JPH02121836A - 透明熱線反射積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な透明熱線反射積層体に関するものであ
り、さらに詳しくは自動車、鉄道車輌、船舶等の窓、冷
凍ケースの窓等に好適に用いられる透明熱線反射積層体
に関するものである。

［従来の技術］ 従来、透明熱線反射体としては銀薄膜を応用したものが
知られている。第１のタイプは銀単層膜の片面または両
面に誘電体薄膜を積層した基本構成のものであり、米国
特許箱４，１７９，１８１号明細書や同第４，３３７．
９９０号明細書に記載されている。また第２のタイプは
２層の銀薄膜間に誘電体薄膜を挟んだ基本構成のもので
あり、米国特許箱３，６８２，５２８号明細書や特開昭
５９−５２６４１号公報に記載されている。

従来、透明熱線反射体に要求される特性としては一般に
次の２点が重要である。

（１）目視による透明性が高いこと、すなわち可視光線
透過率が高くかつ可視光線反射率が低いこと、 （２）　　太陽エネルギー遮断率が高いこと。

しかしながら、近年、かかる特性に対する要求水準はま
すます高いものとなっており、可視光線透過率７０％以
上、可視光線反則率１２％以下、太陽エネルギー遮断率
４５％以上という非常に高い要求値の例もおる。

また工業的には積層構成が単純で生産性が良いことが重
要である。

本発明者らは上記第１のタイプの構成について前述の米
国特許を参照しつつ検討を行なったが１、透明性を高め
ることと太陽エネルギー遮断率を高めることは相反する
関係にあり、おる程度の性能を得ることはできるが、前
述の例のごとき高い要求値を同時に満すことは困難であ
った。

次に本発明者らは第２のタイプの構成について検討した
。その結果、−窓以上の透明性を得るためには銀薄膜の
厚さを一層について約１００Å以下にしなければならな
いが、一方眼薄膜の厚さが約１００Å以下になると透明
熱線反射体の太陽エネルギー遮断率が急激に低下してし
まうことがわかった。この現象は米国特許箱３，６８２
，５２８号明細書に）ホベられているように銀薄膜の厚
さが約１００Å以下になると均一な膜形成が困難になり
、分断した島状構造になるためと推察される。

これに対して該米国特許では、下地層としてニッケルな
どの薄い膜を設けることによって銀薄膜の均一形成が促
されるとしている。しかしながら、この技術では該特許
の実施例に記載されているように６層や９層といった多
層膜を形成しなければならず、工業的には問題があった
。

また特開昭５９−５２６４１号公報では第２のタイプの
２層の銀薄膜間に挟む誘電体薄膜の材料として有機化合
物を用いることを提案しているが、銀薄膜は２層ともス
パッタリングなどの真空プロセスで形成するのに対して
中間層である誘電体薄膜の材料を塗工法によって得られ
る有機化合物の層で形成しているため工程が複雑になり
、工業的に問題があった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明はかかる従来技術の諸欠点に鑑み創案されたもの
でおり、その目的は透明性と太陽エネルギー遮断率がと
もに高く、しかも工業的な生産性に優れた透明熱線反射
積層体を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ かかる本発明の目的は、基体（Ｓ）と厚さ５０Å以上１
１０人未満の銀−チタン合金薄膜（Ｍ）と誘電体薄膜（
Ｄ）とを備えた透明熱線反射積層体であって、該銀−チ
タン合金膜（Ｍ）と該誘電体薄膜（Ｄ）とは上記積層体
中で少なくとも（Ｍ／Ｄ／Ｍ）の順序で積層されてなる
透明熱線反射積層体により達成される。

すなわち、本発明の透明熱線反射積層体はその積層体中
に基本積層構成として、銀−チタン合金薄膜（Ｍ）／誘
電体薄膜（Ｄ）／銀−チタン合金膜（Ｍ）の積層単位を
有することを特徴とするものである。

したがって、基体（Ｓ）、銀−チタン合金薄膜（Ｍ）お
よび誘電体薄膜（Ｄ）を、（Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ）の順序で
積層するのが最もシンプルな構成となるものであるが、
（Ｓ／Ｄ／Ｍ／Ｄ／Ｍ）または（Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ＞
の積層構成をとった方が、可視光線透過率が高く、可視
光線反射率が低くなるため好ましく、さらに（Ｓ／Ｄ／
Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ＞の構成をとることが好ましい。

そして本発明によれば、上述のいずれの構成を採った場
合にも、透明性と太陽エネルギー遮断性の著しく優れた
高品位な透明熱線反射積層体を得ることかできる。

第１図〜第３図はそれぞれ上述のような本発明の透明熱
線反射積層体の積層構造の１例を説明するものである。

すなわち、図において１は基体（Ｓ）、２は銀−チタン
合金薄膜（Ｍ）、３は誘電体薄膜（Ｄ）、４は裏面酸化
物薄膜、５は接着剤層、６はガラスまたはプラスチック
であり、第１図はこれらが１（Ｓ）／２　（Ｍ）／３　
（Ｄ＞／２　（Ｍ＞の順序に積層されたもの、第２図は
これらが１　（Ｓ）／３（Ｄ＞／２　（Ｍ）／３　（Ｄ
）／２　（Ｍ）／３　（Ｄ＞の順序に積層された例、第
３図はこれらが６１５／４／１（Ｓ）／３　（Ｄ）／２
　（Ｍ）／３　（Ｄ）／２　（Ｍ）／３　（Ｄ＞１５／
６の順序に積層された例を示すものである。

本発明において使用される基体としては透明なプラスチ
ックフィルム、プラスチック板、ガラス等を用いること
ができるが、実用上プラスチックフィルムがより適して
いる。

プラスチックフィルムとしては次の代表的な有機重合体
を溶融または、溶融押出して、必要に応じて長手方向お
よび／または幅方向に延伸したものが使用できる。

代表的有機重合体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエ
ステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン、ナイロン６、ナイロン１２などのポリアミド、
芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポ
リエーテルイミド、ポリサンフォン、ポリエーテルサル
フォン、ポリエーテルエーテルケトン、ボリアリレート
、ボリフエニレンサルフフイド、ポリフェニレンオキサ
イドなどが挙げられる。

これらのプラスチックムの中でも機械的特性、透明性、
コスト等の観点から二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルムが最も適している。

これらのプラスチックフィルムは同種または異種のもの
を２層以上積層してもよい。

また、これらの共重合体や他の有機重合体との共重合体
であってもよく、他の有機重合体を含有するものであっ
てもよい。これらの有機重合体中には、公知の添加剤、
例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可
塑剤、滑剤などが添加されていてもよい。

また、プラスチックフィルムには、予めコロナ放電処理
、プラズマ処理、グロー放電処理、逆スパツタ処理およ
び粗面化処理などの表面処理や、公知のアンカーコート
処理が施されていてもよい。

プラスチックフィルムの厚さは、特に制限を受けないが
、可撓性および形態保持性の点から１０〜２００μｍの
範囲が好ましく、より好ましくは２５〜１００μｍの範
囲であることが望ましい。

本発明において使用される銀−チタン合金薄膜（Ｍ）と
は銀とチタンが単一の薄膜中に共存する薄膜をいい、好
ましくは少量のチタンを含有する銀−チタン合金薄膜を
使用するのがよい。

かかる銀−チタン合金薄膜（Ｍ）はその２層が誘電体薄
膜（Ｄ）を介して積層され（Ｍ）／　（Ｄ）／（Ｍ）の
形で積層体中で存在することが重要である。

本発明の銀−チタン合金薄膜は種々の方法で形成できる
。例えば銀とチタンの合金を用いて減圧された真空チェ
ンバー中で蒸着やイオンブレーティあるいはスパッタリ
ングする方法、あるいは銀とチタンとを別々に真空蒸着
やイオンプレーティあるいはスパッタリングする多元蒸
着法や多元スパッタリング法などによっても作製できる
が、緻密で均一性の良い膜を形成できる点からスパッタ
リング法が好ましい。特に膜形成速度の速いＤＣマグネ
ットスパッタリング法が好ましい。

第４図は本発明において使用される装置の１例として巻
取式ＤＣＣマグ上ロンスパッタリング装置を示す。基体
１６はドラム１３に沿って走行し、ターゲット１４の部
位でスパッタリングにより薄膜が形成される。第４図で
はターゲット１４およびガス導入管１５を１組だけ示し
たが、複数のターゲットを例えば１４′、１４′のよう
な位置に設けることができ、これにより複数層の薄膜を
順次形成することができる。

本発明で使用される銀−チタン合金薄膜の１層当りの膜
厚は５０Å以上１１０人未満であることが必要で必る。

膜厚が５０人未満の場合には透明性は良いが、太陽エネ
ルギー遮断率が低下してしまうため好ましくなく、また
１１０Å以上であると可視光線透過率が低下し、可視光
線反射率が増加してしまうため好ましくない。

銀−チタン合金薄膜中のチタン比率は特に限定されない
が、薄膜状態で高い太陽エネルギー遮断性を得ることお
よび膜の光吸収を防ぎ良好な透明性を保持させる点から
は、０．２重量以上、３゜０重量％未満の範囲で使用す
るのがよく、より好ましくは０．５重量％以上、１．８
重量％未満である。

銀−チタン合金薄膜中には本発明の目的ないし効果を損
わない範囲で他の成分、例えば金、銅、アルミニウムな
どの金属成分が共存していてもよい。

銀−チタン合金薄膜の膜厚測定法は次のとありでおる。

まず、薄膜断面の超薄切片を切り出し、透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ＞を用い、倍率２０倍ζたご ＾ 程度以上で写真をｒｉ影する。写真上で銀−チタン合金
薄膜の膜厚を実測し、実測値を倍率で除することにより
膜厚を求めることができる。このような方法で求めた膜
厚は通常、幾何学的膜厚と呼ばれる。

銀−チタン合金薄膜のチタン比率は、公知の方法、例え
ば原子吸光光度法によって銀およびチタンの付着量をそ
れぞれ定量して付着重量を求め、チタンの付着重量を銀
およびチタンの付着重量の和で除した値をチタン比率と
する。

本発明において使用される誘電体薄膜は、銀−チタン合
金薄膜における可視光線の反射を防止するため、好まし
くは銀／チタン合金薄膜の片面または両面に積層されて
使用されるもので、その材質は特に限定されないが、好
ましくは無機物質の薄膜、例えば酸化アルミニウム、酸
化ケイ素、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸
化タンタル、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ（インジウム−
スズ酸化物）等の酸化物やフッ化マグネシウム、フッ化
カルシウム等のフッ化物等の薄膜を用いるのがよい。良
質の膜が容易に得られやすい点からは酸化スズ、酸化チ
タン、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウ
ムおよびＩＴＯを使用するのがよい。

これらの誘電体薄膜の形成方法としは、原料物質として
酸化物等を用いて通常の真空蒸着法、イオンブレーティ
ング法、スパッタリング法等により形成する方法、おる
いは原料物質として金属等を用い、酸素等を導入しなが
ら反応させて膜形成を行なう、いわゆる反応性蒸着法、
反応性イオンブレーティング法、反応性スパッタリング
法等を用いてもよい。

特に誘電体薄膜を無機物質を使用して真空プロセスによ
り形成する場合には、（銀−チタン合金薄膜／誘電体薄
膜／銀−チタン合金薄膜）の基本構成を同一の装置、プ
ロセスを使用して連続的に形成でき、設備生産性の向上
および工程の簡略化等に大きく寄与するものでおる。

屈折率が１．８以上２．５未満の比較的高屈折率の無機
物質で薄膜を形成すると低屈折率物質を用いた場合に比
べて薄い膜厚で同等の効果が得られるため工業的な生産
性が高く好ましい。

誘電体薄膜の膜厚としては特に限定されないが、２層の
銀−チタン合金薄膜の中間に設ける場合、屈折率によっ
て多少の変化があるが、おおむね５００〜１０００人程
度の膜厚を選択するのがよい。

膜厚が５００〜１０００人からずれて厚すぎたり簿すぎ
ると可視光透過率が低下し、透明性が悪化し好ましくな
い。

誘電体薄膜を２層の銀−チタン合金薄膜間に挟持した積
層体（Ｍ／Ｄ／Ｍ）の片面または両面に誘電体薄膜を形
成する場合の膜厚としては約７００Å以下でおることが
好ましい。またこの場合の誘電体薄膜の材質としては前
述のごとく無機物質であることが好ましいが、銀−チタ
ン合金薄膜の中間に設ける場合に比べて透明熱線反射積
層体の特性に対する影響が小さいため、有機物質を使用
して塗工方式で形成することもできる。

誘電体薄膜の膜厚は銀−チタン合金薄膜の場合と同様に
して断面超薄切片のＴＥＭ写真から求めることができる
。

本発明の透明熱線反射積層体の積層構成は、基体（Ｓ）
、銀−チタン合金薄膜（Ｍ）および誘電体薄膜（Ｄ）を
、（Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ＞の順序で積層するのが最もシンプ
ルな構成をなすものであるが、光学特性の点からは（Ｓ
／Ｄ／Ｍ／Ｄ／Ｍ）または（Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ＞の積
層構成をとったものが好ましく、ざらに好ましくは（Ｓ
／Ｄ／Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ）の構成をとることが望ましい。

いずれにせよ、本発明の積層体中に（Ｍ／Ｄ／Ｍ）を基
本構成とする特定の積層構成を有することが重要でおる
。

そして本発明によれば、上述の構成を採ることにより、
透明性と太陽エネルギー遮断性が著しく優れた高品位な
透明熱線反射積層体を得ることができる。

（Ｍ／Ｄ／Ｍ）からなる３層構成の片面または両面に誘
電体薄膜（Ｄ）を積層することにより色調の落ちついた
外観となり好ましい。

基体の裏面側には第３図に例示するごとく、接着性向上
を目的として酸化物薄膜を形成してもよい。酸化物とし
ては誘電体薄膜に使用されるものと同様なものが使用可
能であり、その膜厚は５Å以上５００人未満が好ましく
、より好ましくは５Å以上１００人未満である。

透明熱線反射積層体に積層する接着剤層としてはポリビ
ニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポ
リエステルコポリマー、ポリプロピレンコポリマー等が
挙げられる。またその積層方法としては適切な溶媒を用
いて溶液化し塗工する方法、加熱溶融押出しして塗工す
る方法あるいはシート状の接着剤層を熱圧着する方法等
が採用できる。

接着剤層を積層する面は透明熱線反射積層体の片面また
は両面のいずれでもよく、使用状況に応じて選択すれば
よく、これにより窓等に貼付する際など、使用上の利便
性を高めることができる。

透明熱線反射積層体を接着剤層を介して積層するガラス
またはプラスチック板としては、自動車、鉄道車輌、船
舶、航空機等の窓、建物の窓、ドア、ショーウィンドウ
等、冷凍ショーケース等に用いられる平板状または曲面
状のガラスやプラスチック板である。

透明熱線反射積層体を積層する面はガラスやプラスチッ
ク板のいずれの面でもよく、また２層のガラスやプラス
チック板の間に挟み込んでもよい。

［実施例］ 以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれらに限定されない。なお実施例中の特性の測定お
よび計算方法には、次の方法を用いた。

く特性の測定・計算法〉 （１）　　可視光線透過率（Ｔｖ＞ ＪＩＳ　　Ａ３７５９記載の方法により分光透過率を測
定し、ＪＩＳに記載された計算式にしたがって計算し、
可視光線透過率を求める。但し、試験片の作り方につい
ては上記ＪＩＳの記載の方法に限られるものではなく、
実際の使用状態に応じた任意の試料で測定を行なう。試
料については以下の測定についても同様である。

（２）　　可視光線反射率（ＲＶ） 上記可視光線透過率の場合に準じて分光反射率を測定し
、計算式にしたがって計算し、可視光線反射率を求める
。

（３）　　太陽エネルギー遮断率（ＳＲ）ＪＩＳ　　Ａ
３７５９記載の方法により測定、計算を行ない、太陽放
射透過率（ＴＥ）および太陽放射反射率（Ｒ１）を求め
、次式により太陽エネルギー遮断率（ＳＲ＞を求める。

５Ｒ＝ＲＥ＋０．７３　（１００−ＲＥ　　−ＴＥ　＞
実施例１ 第４図に示したものと同様な巻取式ＤＣマグネトロンス
パッタリング装置を用いて積層膜を形成した。

すなわち、まず厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東しく株）Ｗａ″ルミラー”）
を基体として、基体を走行させながら厚さ８０人の銀−
チタン合金薄膜を形成した後、該銀−チタン合金薄膜上
に、厚さ７００人のＩＴＯ薄膜、さらにこの上に厚さ８
０人の銀−チタン合金薄膜を順次形成した。

なお銀−チタン合金薄膜のスパッタリングターゲットと
しては、チタン比率１．０重量％、残りが銀の銀−チタ
ン合金ターゲットを使用し、またＩＴＯターゲットとし
ては酸化スズの比率が５゜０重量％、残りが酸化インジ
ウムのＩＴＯターゲットをそれぞれ使用し、積層順にし
たがって３個のターゲットを設置した。またスパッタガ
スとして銀−チタン合金薄膜の場合は銀−チタン合金タ
ーゲットの表面近傍にアルゴンガス（流１０．１５ｆｆ
／ｍ１ｎ）を導入して行ない、またＩＴＯ薄膜の場合は
ＩＴＯターゲットの表面近傍に酸素を３体積％混入した
酸素−アルゴン混合ガス（流量０．２０ｆｆ／ｍｉ　ｎ
）を導入しながら同一装置内で順次連続的に積層膜を形
成した。フィルム走行速度は１ｍ／ｍｒ　ｎとし、各層
の膜厚はスパッタリングパワーをターゲット毎に設定し
てコントロールした。

得られた積層膜について、原子吸光光度法による定量分
析および超薄切片によるＴＥＭ観察を行なった結果、銀
−チタン合金薄膜およびＩＴＯ薄膜の膜厚はそれぞれ８
０人および７００人であり、また膜の組成が使用したタ
ーゲットの組成とよく一致していることを確認した。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、可
視光透過率ＴＶ、可視光反射率Ｒｖおよび太陽エネルギ
ー遮断率ＳＲを計算した結果、ＴＶ＝７４％、ＲＶ＝１
０％および５Ｒ＝５０％でめった。

実施例２ 厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東しく株）製　゛ルミラー″）を基体とし、実
施例１と同様にして厚さ６０人の銀−チタン合金薄膜、
厚さ６００人のＩＴＯ薄膜および厚さ６０人の銀−チタ
ン合金薄膜をこの順序で順次形成した。

膜厚みよび膜の組成は実施例１と同様にして確認した。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、Ｔ
ｖ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、ＴＶ＝７５％、
ＲＶ＝８％および５Ｒ＝４６％であった。

実施例３ 厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東しく株）製　″゛ルミラーパを基体とし、積
層構成に応じてそれぞれスパッタリングターゲットを配
設した他は、実施例１と同様にして（ＩＴＯ薄膜／銀−
チタン合金薄膜／ＩＴｏ薄膜／銀−チタン合金薄膜／Ｉ
ＴＯ薄膜）積層膜をこの順序で形成した。各層の膜厚は
（３５０人／９０人／７００大／９０大／３５ｏ人）で
あった。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、Ｔ
Ｖ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、ＴＶ＝７１％、
ＲＶ＝１０％；１３　ヨＵ　Ｓ　Ｒ＝　５２　％であっ
た。

実施例４ 誘電体薄膜として、金属錫ターゲットを、酸素４０体積
％、アルゴン６０体積％の混合ガス導入下で反応性スパ
ッタリングを行なって形成した酸化スズ薄膜を用いた以
外は実施例３と同様にして（酸化スズ薄膜／銀−チタン
合金薄膜／酸化スズ薄膜／銀−チタン合金薄膜／酸化ス
ズ薄膜）積層膜をこの順序で形成した。各層の膜厚は（
３００人／７０人／７５０人／７０人／３００人）であ
った。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、Ｔ
Ｖ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、ＴＶ＝７４％、
ＲＶ＝８％および５Ｒ＝４９％であった。

実施例５ 実施例３と同一の透明熱線反射積層体の両面にそれぞれ
厚さ３８０μｍのポリビニルブチラールを介して厚さ３
ｍｍのガラスを積層し、熱圧着して合せガラス状の透明
熱線反射積層体を得た。

この合せガラス状の透明熱線反射積層体について分光測
定を行ない、ＴＶ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、
ＴＶ＝７２％、ＲＶ＝１０％および５Ｒ＝５２％であっ
た。

実施例６ 厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフイムに反
応性マグネトロンスパッタリング法によって厚さ３０人
の酸化チタン薄膜を形成した。このフィルムを基材とし
、酸化チタン薄膜形成面と反対の面に実施例１と同様に
して透明熱線反射積層体を形成した。

この透明熱線反射積層体を実施例５と同様にしてガラス
と積層し、合せガラス状の透明熱線反射積層体を得た。

この合せガラス状の透明熱線反射積層体について分光測
定を行ない、ＴＶ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、
ＴＶ＝７３％、ＲＶ＝９％および５Ｒ＝５３％であった
。

比較例１ 各層の構成を厚さ１５０人の銀−チタン合金薄膜、厚さ
７００人のＩＴＯ薄膜および厚さ１５０人の銀−チタン
合金薄膜とした以外は実施例１と同様にして透明熱線反
射積層体を形成した。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、Ｔ
ｖ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、ＴＶ＝５９％、
ＲＶ−１９％および５Ｒ＝６２％であった。

比較例２ 銀−チタン合金ターゲットに代えて銀ターゲットを用い
た以外は実施例２と同様にして（ＩＴＯ薄膜／銀−チタ
ン合金薄膜／ＩＴｌ膜／銀−チタン合金薄膜／ＩＴＯ薄
膜）積層膜をこの順序で形成した。各層の膜厚は（３５
０人／７０人／７００人／７０人／３５０人）であった
。

この透明熱線反射積層体について分光測定を行ない、Ｔ
Ｖ、ＲＶおよびＳＲを計算したところ、ＴＶ＝６５％、
ＲＶ＝１０％および５Ｒ＝４０％であった。

比較例３ 膜厚構成を（３５０人／３０大／７００人／３０人／３
５０人）とした以外は実施例３と同様にして（ＩＴＯ薄
膜／銀−チタン合金薄膜／ＩＴＯ薄膜／銀−チタン合金
薄膜／ＩＴＯ薄膜）積層膜をこの順序で形成した。

この透明熱線反射積層体を実施例４と同様にしてガラス
と積層し、合せガラス状の透明熱線反射積層体を得た。

この合せガラス状透明熱線反射積層体について分光測定
を行ない、ＴＶ、ＲｖおよびＳＲを計算したところ、Ｔ
Ｖ＝７５％、Ｒｖ＝８％および５Ｒ＝３０％であった。

比較例４ 積層構成および膜厚を（■ＴＯＮ膜／銀−チタン合金薄
膜／ＩＴＯＩ膜）、ｔｊ、Ｊｌ：ヒ（４００人／１４０
人／４００大）とした以外は実施例１と同様にして積層
膜を形成した。

この透明熱線反射積層体を実施例４と同様にしてガラス
と積層し、合せガラス状の透明熱線反射積層体を得た。

この合せガラス状透明熱線反射積層体について分光測定
を行ない、Ｔｖ、ＲｖおよびＳＲを計算したところ、Ｔ
Ｖ＝６０％、ＲＶ＝２３％および５Ｒ＝４９％であった
。

［発明の効果］ 本発明の透明熱線反射積層体は上述のごとく基本積層構
成を銀−チタン合金薄膜、誘電体薄膜および銀−チタン
合金薄膜をこの順に形成した積層体で構成するとともに
、該銀−チタン合金薄膜の膜厚を５０Å以上１１０大未
満としたため、透明性と太陽エネルギー遮断性がともに
極めて高い高品位の透明熱線反射積層体を確実に得るこ
とができたものである。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図はそれぞれ本発明の透明熱線反射積層体
の積層構成を例示する概略断面図、第４図は本発明で用
いるスパッタリング装置の１例を示す概略断面図である
。 １：基体　　　　　２：銀−チタン合金薄膜３：誘電体
薄膜　　４：裏面酸化物薄膜５ニガラスまたはプラスチ
ック板 １１：真窄槽　　　　１２：排気口 １３ニドラム　　　　１４：ターゲット１５：ガス導入
管　　１６：基体。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　基体（Ｓ）と厚さ５０Å以上１１０Å未満の銀−チ
   タン合金薄膜（Ｍ）と誘電体薄膜（Ｄ）とを備えた透明
   熱線反射積層体であって、該銀−チタン合金膜（Ｍ）と
   該誘電体薄膜（Ｄ）とは上記積層体中で少なくとも（Ｍ
   ／Ｄ／Ｍ）の順序で積層されてなる透明熱線反射積層体
   。 ２　基体（Ｓ）と厚さ５０Å以上１１０Å未満の銀−チ
   タン合金薄膜（Ｍ）と誘電体薄膜（Ｄ）とを備え、これ
   らが（Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ）、（Ｓ／Ｄ／Ｍ／Ｄ／Ｍ）、（
   Ｓ／Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ）または（Ｓ／Ｄ／Ｍ／Ｄ／Ｍ／Ｄ
   ）のいずれかの順序で積層されてなる透明熱線反射積層
   体。 ３　銀−チタン合金薄膜中のチタン比率が０．２重量％
   以上３重量％未満である請求項１または２記載の透明熱
   線反射積層体。 ４　銀−チタン合金薄膜中のチタン比率が０．５重量％
   以上１．８重量％未満である請求項３記載の透明熱線反
   射積層体。 ５　２層の銀−チタン合金薄膜の中間に配設された誘電
   体薄膜が無機物質である請求項１または２記載の透明熱
   線反射積層体。 ６　無機物質が酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン
   、酸化ジルコニウム、酸化タンタルおよびＩＴＯの群か
   ら選ばれる少なくとも１種である請求項５記載の透明熱
   線反射積層体。 ７　基体がプラスチックフィルムである請求項１または
   ２記載の透明熱線反射積層体。 ８　基体が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
   ムである請求項１または２記載の透明熱線反射積層体。 ９　基体の熱線反射層が形成されていない裏面側に酸化
   物薄膜を有する請求項２記載の透明熱線反射積層体。 １０　積層体の片面または両面に接着剤層を有してなる
   請求項１または２記載の透明熱線反射積層体。 １１　積層体の片面または両面に接着剤層を介してガラ
   スまたはプラスチック板を有してなる請求項１または２
   記載の透明熱線反射積層体。 １２　可視光線透過率が７０％以上、可視光線反射率が
   １２％以下および太陽エネルギー遮断率が４５％以上で
   ある請求項１または２記載の透明熱線反射積層体。 １３　可視光線透過率が７０％以上、可視光線反射率が
   １２％以下および太陽エネルギー遮断率が４５％以上で
   ある請求項１１記載の透明熱線反射積層体。