JPH02273751A - タックフリーの印刷表面を有する凸版印刷板製造用感光性記録素子及びその用途 - Google Patents

タックフリーの印刷表面を有する凸版印刷板製造用感光性記録素子及びその用途

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JPH02273751A
JPH02273751A JP2058248A JP5824890A JPH02273751A JP H02273751 A JPH02273751 A JP H02273751A JP 2058248 A JP2058248 A JP 2058248A JP 5824890 A JP5824890 A JP 5824890A JP H02273751 A JPH02273751 A JP H02273751A
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benzophenone
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letterpress
relief
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Thomas Telser
トーマス、テルザー
Andreas Boettcher
アンドレアス、ベッチャー
Friedrich Seitz
フリードリッヒ、ザイツ
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BASF SE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野] 本発明は、感光性記録素子からのタックフリーの印刷表
面χ有Tる凸版印刷版製造用の新規感光性記録素子に係
るものであり、この感光性記録素子を工寸法安定注担体
8よび光重合性の凸版生成記録層乞含み、この光重合性
記録層がこのほかに少なくとも1種のポリマー結合剤、
少なくとも1種の光重合性オレフィン不飽和モノマーS
よび少なくとも1種の光重合開始剤、およびさらに少な
くとも1mの別の感光性化合物を含むものである。
この新製遺伝は、光重合性の凸版生成記録層を紫外線光
線で画像生成させる露光工程、画像生成用に露光された
凸版生成記録層の露光されていない、従って光重合して
いない領域を現像剤m液で洗浄(現像)する工程、およ
びこの方法で得られた光重合された凸版層Y 300 
nm以下の波長の光(λ〈300 nm )で後露光(
後処理]する工程乞、含んでいろう このほかに本発明は、この新規製造法に特別によく適合
している新感光性記録素すに係るものである。
さらに本発明は、この新規製造法に際してのベンゾフェ
ノンおよびベンゾフェノン誘導体の使用に係るものであ
る。
(従来技術) 寸法安定性の担体Sよび元1合性の凸版生成記録層ン、
少なくとも11!Iのポリマー結合剤、ポリマー結合剤
と相溶性のある少なくとも1種の光重合性オレフィン不
飽和モノマー、少なくとも1mの光重合開始j!ilJ
 Nよび少なくとも1種の別の感光性化合物と乞−緒に
含んでいる凸版印刷版製造用の感光性記録素子が、たと
えば西ドイツ特許公開公報A−第2722421号、西
ドイツ特許公開公報A−第2720599号、西ドイツ
特許公開公報A−第2720560号または西ドイツ特
許公開公報A−第3248247号に開示されている。
このほかに、始めに述べた処理工程乞含む、タックフリ
ーの印刷表面を有する凸版印刷板の製造法は、西ドイツ
特許公開公報A−第2821500号Sよびヨーロッパ
特許B−第0017927号に、開示されている。
西ドイツ特許公開公報A−第2821500号中で記載
されている製造法でを工、画像形成となる露光と画像形
成露光された凸版形成記録層の非露光、従って光重合し
ていない部分の洗浄(現像〕とによって得られる凸版層
が、波長300 nm以下の光(λ< 300 nm 
)でのその表面の後露光(後処理)前に、9.lO−ア
ントラキノン等の水素引抜き化合物で含浸される。
ヨーロッパ特許クー第0017927号中に記載されて
いる製造法では、本質的な成分として、主鎖中に共軛ジ
エンモノマーからのポリマ一部分乞有する溶剤溶解性ポ
リマー 並びに少なくとも1種の光重合性オレフィン不
飽和モノマーおよび光重合開始剤を含んでいる感光性記
録素子が使用されている。この特許文書の7頁45行か
ら60行までに書かれているように、ベンゾフェノン、
ミヒラー・ケトンまたはそのほかの19種類の化合物が
、光重合開始剤として使用することができる。このほか
に、ここでは上述の21′!!1.類の光重合開始剤が
、それ自身だけでかまたは組み合わされて使用すること
ができる。この場合に、どのような光1合開始剤が相互
に組み合わされるべきかは、ここではふれられていない
これら上述の既知2方法は、欠点’klVしている。
例えば追加の処理工程、丁なわち光重合凸版層の表面ン
9.lO−アントラキノンで含浸する工程を追加しなけ
ればならないか、または特別組成の光重金品版生成記碌
層を有する感光性記録票すに限られるので、別の感光性
記録素子乞望ましい処理効果にすることかできず1丁な
わちタックフリーの印刷表面χ得ることができない。ま
た長い照射時間も欠点となっており、波長が300 n
m以下(λ<nm )の光での元1合注凸版層の後露光
が必要となっている。この際に1丁なわちタックフリー
になると同時に光1金品版層の表面が脆化してさて、亀
裂が生成する結果となる。光重合注凸版層の印刷表面に
このような亀裂が生ずることは、印刷像に8いても認め
られろと共に、別にこれがオゾンによび印刷顔料溶剤に
対する安定性を低下させろことになる。このほかに、複
製操作に?けるタックフリーにするために必要な長い露
光時間は、凸版印刷板裂造のあい路となっている。この
あい路は、特にフレキソグラフィック凸版印刷板の製造
の時に著しく目立っており、その印刷板表面乞完全にタ
ックフリーにするまでの後露光時間が、約半時間の長時
間になり、従って実用的には唯例外的にのみ受は入れら
れるだけであり、臭素後処理のために必要である特徴的
な短時間処理と比較しても、悪い結果となる(参照、西
ドイツ特許公開公報A −@ 2823300号または
ヨーロッパ特許公開公報A−第0256309号)。
他方に8いて、臭素後処理もまた欠点ya′有して2つ
、これは特にここで使用される臭素溶液の高い腐食性に
帰せられろものである。
(発明の目的〕 本発明の目的は、凸版印刷板、特にフレキソグラフィッ
ク凸版印刷板の光重合凸版層がタンクフリーの印刷表面
を有する印刷板の新規製造法ン見出丁ことにあり、この
新製遺伝を工以下の製造工程からなっている。
(1)寸法安定性の担体および光重合性凸版記録層χ含
む感光性記録素子の紫外線光による画像生成露光、 (2)画像生成凸版生成記録層の未露光であり、従って
光重合していない領域の現像剤溶液による洗浄(現像)
および (3)この方法で得られた光重合凸版層を、λ 〈30
0 nm波長元で後露光(後処理)の3工程を包括し、
技術的立場からの欠点を最早示していない。
(発明の構成) 驚くべきことに、この課題は、置換ベンゾフェノンおよ
び/またはベンゾフェノン自身の群からの少なくとも1
1!Iiの別の感光性化合vJt新規製造法で使用され
る感光性記録素子の光重合性凸版生成記録層に加えるこ
とによって、解決することができた。ベンゾフェノンそ
れ自身では、紫外線光による露光の際の光重合凸版生成
記録層に8いて光重合開始剤として作用しないという、
予期ちれない実験的知見を考慮すると、本発明の課題の
解決法はそれだけに驚くべき新事冥であった。
これに従って1本発明の対象の場合には、凸版印刷板の
製造法が取り扱われてzつ、この凸版印刷板の光重合性
凸版層はタックフリーの印刷表面y!/有していて、次
の3工程からなりたっている。
丁なわち、 (1)感光性記録素子の紫外線光による画像生成露光で
あり、この感光性記録素子を工、 Aン 寸法安定性担体と B)  bI)少なくとも18Iのポリマー結合剤、b
2)ポリマー結合剤(bl)と相溶性のある、少なくと
も1種の光重合性のオレフ ィン不飽和モノマー bs)少なくとも1種の光重合開始剤および tr4)少なくとも181の別の感光性化合物Z含有す
る光重合性凸版生成記録層とt含んでいる。
(2)画像生成露光凸版生成記録層(B)の未露光、従
って光重合されていない領域の現像剤溶液による洗浄(
現像)および (3)この方法で得られた光1金白版層t、λ く30
0 nm波長の元で後露光(後処理]する、3工程であ
る。
この場合に、ここで使用されろ感光性記録素子の光重合
凸版生成記録層CB)が、別の感光性化合物(b4)ト
シてベンゾフェノンおよび/または1個以上の隨°換部
を有するベンゾフェノンを含有しており、この置換基Y
:有するベンゾフェノンが、その置換基またはその置換
基の少なくとも1つにおいて、少なくとも1つの光重合
性オレフィン不飽和基を有していることを特徴とする方
法である。
本発明の別の対象は、ベンゾフェノンまたハソの置換基
またはその@換部の少なくとも1つにおいて少なくとも
1つの光重合性オレフィン不飽和基χ有する1個又を工
複数の置換基のあるベンゾフェノンt、λ< 300 
nm波長の光で光重合性凸版層表面の後処理?行なう時
に、使用することである。
なおさらなる本発明の別の対象は、タックフリー印刷表
面ン有する凸版印刷板の製造のための感光性記録素子で
あり、これを工その光重合性凸版記録層CB)において
、別の感光性化合物(1)a )として、ベンゾフェノ
ンおよび/または前述の置換ペンゾフエノンン含んでい
る。
以下においては、その光重合凸版層がタックフリーの印
刷表面’&!している凸版即刷板裂造のための新方法は
、簡潔、のために1本発明方法lとして示される。
さらに以下には、簡潔のために、タックフリーの印刷表
面χ有する凸版印刷版製造のための新座光性記録素子−
pt、%本発明記録素子′と呼び、またそのatm基ま
たはその置換基の少なくとも1つに少なくとも1つの光
重合性オレフィン不飽和基ン有する、本発明により使用
される1個又は複数の置換基を有Tるベンゾフェノンを
、′置換ベンゾフェノン(tla) ’と呼ぶことにす
る。
本発明方法は、本発明記録素子の助はンかりて笑施され
ろ。
本発明記録素子の主要成分は、ベンゾフェノンSよび/
fたは置換ベンゾフェノン(b4)Y含む光1合性凸版
生成記録層CB)である。この場合に、ytJ11L合
性凸版生成性凸版生成記録層ベンゾフェノン?よび/ま
たは置換ベンゾフェノン(b4) fX、 CB)に対
して0.05乃至5、好適には0.1乃至3、特に好適
Kt$0.2乃至1.2i1F1%の量で含まれている
適当な置換ベンゾフェノン(b4)の例は、−紋穴Iの
ベンゾフェノンであり、 R−0−R” ここに8いて、非置換フェニル基がRであり、別のフェ
ニル基がR1である。この場合にR1基が一紋穴■の@
換フェニル基乞示して8つ、RI′ ここにkいて、R1からBagでのi!置換基相互に同
じであるかまたは異なっていることがでさ、例えば水素
原子Rよびハロゲン原子;ヒドロキシ−チオール−シア
ノ−アルキル−、アリール−アルフキシー アリールオ
キシ−アルカンナオアリールチオ、アルフキジカルボニ
ル−アリールオキシカルボニル−アルカンカルボニルオ
キシ−アリールカルボニルオキシ−アルカンカルボニル
アミノ−アリールカルボニルアミノ−、アルキルアミノ
カルボニル−1了り−ルアミツカルボニル、七ノー?よ
びジアルキルスルホンアミド−モノ−8よびジアリール
スルホンアミド−アルキルアリールスルホンアミド−N
N−ジアルキルアミノ−N、N−ジシクロアルキルアミ
ノ−N、N−ジアリールアミノ−N−アリール−N−ア
ルキルアミノ、N−アルキル−N−シクロアルキルアミ
ノ−またはN−アリール−N−シクロアルキルアミノ−
基:l僧の窒素原子で置換フェニル基と結合している窒
累原子含有轡累環基:並びに少なくとも1個の光重合性
オレフィン不飽和基ン有するit置換基ある。
置換基R8からR−までが個々にどのような置換基であ
るかとは関係なしに、R1からR6マでの置換基の内の
少なくとも1個は、少なくとも1個の光重合性オレフィ
ン不飽和基を有する置換基である。それにもかかわらず
、これら置換基が2個、3個、4個または5伊存在する
ことができ、この場合に3個の置換基が適当しており、
2個の置換基が特に好適であり、1個の置換基が最も特
別に好適である。
lf!の光重合性オレフィン不飽和基を有する置換基が
、特に好適である。
好適な置換基の例を工、−紋穴■のM換部であり、ここ
に8いて、変数Yは酸素原子またはイミ7基ン表わし、
変数Xは2価の、過フッ素化または非フツ素化アルキレ
ン基またはオキサアルキレン基−(−0’*−)n−0
−(−”t”)p−’lたは−(−0H,−履−0−(
−0H鵞−)p −Y表わし、ここで指数n8よびpが
それぞれに1から5までの整@ン意味して8つ、または
非フッ素化または過フッ素化ポリオキサアルキレン基が
2乃至5個の酸素原子乞有していて、この中で酸素原子
がそれぞれに少なくとも1個の−01(、−基また1l
−aP、−基で相互に結合されてSす、さらに−紋穴■
のR?基が水素原子またはメチル基ン示すものである。
−紋穴■の特に好ti!Iな置換基の例は、■ 一1カ) 光重合性オレフイ ン不飽和基を有する特別に好 ら1−71でである: 適な置換基の別の例は、 置換基■からXまでであ る: 一〇−0−Nu−OH1−0−0−0−OR1■ −O−0−OH■OH! ■ −o−0−0−OH,−0−0−0冨OH。
■ −0−0−0−OR鵞 ■ 一σ−0−NH−OH,−OH,−α−OH、−OH、
−0−0−0=OH。
■ −NH−0−OH冒OH。
■ 一〇−0−0−07,−01F、−0−OF、−01i
F、−0−0−0−(IH,、■ −O−0−N H−OH、−OH−OH。
■ −0−0−NH−(−OH,−)、−0−0−OH−O
H。
■ −(−0−OH,−OH,)、−0−0−OH−OH。
及び ■ →−0−0−(−OH,−011,−0−34−0一つ
−CIIIIIOH。
以上のこれらの例の円で、 置換基■ 3および ■が、特別に好適である。
特別に好適な置換ベンゾフェノン (b番] &工、 置 換ベンゾフェノン (b41 )から (1)4□フ ) までである。
o=0 これらの内では、置換ベンゾフェノン(1)41 ) 
#よび(1)ay)が最も特別に好適である。
置換ベンゾフェノン(b4)は、それ自身既知の化合物
であり、その製造法Sよび物性は、西ドイツ特許出願P
第3820463.0号、ヨーロッパ特許公開公報A−
第0246848号、米国特許第3214492号、米
国特許第3429852号、西ドイツ特許公開公報A−
第2818763号および米国特許第3322818号
に記載されている。
本発明方法で使用される光重合凸版生成記録層(B)は
、このほかに少なくともl′Nのポリマー結合剤(bl
)を、(B)に対して40乃至99、好適に(工60乃
至98、特に好適には70乃至95ffit%含んでい
る。ポリマー結合剤(bl)としては、基本的にはTべ
てのポリマーが考えられ、通常光1合性凸版生成記碌層
に使用されるポリマーである。
特に好適なのは、この場合にはエラストマーである。
特に好aなエラストマーポリマー結合剤(b、]の例は
、既知のポリアルカジエン、ビニル芳香族/アルカジエ
ン−共重合体8よび−ブロック重合体、アルカジエン/
アクリルニトリル−共重合体、エチレン/プロピレン−
共x合体、エチレン/プロピレン/アルカジエン−共X
合体、エチレン/アクリル酸−共1合体、アルカジエン
/アクリル酸−共重合体、アルカジエン/アクリレート
/アクリル酸−共重合体およびエチレン/(メタ)アク
リルi!!!/(メタ)アクリレート−共重合体等であ
る。
最も特別に好適なのは、共軛アルカジエンたとえばブタ
ジェンまたはイソプレンを共重合させて含んでいるエラ
ストマーである。
さらに本発明方法で使用される元1合性凸版生成記録層
CB)は、ポリマー結合剤(b、)と相溶性のある通常
の既知光重合性オレフィン不飽和モノマー(b*)’a
’、(B)に対してl乃至60、好適には2乃至50、
特に好適には3乃至40gg%の量で、含んでいる。′
相溶性1という言い表わし方は、当該モノマー(b鵞)
がポリマー結合剤(bl)と非常に良好な混合性である
ので、当該光重合性凸版生成記録層(B)中に何らの濁
りまた(工しまが表われないことt、示している。適当
なモノマー(b、)の例に、常用される既知の1価Rよ
び多価アルコールのアクリレートおよびメタクリレート
、アクリルアミドRよびメタクリルアミド、ビニルエー
テルおよびビニルエステル、アリルエーテルおよびアリ
ルエステル並びにフマル酸ジエステルまたはマレイン酸
ジエステル等である。
このほかに、本発明方法で使用される光重合性凸版生成
記録層(B)は、少なくとも1種の常用される既知の光
重合開始剤(bs) Y:、CB)に対して0.01乃
至10、好適には0.5乃至5、特に好適には0.1乃
至2重量%の量で含んでいる。好適な光重合開始剤(b
s)の例は、ベンゾインまたはベンゾイン誘導体、たと
えはベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテルおよびベン
ゾインイソブチルエーテル;対称8よび非対称置換ベン
ジルアセタール、たとえばベンジyジメテルア七タール
、ベンジル−1−メチル−1−エチルアセタール;およ
びアシルアリールホスフィンオキシトによびその誘導体
、たとえば2,6−シメトキシベンゾイルージフエニル
ホスフインオキシド、  2,4.6−ドリメテルベン
ゾイルージフエニルホスフインオキー/ )’、 2,
4.6−ドリメテルペンゾイルーフエニルホスフイン酸
エチルエステルSよび2,4.6− ) IJメチルベ
ンゾイル−フェニルホスフィン酸−ナトリウム塩:Sよ
びヒドロキシプロパノン、たとえば1−フェニル−2−
メチル−2−ヒドロキシ−1−プロパノン、1−(4−
イソプロピルツーフェニル−2−メチル−2−ヒドロキ
シ−1−プロパノン;およびl−ヒドロキシ−シクロへ
キシルフェニルケトン等であり、これらの内ではベンゾ
イン誘導体およびベンジル誘導体が特に好適である。
このほかに、本発明方法で使用される光重合性凸版生成
記録層(B)は、さらなる添加物質、たとえば熱重合開
始の抑制剤、染料、顔料、ホトクロミー物質、ハレーシ
ョン防止剤、可塑剤、酸化防止剤、オゾン亀裂防止剤、
凸版構造改良剤、架橋助剤、充填剤お工び/または強化
充填剤χ、有効量で含むことができる。
本発明方法で使用されろ光重合性凸版生成記録層(B)
χ、その組成分から製造する方法は、一般的に既知の混
合方法により組成分馨混合し、この混合物乞、既知技術
のたとえはf8液からの注型、カレンダーまたは押出成
形等により達成されるが、これらの方法がまた適当に相
互に組み合わされることもできろ。
本発明方法で使用される光重合性凸版生成記録層(B)
の厚さは、目的に合うように200μm乃至1 ctm
、好適には300μm乃至3mである。
本発明記碌素子の別の主要成分は、寸法安定性担体(A
)である。好適な寸法安定性担体(A)の例を工、金属
たとえは鉄鋼、アルミニウム、@またtエニッケル等か
らの、また&ニブラスチックたとえばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド
によびポリカーボネート、織物?よび毛被たとえはガラ
ス繊維織物並びにガラス繊維とプラスチックからの強化
材等からの、板、箔(フォイル]′j6よび円錐および
円筒管(スリーブ]等である。
このほかに、本発明の感元注記録素子は、別の層を含む
ことができる。従って寸法安定性担体(A)tX、軟エ
ラストマー下層を西ドイツ特許公開公報A−第2444
118号の方法により、下に入れることができる。さら
に寸法安定性担体(A)に適用された光重合性凸版生成
記録層(E)の面上に、通常の既知カバー層(0)Hよ
び/または通常の既知カバーフィルムCD)が、存在し
ていることができる。カバー層(0]8よびカバーフィ
ルム(D)が−緒に使用されるならば、光重合性凸版生
成記録層(B)のカバー層<a)が直接上にのり、この
ほかに力/<−層(a)とカバーフィルムCD)の間ニ
、ナS接着防止層乞存在させる。さらに、寸法安定性担
体(A)と光1合性凸版記碌層(B)の間には、接着ラ
ッカー層の助はンかりて、強固な結合が生成されること
かでざる。
一般に接着ラッカー層の厚さは0.5乃至4μmであり
、カバー層(0)の厚さは0.5乃至20μmであり、
カバーフィルム(D)の厚さは20乃至15゜μmであ
り、接着防止層の厚さは0.1乃至0.5 pmである
本発明記録素子の製造は、全く特別な方法ではなくて、
本発明方法で使用される光重合性凸版生成記録層CB)
 ’!’寸法安定性担体(A)の上に、fg液からの注
型、熱プレス、カレンダー筐たは押田成形で積層させる
ことで、達成される。次にこの2層素子の上に、既知の
方法で別の層が重ねられることができる。しかしまた、
本発明方法で使用される光重合性凸版生成記録層(B)
を、始めにカバーフィルム(D)のカバー層(0)で覆
われた面に電ね、続いて光重合性凸版生成記録層(B)
の覆われていない面を寸法安定性担体(A)で強固に接
着させろことも、可能である。
本発明方法においては、本発明記録素子が、処理工程(
1]において、紫外線光により画像生成するように露光
される。紫外線光用の適当な光源の例は、通常の既知水
銀高圧−−中圧−fたは低圧・灯、VV−螢光管または
ハロゲン化金属封入灯である。
それに続いて、画像生成露光凸版生成記録層(B)の未
露光、従って光重合されていない領域が、適当な現像剤
溶液で洗浄また(工現像される。
適当な現像剤溶液の例は、通常の既知、非極性、非プロ
トン性極性およびプロトン性極性溶剤、並びにそれらの
混合物であり通常上述の目的に使用される溶剤である。
一般には、処理工程(2)は、通常の既知スプレー法、
摩擦法Sよびブラシ洗浄で実施される。
処理工程(2)に絣いて、ここで得られろ光重合性凸版
層が、λ< 300 nm 、 %に200乃至300
nm波長の紫外線光で、後露光または後処理される。
この波長の紫外線光のための適当な光源の例は、通常の
既知の殺菌灯またを工滅菌灯である。
本発明方法は、さらに別の処理工程γ含むことができる
。適当な別工程の例は、 一本発明記録素子の前面8よび/または裏面からの紫外
線光による全面前露光、 一本発明記碌素子中にあるカバーフィルムCD)の必要
の場合の剥離、 一画像生成露元記録素子中にあるカバー層(0)の必要
の場合の分離洗浄、 一処理工程(3)実施前の光冨金品版層の乾燥?工び/
または静止放置 一処理工程(3)の後での、λ> 300 nm波長紫
外#i党による光電金品板層の全面後露光。
本発明方法は、多くの特別な特徴χ有している従って本
発明方法(工、単にタックフリー印刷表面Y:有する凸
版印刷板の製造に使用されるだけでなく、またタンクフ
リーの装飾的な浮き出しく凸版)成形体の製造にも使用
される。これによって、本発明方法の特別な特徴は、フ
レキソグラフィック凸版印刷板の製造に対しても素晴ら
しく傑出した優位性があり、この使用目的には表面の障
害となる粘着性は全く認められなくしている。これによ
って、本発明方法は、そのエラストマー元重合凸版層が
タックフリーな表面χ有するフレキソグラ、フィック凸
版印刷版ケ、提供している。本発明記録素子またを工そ
の光重合性凸版生成記録層(B)の物質組成により条件
づけされることで、本発明の場合のλ<300 nm波
長紫外線元による後露光90時間は、実用的実際に有意
な進歩馨示している技術的立場からの現行法よりも短か
くなっている。
このほかに、本発明方法で製造されたフレキソグラフィ
ック凸版印刷板、またはその光重金品板層は、後処理ま
たは長期保存8よび/または継続使用時に、脆化?よび
亀裂生成の傾向χ示さない。
このために、本発明方法で製造されるフレキソグラフィ
ック凸版印刷板は、フレキソ印刷に2いて、現行の技術
的立場からの方法で製造されたものよりも著しくしばし
ば8よび長期に利用し得るものであり、従って優れた印
刷物乞非常に高い印刷回数で供給でざる。さらに本発明
方法で製造されるフレキソグラフィック凸版印刷板は、
優れた色調Y示してRつ、しかも印刷顔料m剤に対して
は著しく安定であって、この溶剤によって障害される程
度に膨潤されることを工全く無い。
(実施例) 実施例Sよび比較試験 以下に記述されている実施例1かも6までと、比較試験
v1からv141でに対しては、表1で与えられている
組成物の光重合凸版記録層(B)が使用された。ここで
は、丁ぺての場合に以下の組成分が使用された。
−ポリマー結合剤(b+)として、通常の既知熱可塑性
エラストマー ステロール/イソプレン/(スチロール
−ブタジェン)−3217’0ツク混合重合体、 一元宣合性オレフィン不飽和モノマー(b2)トして、
ヘキサン−1,6−シオールージアクリレート ー元富合開始剤(b、)として、ベンジルジメチルアセ
タール、 一別の感光性化合物(b4]として、ベンゾフエ/ :
/ (b番◎)またを工情換ベンゾフェノン(b41)
またtzt換ベンゾフェノン(b4v)′/′ 並びに 一助剤として、それぞれが光重合性凸版生成記録層CB
)に対して、1.21t%の2,6−ジ−ターシャリ−
・ブチル−p−クレゾール、o、oos重t%の染料ソ
ルベントブラック(0,工、26150)#よび5重量
%の通常の既知パラフィン油が可塑剤として使われ、こ
れらを合計して記録素子(B)当りで6.20811E
it%となる。
実施例および比較試験に2いては、紫外線光による画像
生成露光(処理工程1)のために、通常の既知標準負グ
ロー管?よび通常の既931管状平形灯が使用された。
画像生成N元凸版生成記録層CB)の現像(処理工程2
](工、通常の既知ブラシ円型ワッシャー中で実IiV
!iされた。この場合の現像剤溶液としては、−80容
量%テトラクロルエチレン2よび20容1に%n−ブタ
ノールからの混合溶液(現像剤溶fl)および −80容量%の高沸点水素化石油留分〔エッソ社(。5
SO)Oエラ、8ツヤ■6.エエ、。、[F]。
n6o)gよび20容t%n−ペンタノールからの混合
溶液(現像剤溶液2)、 が使用される。
λ<30On+n波長の紫外線光による後露光(優処理
)(処理工程3)のためには、アンダーソン(Ande
rson ) Mよびブレーランド(Treelan4
 )のランプ後処理装置、大ざさ300 X 4oo 
w、管状型:フィリップス(Ph1lips ) TU
V 40 Wが使用された。
臭素による後処理に対してを工、通常の既知浸漬浴が使
用された。
フレキソグラフィック凸版印刷板の元1金品版層の印刷
表面の粘着性が、ペンデュラム法により測定された。こ
のために光重金品板層から、平形試料がカットされて、
この試料についてペンデュラム法粘着性価が測定された
。この場合に、よく知られているように振り子と結合し
ている円筒が、当該表面上に載せられ振り子の一定の傾
きによって、振り子の振蛸から静止までの回数が測定さ
れた。当該表面が粘着性であればあるほど、振り子の振
動が強く抑制されて、従ってペンデュラム法粘着性価が
低く押さえられろ。
実施例1から6Rよび比較試験v1からv4フレキソグ
ラフィック凸版印刷板の本発明方法による製造(実施例
1かも6)′j6よび非発明法による製造方法(比較試
験vlから■4):試験処方: 実施例1から61でと比較試験■1から■4までとの実
施のために使用される感元注記録素子は、合計厚さ28
40μrnY:有し、それぞれに2700μm厚さの光
重合性凸版生成記録層(B)、および140μm厚さの
ポリウレタン接着ラッカーで積層されたポリエチレンテ
レフタレートフィルムの寸法安定性担体(A)とから、
なりたっている。
表1は、それぞれに使用された光重合性凸版生成記鋏層
(B)の物質組成、Sよび感元注記録素子乞さらに加工
する際に適用された製造条件と2、再び示している。ペ
ンデュラム法により測定された粘着性価が、表2に集録
されている。
比較試験■5からV 14 非発明法によるフレキソグラフィック凸版印刷板の製造
であり、光重合凸版層表面の臭素含有溶液による後処理
χ含んでいろ。
試験処方: 実施例1かも6並びに比較試験Vlからv4の方法が繰
り返えされたが、唯光重金品板層乞λく300 mmの
波長紫外線光で後露光する代りに、通常の既知後処理と
して臭素含有溶液で処理された。
この場合の接触時間舎工、統一して5分間であった。
この方法で製造されたフレキソグラフィック凸版印刷板
のペンデュラム法による測定粘着性価は、表2にRいて
、実施例1かも6の価と比較試験Vlから■4の価とを
比較対照している。この場合に、 一実施例1および比較試験v5、 一実施例2i6よび比較試験■6、 一実施例3Rよび比較試験■7、 一実施例48よび比較試験V 10、 一実施例5Sよび比較試験V 11、 一実施例6および比較試験V 12、 −比較試験V1gよび比較試験■8、 −比較試験■2Sよび比較試験V 13、−比較試験V
3%よび比較試@V9並びに−比較試験v4および比較
試#v14 が直接相互に比較されることができる。
表  1(Ji!ぎ ) v6実施例2と同組成 ■7実施例3と同組成 v8比較試験Vlと同組成 ■9比較試験■3と同組成 VIO実施例1と同組成 Vll笑施例2と同組成 V12実施例3と同組成 V13比較試験v1と同組成 V14比較試験■3と同組成 表  2 フレキングラフイック凸版印刷板の光重合凸版層の印刷
表面のペンデュラム法粘着性 実施例屋 ペンデュラム法粘着性価 比較試#應 ■1 ■2 ■4 光線による後処理後 測定不能、釉層a過度、生成凸版劣恣 測足不能、粘−’iW注台度、生成凸版劣悪臭素処理後 v 5                   56■
 6                   57v 
7                   48v 8
                   55v9  
測定不能、釉層性過度、生成凸版劣悪VIO48 Vll            52 V12          45 V13          50 V14   測定不能、粘着性過度、生成凸版劣悪表2
のペンデュラム法粘着性価の比較で早速眼に入るのは、
ベンゾフェノン(b40 )だけでモ元重合開始剤とし
て、それほど悪くない活性χ示した事実である。これは
、疑問もなく、比較試験■38よびv9並びにv4およ
びV 14の結果から、明らかである。これらの比較試
験で使用された記鍮層(E)は、徹底して前露光と画像
生成露光を長くしたにもかかわらず、非常に悪い生成凸
版層を得ただけであり、しかもなお強い粘着性があった
ので、これらのペンデュラム釉層注試験は報告すること
ができなかった。
このほかに表2中で包括されているペンデュラム法粘着
性価の比較が示しているように、既知のフレキソグラフ
ィック凸版印刷板の光憲金品板層の表面(比較試験Vl
およびV2)が、本発明フレキソグラフィック凸版印刷
板の元1金品版層表面(実施例1かも6〕がタックフリ
ーとなったのに比べて、短時間ではタックフリーとなる
ことができなかった。既知のフレキソグラフィック凸版
印刷板の光重金品板層の表面(比較試pVI:MよびV
2)は、通常の既知である臭素後処理(比較試験vsg
よびv13)により得られたような、タックフリーの状
態に到達でさていない。これに対して、本発明方法で製
造された本発明フレキソグラフィック凸版印刷板(実施
例1かも6〕の光1金白版層の表面は、粘着性に関して
、通常の既知方法で臭素溶液により後処理された(比較
試#V5からV7jjよびV 10から■12)本発明
凸版印刷板の光重金品板層の表面よりも、粘着性に関し
て、より優れた品質Y示していた。本発明方法Rよびこ
のために使用した本発明記録素子の、これら特別の技術
的効果は、よく知られているように高い腐食法の臭素溶
液の使用と結び付くような商品としての欠点を残丁こと
なく、得られたものである。
さらに表2のペンデュラム粘着性価の比較からは、実施
例1かも61での中でもある程度の差があることに附子
る示唆が生れてきている。かくして、現像剤溶液2が使
用された実施例4から6では、実施例1から3までの場
合に得られると同等の優れた成果χ得るためには、λ<
 300 nm波長の光で若干長く後処理するのが必要
であった。
このほかに、ベンゾフェノン(b40 ) Y 別のg
+性化合物(b4]として使用する際(実施例3Sよび
6)には、実施例1,2,4#よび5の場合よりも、画
像生成露光のために長い時間乞必要とした。
さらに現像の場合には、若干のベンゾフェノン(b41
1 )が−緒に洗浄され(実施例3Rよび6)、置換ベ
ンゾフェノン(b41 )および(1)a?)の場合と
違っていた。
しかし以上χ綜合して、本発明方法に8いて本発明記録
素子から製造された実施例1かも6の本発明フレキソグ
ラフィック凸版印刷板は、それらの表面物性に8いても
、またそれらの印刷柱状に8いても、比較試験v5から
v8とV 10からV 13までとのフレキソグラフィ
ック凸版印刷板より明らかに優れており、比較試験の■
lおよびv2のフレキソグラフィック凸版印刷版ヲ邊か
に′凌駕している。比較試%V3%よび■9並びに■4
およびV 14の生成物は、全般的にフレキソ印刷には
使用できなかった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)A)寸法安定性の担体と B)b_1)少なくとも1種のポリマー結合剤、 b_2)ポリマー結合剤(b_1)と相溶性がある少な
    くとも1種の光重合性オレフィン不飽和モノマー、 b_3)少なくとも1種の光重合開始剤およびb_4)
    少なくとも1種の別の感光性化合物を含有する光重合性
    凸版生成記録層とを含む、タックフリーの印刷表面を有
    する凸版印刷版製造用感光性記録素子において、別の感
    光性化合物(b_4)がベンゾフェノンおよび/または
    1個又は複数の置換基を有するベンゾフェノンであり、
    このベンゾフェノンの置換基または複数置換基の少なく
    とも1つの置換基が少なくとも1つの光重合性オレフィ
    ン不飽和基であることを特徴とする感光性記録素子。
  2. (2)光重合性凸版層表面の後処理、光重合性凸版層の
    印刷表面の後処理またはエラストマー光重合性凸版層の
    印刷表面の後処理であつて、300nm以下の波長の光
    (λ<300nm)を用いる後処理に際して、ベンゾフ
    ェノンおよび/または、その置換基中または少なくとも
    1つのその置換基中に、少なくとも1つの光重合性オレ
    フィン不飽和基を有する1個又は複数の置換基を有する
    ベンゾフェノンを使用する方法。
JP2058248A 1989-03-13 1990-03-12 タックフリーの印刷表面を有する凸版印刷板製造用感光性記録素子及びその用途 Pending JPH02273751A (ja)

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4300856A1 (de) * 1993-01-15 1994-07-21 Basf Lacke & Farben Lichtempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Reliefdruckplatte
AU1165495A (en) * 1994-02-18 1995-09-28 Polyfibron Technologies, Inc. Polymeric composition and method for surface detackification
DE69704969T2 (de) * 1996-02-20 2002-04-04 Asahi Kasei K.K., Osaka Verfahren zur Herstellung einer photoempfinflichen Kunstoffdruckplatte
JP2003043673A (ja) * 2001-07-26 2003-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版の製版方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3871885A (en) * 1971-05-18 1975-03-18 Du Pont Crystalline photo-polymerizable composition
JPS53143669A (en) * 1977-05-23 1978-12-14 Asahi Chem Ind Co Ltd Elimination of surface tuckiness of radically-polymerizable resin cured product
JPS55135838A (en) * 1979-04-12 1980-10-23 Asahi Chem Ind Co Ltd Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate
US4281152A (en) * 1980-06-20 1981-07-28 Gulf Oil Corporation Acrylate monomers and photopolymerizable compositions containing same

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