して０．０００１〜５重量
％の量が有利である。

分子分散により混合できない、重合体もしくは非重合体
の有機および無機充填材、補強充填材の例は、本発明の
混合物の露光に使用する光の波長に対して本質的に透過
性でこれを散乱させず、かつその屈折率において当該混
合物に著しく適合しているようなものであり、例えば、
ポリスチレン、親有磯性二酸化ケイ素、ベントナイト、
ケイ酸、エロシル（Ａｔｒｏｓｉｌ、登録商標）、親有
機性酸化アルミニウム、ガラス粉末、コロイド状炭素並
びに種々の色素および顔料である。これらの助剤は、本
発明の記録材料を所望の特性に変える量で使用される。

充填材の利点は、新規な光重合性記録層（Ａ）８よびこ
れから製造されるレリーフＮＣｋ’　）の強度並びにそ
れらの摩擦強度を向上し、それらの粘着性を減少させ、
この情況の下では色彩付与手段として作用することであ
る。

融剤の例はステアリン酸カルシウムである。

版型分離剤の例は滑石（Ｔａｌｋｎｍ）である。

オゾン化防止剤の例は、公知慣用のオゾン保護ワックス
並びに炭素数が８〜４０個で分子中の塩素が３０〜７３
重量％のクロルアルカン（クロルパラフィン）である。

新規な光重合性記録７’ｌ　（Ａ）の厚さは、まず、本
発明の記録材料の使用目的に従って調節する。

従って、厚さは一般に０．０．０１〜７　ｍ　ｍ　ｓ好
ましくは０．１−７ｍｍ、特に０．７〜６．５ｍｍの範
囲内で変えられる。その理由は、この厚さの新規な光重
合性記録層（Ａ）を持つ本発明の記録材料から製造した
印刷版型およびレリーフ版型が多数の印刷技術並びにホ
トレジスト技術に適しているからである。

新規な光重合性記ｅｌＤ　（Ａ）の外に本発明の記録材
料はその機能に有益な別の層を含んでいてもよい。

従って、新規な光重合性記録層（Ａ）は寸法安定性の支
持体（Ｂ）を堅固にまたは容易に分離可能に結合してい
てもよい。寸法安定な支持体（Ｂ）はさらに弱弾性下層
をその下に設けてもよい。さらに、支持体（Ｂ）と新規
な層（Ａ）との間の堅固な結合は接着ＦＪ　（Ｈａｆｔ
ｓｃｂｉｃｈＬ、　ＨＳ　）により達成できる。支持体
（Ｂ）が新規な】（Ａ）と容易に分離可能に結合されて
いる場合は、仮支持体層（Ｂ）とも呼ばれる。

寸法安定な支持体（Ｂ）としては、金屑、例えば鋼、ア
ルミニウム、銅またはニッケルあるいは合成物質、例え
ばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリアミドまたはポリカーボネートから成る版
、フィルムまたは円錐形もしくは円筒形の管（スリーブ
）を使用できる。　そのほかに、織物または繊維層、例
えばガラス繊ｍ織物または組み合わせ材料、例えばガラ
ス繊維とポリエチレンテレフタレートのような合成物質
から成るものが問題となる。そのほかに、支持体（Ｂ）
として従来プリント回路盤（Ｌｅｉｔｅｒ−ｐｌｉＬｔ
ｅ）の製造に使用されている版が挙げられる。

接着ＮＪ（ＨＳ）としては、公知慣用の約０．５〜４０
μｍの厚さの接着フェス層を使用する。

支持体（Ｂ）として強く反射する版またはフィルムを使
用するときは、適当な光源防止剤Ｑｉｃｈｔ−ｈｏｒｓ
ｅｈｕｔｚｍｉＬＬｅ１）　（ハレーション防止剤）、
例えばカーボンブラックまたは二酸化マンガンを含有し
ていてもよい。ハレーション防止剤は、別の層として支
持体（Ｂ）上に塗布してもよく、あるいは接ｆｆ：：！
Ｊ（ＨＳ）まｆ：　ハ新Ｍ、　ｆｔ　ｍ　（Ａ　）　ｌ
：　含有すせでもよい。　本発明の記録材料は光透過性
の、新規な光重合性記録層（Ａ）に対する現像溶媒に溶
解性または膨潤性の、平滑なもしくけマット化された、
非粘着性の被覆Ｎ　（Ｄｅｃｋｓｈｉｃｈｔ）　　（Ｃ
）を有しており、この被覆層は場合によって存在する被
覆フィルム（Ｄｅｃｋｆｏｌｉｅ）　（Ｄ　）よりも新
規な光重合性記録層（Ａ）により強く付着しているとと
もに、引き裂き抵抗の大きい膜を形成する重合体および
場合によってその中に含有される添加物質から形成され
る。

引き裂き抵抗性膜形成重合体の好適な例は、ポリアミド
、コポリアミド、ポリウレタン、ポリ−（メト）アクリ
レート、加水分鮮度３０〜９９％のポリビニルアルコー
ル−アルカンカルボン酸エステル、高環化度の環状ゴム
、エチレン／プロピレン共重合体、塩化ビニルの単独重
合体および共重合体またはエチレン／酢酸ビニル共重合
体である。　添加物質を含有する被覆層（Ｃ）の好適な
例は、米国特許＠４１６２９１９号、西独特許公開公報
第２８２３３００号、西独特許公報第２１２３７０２号
、米国特許第４０７２５２７号または米国特許第３４５
３３１１号から公知である。

添加物質を含有する被覆！　（Ｃ）の特に好適な例は特
願昭　　　　　号（西独特許出願筒Ｐ３７３６９８０．
６号）に記載されている。

一般に被覆層の厚さは０．２〜２５μｍである。

さらに、本発明の記録材料は被覆フィルム（Ｄ）を存し
ており、この被覆フィルムは新規な光重合性記録層（Ａ
）または被覆層（Ｃ）から容易に分離することができる
。

被覆フィルム（Ｄ）は１０〜２５０μｍ１特に２０〜１
５０μｍの厚さである。これは本質的に合成物質、織物
物質、紙または金属から成る。被覆フィルム（Ｄ）の直
接に被覆層（Ｃ）の上にある表面は平滑である。すなわ
ち、表面荒さが、Ｒｍ　ａ　ｘ　（、０、１μｍ１であ
る。あるいは、この表面はマット化されている。すなわ
ち、表面荒さＲｍａｘが０．１〜１５ｐｍ、好ましくは
０．３〜１０μｍ１特に０．５〜７μｍである。被覆フ
ィルム（Ｄ）がマット化されている場合、その凹凸パタ
ーンが被覆Ｆ２　（Ｃ）および場合によって新規な光重
合注記ｉＦＪ　（Ａ）の表面にまでも刻印される。被覆
フィルム（Ｄ）のこの平滑またはマット化された表面を
さらに非粘着性にすることもできる。即ち、同表面に、
例えば０．１〜０．５μｍの厚さの、公知慣用のシリコ
ーンその他の合成樹脂、例えばポリエチレンやポリプロ
ピレンから成る粘着防止ＦＷ　（Ａａｔｉｂ！１ｔｓｃ
ｈｉｃｂｔ）　　（Ａ　Ｓ　）を設けることができる。

織物物質または紙から成る被覆フィルム（Ｄ）はその上
に尿素７オルムアルデヒド樹脂またはポリオレフィンの
ような合成樹脂で含浸してもよい。合成樹脂から成る被
覆フィルム（Ｄ）はざらに二軸延伸してもよい。この場
合、二軸延伸に先立って例えば塩化ビニリデン共重合体
から成る、厚さ０．１〜０．５μｍの層を、被覆フィル
ム（Ｄ）の一定の側面、即ち、後に被覆層（Ｃ）または
新規な光重合性記録層（Ａ）が直接載せられる側面に塗
布するのがしばしば有利である。

被覆フィルム（Ｄ）の特に有利な例は、厚さ２０〜１５
０μｍの平滑またはマット化された二軸延伸されたもし
くは延伸されない、場合によって非粘着性にした合成樹
脂フィルム（例えば、ポリプロピレン、ポリアミド、ポ
リスチレン、スチレン／アクリロニトリル共重合体また
はポリメチルメタクリレート；　メチルメタクルレート
とメタクリル酸、アクリル酸、メチルアクリレートまた
はブチルアクリレートとの共重合体；　ポリ塩化ビニル
、ポリ酢酸ヴイニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ
カーボネート、セルロースアセテートスクシネートのよ
うなセルロースエステル、またはポリエチレンテレフタ
レート製）である。この内、ポリエチレンテレフタレー
ト製の被覆フィルム（Ｄ）が最も有利である。

本発明の記録材料の製造には技術上の特殊性は何もなく
、感光性層および被覆層の公知慣用の製造方法並びに合
成樹脂、織物物質、紙または金属製のフィルムの公知慣
用の製造方法に従って行われる。

従って、新規な光重合性記録／Ｗ（Ａ）は上記の構成要
素（ａ１）、（ａ２）、（ａ４）、（ａ、１）および場
合によって（ａ４）を慣用の混線技術（Ｋ＋５ｔｊｅｃ
ｂ＋＋ｉｋ）　、混合技術および溶解技術を使用して混
合し、生じた混合物（Ａ）を、溶液からの鋳造、加熱加
圧、カレンダかけ（Ｋｇｌｓｎｄｒｉｅｒｕｎ１）まｔ
；は押し出しすることにより製造される。本発明の記録
材料が新規な光重合性記録ＦＪ　（Ａ）のみから成る場
合は、その製造をもって製造方法は一括して終了する。

この場合、新規な光重合性記録層（Ａ）の製造方法が本
発明の印刷版型およびレリーフ版型のレリーフ版型造の
改善方法の実質的工程である。

本発明の記録材料はさらに別の層を持つ場合は、別の作
業工程を実施することになる。これは本発明の多層記録
材料の製造方法に組み込むが、これとは別個に実施する
。

従って、被覆７２Ｆ　（Ｃ）は新規な光重合性記録層（
Ａ）の製造に対して挙げられる方法に従って普通に製造
される。

彼′Ｍ１フィルム（Ｄ）の構成要素は同様に慣用の混線
技術、混合技術および溶解技術を使用して混合し、溶液
からの鋳造、加熱加圧、カレンダがけ（Ｋｓｌｉｎｄｒ
ｉｅｒａａτ）または押し出しおよびブロー成形するこ
とにより対応するフィルムに成形される。

この作業工程も本発明の記録材料の製造方法に組み込む
ことができ、通常、その間に被覆フィルム（Ｄ）が別個
に製造され、ロールの上に巻き取られ、この形で本発明
の多層記録材料の製造に使用される。

本発明の多層記録材料の製造も技術上の特殊性は何もな
く、慣用の方法で新規な光重合性記録層（Ａ）を被覆層
（Ｃ）および被覆フィルム（Ｄ）と結合し、その際、こ
れを寸法安定な支持体ＣＢ）上で、場合によって接着！
（Ｈ５）と射弾カ性のＴ１とを一緒に使用して行うこと
により、達成される。この場合、新規な光重合性記録層
（Ａ）を最初に支持体（Ｂ）と結合し、次いでその未被
覆側面を被Ｆ！！／Ｊ（Ｃ）と被覆フィルム（Ｄ）で被
覆するか、あるいは新規な光重合性記ｆｉＦｙｊ（Ａ）
を、まず、被覆Ｆｊｌ　（Ｃ）を被覆した被覆フィルム
（Ｄ）に載せ、次いで支持体（Ｂ）を結合することも、
原則的に可能である。

本発明の、場合によって多層の、記録材料には特別の利
点がある。即ち、公知慣用の方法を使用して製造するの
で既存の設備および装置を改造する必要がなく、新しい
、特別に開発された設備および装置に新規投資をする必
要もない。また、寸法安定性があるから、低温における
印刷部分切断（ｋ＆ｌｔｅ　ＨｉｅΩｅｎ）の傾向また
は含まれている成分の浸出の傾向がない。従って、損傷
することなく、本発明の記録材料を心配することなく運
搬し、長期貯蔵することができる。

本発明の、場合によって多層の、記録材料の特別の利点
は、それを装飾的なレリーフ版型、凸版印刷版型、フレ
キソ印刷版型、オフセット印刷版整および凹版印刷版型
の製造並びにホトレジストの製造、特に凸版印刷版型お
よびフレキソ印刷版型の製造１．に使用した際に顕著で
ある。この場合、本発明の、場合によって多層の、記録
材料からの装飾的なレリーフ版型、凸版印刷版型、フレ
キソ印刷版型、オフセット印ＪＵＩＩ版型および凹版印
刷版型の製造並びにホトレジストの製造は、通常、下記
の作業工程を包含する。

（ｉ）場合によって、本発明の記録材料を前処理する。

（■）場合によって、場合によって既存の被覆層（Ｃ）
または新規な光重合注記８暦（Ａ）から被覆フィルム（
Ｄ）を分離する。

（ｉｉｉ）画像マスクまたはネガチブ原本を新規な光重
合性記録層（Ａ）の上または場合によって既存の被覆層
（Ｃ）の上に置く。

（ｉｖ　）新規な光重合性記録層（Ａ）を波長λが２３
０　ｎ　ｍと４５０ｎｍの間、特に３５０ｎｍと４５０
ｎｍの間にある化学線で像様露光する。

（ｖ）像様露光された記録層（Ａ）の非露光領域を適当
な現像溶媒を使用して洗い落とす（現像する）、その際
、上記場合によって既存の被覆層＜ｃ）も洗い落とされ
る。

（ｖｉ　）乾燥する。

（ｖｉｉ）場合によって、この方法で得られ、いまや光
１合したレリーフ層（Ａ′）を含むか、またはこれから
成る装飾的なレリーフ版型、凸版印刷版型、７レキソ印
刷版型、オフセット印ｎ「版型および凹版印刷版型並び
にホトレジストを後処理する。

これらの工程は本発明の装飾的なレリーフ版型、凸版印
刷版型、フレキソ印刷版型、オフセット印刷版型および
凹版印刷版型並びにホトレジストのレリーフ構造の改善
方法の完全な構成要素である。

光重合したレリーフ層（Ａ′）の厚さは、印刷版型およ
びレリーフ版型の使用目的に従って、０　、０　Ｏ１〜
７　ｍ　ｍ　ｓ好ましくは０．１−７　ｍｍｓ特に０．
７〜６．５ｍｍの範囲内で変わる。

化学線の好適な線源は、慣用のＵＶ−蛍光管、水銀中圧
、高圧、低圧放射装置、超化学線発行物質管（ｓｕｐｅ
ｒ！Ｈｉａｉｓｃｈｅ　ＬｔｎｅｈＬｓｌｏｆｌｒＭｈ
ｒｅｎ）、キセノンランプ（Ｘｓ＋＋ｏｎ−１ｍｐａｌ
ｓｌ＊ｍｐｅ＋＋）、金属ヨウ化物をドープしたランプ
、炭素アーク灯またはガスレーザのようなレーザがある
。

好適な有機現像溶剤の例は、脂肪族または芳香族炭化水
素、例えばｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン、オクタン、石
油エーテル、リグロイン、リモネンその他のテルペン、
ドルオール、キジロール、エチルペンゾール あるいはこれらの溶剤の混合物；　ケトン、例えばアセ
トンまたはメチルエチルケトン；　エーテル、例，ｔｌ
ｆシーｎ−７’チルエーテル：　エステル、例えば酢酸
エチルまたはアセト酢酸エチル：　ハロゲン化脂肪族炭
化水素、例えば塩化メチレン、クロロフォルム、トリク
ロロエタン、テトラクロロエチレン、ジクロロテトラ７
ルオロエクンまにはトリクロロトリフルオロエタン；　
あるいはこれらの溶剤を二種以上含む混合物；　あるい
は、これらの溶剤の一種または二種以上に加えてアルコ
ール、例えばメタノール、エタノール、インプロパツー
ルまたはｎ−ブタノールを含有する混合物：　あるいは
、溶剤および上記の種類の混合物にさらに固体、液体も
しくは気体状の有機および無機化合物、例えばＴｅｎｓ
ｉｄｅを下記の量含有するものが挙げられる。

好適な水性アルコール現像溶媒の例としては、メタノー
ル、エタノール、インプロパツールまたはｎ−ブタノー
ルの水溶液があり、これらはさらに固体、液体もしくは
気体状の有機および無機化合物、例えばＴｓｎｓｉｄｅ
，ａｆｔ化剤、塩、アルカリ液、アンモニアまたはアミ
ンを下記の量含有していてもよい。

好適な水性アルカリ現像溶媒としては、水酸化リチウム
、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウムの水溶液、
炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの水溶液
、！ＩＣ酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムの水溶液、アンモニア水溶液であり、これら
はさらに固体、液体もしくは気体状の有機および無機化
合物、例えＩｆＴｓｎｓｉｄ＠、錯化側または塩を下記
の量含有していてもよい。

特に好適な現像溶媒は水である。

光重合したレリーフ層（Ａ′）の後処理の慣用方法は、
波長λが１５０ｎｍと４５０ｎｍの間にある化学線で全
面後露光するか、可視光線で後露光するか、あるいはハ
ロゲン含有溶液で旭理することである。

本発明の、場合によって多層の記録材料をこの方法にか
けると、以下のことが実証される。

迅速に露光でき、露光許容度が顕著に大きい。

画像マスクまたはネガチプ原本の最も微細でそれ故限界
的な画像モチーフの複製においてデテールにわたって７
本に忠実であり、さらに、特に中間深度について顕著で
ある優れＩ；レリーフ微細構造を有する。

洗浄安定性に憂れているので、現像時間の短縮化のため
に、心配することなく現像条件を過酷にすることができ
る。

それにより、装飾的なレリーフ版型、凸版印刷版型、フ
レキソ印刷版型、オフセット印刷版型および凹版印刷版
型並びにホトレジストの製造の際の滞留時間が短縮化さ
れ、径営の実地上著しく有利である。

この利点は特に印ル１版型製造の際に重要である。

本発明の記録材料の特別の利点はそれに尽きることなく
、上記の方法で製造した印刷版型およびホトレジストに
おいて特に明確であることが実証されている。

従って、プリント回路盤の製造に有利な新規なホトレジ
ストを使用することができる。新規な印刷版型は印圧円
筒（Ｄｒｕｃｋｌｙｌｉｎｄｅｒ）に載せ、この形で突
出して連続印刷に使用するごとができ、特に高い負荷（
印刷枚数）で優れた印刷を提供する。

〔実施例〕

実施例１〜４ 本発明の記録材料の製造とその新規な印刷版型への加工 一般的実験指針 方法　！ 新規な光重合性記録層（Ａ）を製造するために結合剤（
ａ４）をガス分除去方式二軸スクリュー押出機に一様に
装入し、１４０〜１８０℃で融解した。新規な光重合性
記録層（Ａ）の液状および／または溶解した成分（ａ２
）、（ａ＝）　、（ａ、１）および場合によって（ａ４
）は順次押出機にポンプで供給し、そこで結合剤（ａ１
）の融解物と混合させた。得られた光重合性混合物（Ａ
）を広幅スリットノズルから放出し、そこから直接にカ
レンダーの段（ＳＰＩＩｋ）に導き、そこで新規な光重
合性記録層（Ａ）に成形し、同時にその一つの側面に５
μｍの厚さの被覆層（Ｃ）とマット化された１２５μｍ
の厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム（被覆フ
ィルム（Ｄ））を、他方の側面に５μｍの厚さの接着層
（ＨＳ）を介して厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルムを寸法安定な支持体１　（Ｂ）として
接着結合した。

こうして得られた構成「（Ｂ）、（Ａ）　、（Ｃ）およ
び（Ｄ）」の本発明の多層記録材料を管状露光機内で３
分間以内、背面から寸法安定性支持体層（Ｂ）を通して
化学線で全面露光した。次いで、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム（Ｄ）　を被覆ｒｇＪ（Ｃ）から取り除
いた。

この前処理後、本発明の多層記録材料を公知慣用の、被
覆Ｑ　（Ｃ）の上に載せた試験用ネガチプ原本を通して
２〜３０分間慣用の平面露光機内で化学線で像様露光し
た後、２〜２０分間以内、ブラシ洗浄機において適当な
現像溶剤で洗浄した。

このようにして得られた印刷版型を場合によって１時間
以内、２０〜８０℃で乾燥した後、この新規な印刷版型
を１５時間放置した。

場合によって、印刷版型を２０分間以内、波長λ〜２５
０〜４００ｎｍの化学線で後露光および／または遊離ハ
ロゲン含有溶液で後処理した。

方法　■ 新規な光重合性記録層（Ａ）を製造するために成分（ａ
２）、（ａ４）、（ａ、４）および場合によって（ａ４
）を適当な溶媒に溶解した。得られた溶液を、ハレーシ
ョン防止ワニス層（光源防止剤）を設けた鋼製印刷版（
寸法安定性支持体（Ｂ））上に注いで、このようにして
形成された濡れた層の乾燥後に所望の厚さの新規な光重
合性記録層（Ａ）が生じるよう１こしｌ二。

この方法で得られた構成「（Ｂ）および（Ａ）」の本発
明の多層記録材料を１５時間放置した後、本発明の多層
記録材料を、方法！で記載したように、像様露光し、現
像した。場合によって、像様露光前に、新規な光重合性
記録層（Ａ）を化学線で全面前露光した。

表１に本発明の記録材料の物質的粗製並びにその製造方
法および新規な印刷版型への加工方法についての情報を
示しＩ；。

試験方法および判定基準 方法■または方法■に従って製造された印刷版型の光重
合したレリーフ層（Ａ″）を光学顕微鏡下で視覚的に鑑
定し、色調濃淡（Ｔｏｎｖｓｒｔ）３０％、５０％およ
び７０％［＝　ｔ　ｚ（３０）、ｔｚ（５０）およびｔ
ｚ（７０）］　の網目スクリーン（Ｒｓｓｔｅｒ）の中
間深度（２ｗ１ｓｃｈｅ＋Ｌｉ５ｆｅ）をｐｍで測定し
ｔ：。

光重合し！；レリーフ層（Ａ′）の品質の本質的基準は
、次の通りである。

（ｉ）きれいに形成された急傾斜のレリーフ側面、洗い
落とされない。

（ｉ）真直なレリーフ稜線、稜線の破れかない。

（ｉｉｉ）非常に良好な特色のある中間深度。

印刷版型の光重合したレリーフ／２７　（Ａ”）の視覚
的判定後、印刷版型を印圧円筒に張り、印刷版型毎に連
続凸版印刷まＩ；はフレキソ印ｆｆｌ＋に使用した。こ
の場合、それぞれ公知慣用の凸版印刷機械または７レキ
ソ印刑機械と対応する典型的な公知慣用の印刷インキを
使用した。それぞれ使用した本発明の多層記録材料から
製造された新規な印刷版型に対する決定的品質基準は、
これを用いて達成できる優れた印刷の枚数である。

表２に対応する試験結果をまとめた。

比較例ｖ１〜ｖ４ 公知の記録材料の製造およびその公知の印刷版型への加
工 実施例１〜４のそれぞれを、それぞれの場合に本発明に
必須のレシチン（Ｉ）および／または（ＩＩ）［成分（
ａ、４）］の添加を断念した以外は正確に比較し得る条
件下で繰り返しｔ；。そのために、それぞれ使用した公
知の光重合性記録層（Ａ）の成分（ａ４）の含有量を相
当する量だけ多くした。

公知の記録材料ｖ１〜ｖ４の物質的組成とその製造およ
び加工の方法を同様に表１に示した。

得られた試験結果を表２に新規な印刷版型１〜４（実施
例１〜４）で得られた試験結果と比較して示した。

この場合、実施例１と比較例１、実施例２と比較例２、
実施例３と比較例３、および実施例４と比較例４が直接
比較される。

この比較から、本発明の記録材料１〜４は公知の記録材
料■１〜ｖ４に対して明らかに優れている。特に、本発
明記録材料１〜４は公知のものよりも良好な光重合した
レリーフ層（Ａ’　）を持ち、優れた印刷の枚数が多く
得られる印刷版型を与える。これは、本発明に従って使
用されるレシチン（Ｉ）および／または（■）、特に大
豆レシチン、の特別の予期されない技術効果の基礎をな
している。

（以下、余白） ｐニーしく続き：１−５） 本発明の記録材料（実施例１〜４）および公知の記録材
料（比較例Ｖｌ−Ｖ４）の物質的組成並びにその製造お
よび加工記録材料 光重合性記録層（Ａ）の物質的組成 実施例 方法 と同じ （ａ１） （重量％） と同じ （６８，９９７） （ａ２） （重量％） と同じ （（１，０） 成分 （ａ３）　　　　　（ａ、４） （重量％）　　　（重量％） と同じ　　　　　と同じ （１，５） （ａ４）　　　　　　厚さ （重量％）　　　（μｍ） ブチル− エタノール− アミン ２．６−シーｔｅｒｔ、− ブチル−ｐ− クレゾール （０，８）　　　　２Ｂ４０ 加工 露光時間 と現像 と同じ 後処理 と同じ 表２ 印 刷 試 印刷版型 レリーフ層（Ａ′）の品質 中間深度（μｍ） 優れた印刷 サンプル の態様 レリーフ側面 レリーフ稜線 ｔｚ（３０） ｔｚ（５０） ｔｚ（７０） の枚数 実施例１ 凸版印刷 急傾斜 真直 洗い落とされない 破れなし 実施例２ 凸版印刷 急傾斜 真直 洗い落とされない 破れなし 比較例ｖ１ 凸版印刷 急傾斜 真直 １０’ 洗い落とし非常に 破れ少ない 少ない 比較例Ｖ２ 凸版 急傾斜は少ない 凹凸あり １０’ 洗い落としあり 若干の破れあり 表 （統さ） 印 刷 試 験 印刷版型 レリーフ層（Ａ’ ）の品質 中間深度（μｍ） 優れた印刷 サンプル の態様 レリーフ（７１１面 レリーフ稜線 ｅｘ（３０） ｔｚ（５０） ｔｚ（７０） の枚数 実施例３ 凸版印刷 急傾斜 真直 ５・１０’ 洗い落とされない 破れなし 実施例４ ７レキソ 急傾斜、非粘着性 真直 〉１０６ 印刷 洗い落とされない 破れなし 比較例ｖ３ 凸版印刷 急傾斜は少ない 真直 １０’ 洗い落とし非常に 若干の破れあり 比較例ｖ４ フレキソ 急傾斜は少ない 凹凸あり く５・１０１ 印刷 粘着性、 若干の洗い落としあり

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ＿１）結合剤として少なくとも一種の重合体
   、 （ａ＿２）少なくとも一種の重合開始剤、 （ａ＿３）重合体結合剤（ａ＿１）と相溶性の少なくと
   も一種の光重合性オレフィン様不飽和化合物（モノマー
   ）および／または重合体結合剤（ａ＿１）に側鎖基およ
   び／または末端基として結合した光重合性オレフィン様
   不飽和残基、並びに （ａ＿４）少なくとも一種の助剤 から成る少なくとも一層の光重合性記録層（Ａ）を有す
   る印刷版型またはレリーフ版型の製造のための感光性記
   録材料において、該光重合性記録層（Ａ）が助剤（ａ＿
   ４）として、光重合性記録層（Ａ）の重量に対して０．
   １〜１０重量％の少なくとも一種または二種以上の下記
   一般式（ I ）または（II）のレシチン ▲数式、化学式、表等があります▼ I ▲数式、化学式、表等があります▼II （式中、残基Ｒ＾１およびＲ＾２は、同一または相異っ
   て、Ｃ＿１＿１−〜Ｃ＿１＿８−アルキル基またはＣ＿
   １＿１−〜Ｃ＿１＿８−アルケニル基を表す。ただし、
   残基Ｒ＾１またはＲ＾２の少なくとも一方はＣ＿１＿１
   −〜Ｃ＿１＿８−アルケニル基を表す。）を含有するこ
   とを特徴とする感光性記録材料。