JPH02122070U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02122070U JPH02122070U JP1989030884U JP3088489U JPH02122070U JP H02122070 U JPH02122070 U JP H02122070U JP 1989030884 U JP1989030884 U JP 1989030884U JP 3088489 U JP3088489 U JP 3088489U JP H02122070 U JPH02122070 U JP H02122070U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- frame
- holding frame
- free rotation
- holding
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
第１図はこの考案に係る基板ホルダの斜視図、
第２図は同上ホルダにより基板を溶液中に浸した
状態の断面図である。 １……基板、２……フラツト部、３……基板ホ
ルダ、４……操作棒、５……支持棒、６……基板
保持枠体、７……外周枠部、８……基板載置部、
９……フラツト部、１０……溶液。
第２図は同上ホルダにより基板を溶液中に浸した
状態の断面図である。 １……基板、２……フラツト部、３……基板ホ
ルダ、４……操作棒、５……支持棒、６……基板
保持枠体、７……外周枠部、８……基板載置部、
９……フラツト部、１０……溶液。
Claims (1)
- 円形の一部を切欠いて位置決め用フラツト部と
した外形形状の基板を保持して結晶材料の溶液中
に浸漬するための器具であつて、操作棒の下端部
に複数の支持棒を介して基板保持枠体を吊下した
構成で、前記基板保持枠体は、前記基板の外形形
状より適宜に大きいほぼ相似形で、前記フラツト
部により前記基板の自由な回転を妨げる外周枠部
と、この外周枠部の下端面の内周側に一体に形成
された基板載置部とからなることを特徴とする液
相結晶生長用の基板ホルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989030884U JPH02122070U (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989030884U JPH02122070U (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02122070U true JPH02122070U (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=31256326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989030884U Pending JPH02122070U (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02122070U (ja) |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1989030884U patent/JPH02122070U/ja active Pending