JPH02122441A - 光記録媒体用基板 - Google Patents
光記録媒体用基板Info
- Publication number
- JPH02122441A JPH02122441A JP63274414A JP27441488A JPH02122441A JP H02122441 A JPH02122441 A JP H02122441A JP 63274414 A JP63274414 A JP 63274414A JP 27441488 A JP27441488 A JP 27441488A JP H02122441 A JPH02122441 A JP H02122441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recording medium
- optical recording
- polymethyl methacrylate
- reflectance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は光記録媒体用基板に関する。
［従来の技術］
従来、光記録媒体用基板材料として、アクリル樹脂が光
学特性が優れているためによく使用されている。例えば
、アクリル樹脂を使用してインジェクション成形法によ
り光記録媒体用基板を作製する場合、成形時の流動性を
得るために低分子量タイプのアクリル樹脂を用いている
が、得られた光記録媒体用基板は機械的特性及び耐溶剤
性に劣り、使用上問題があった。
学特性が優れているためによく使用されている。例えば
、アクリル樹脂を使用してインジェクション成形法によ
り光記録媒体用基板を作製する場合、成形時の流動性を
得るために低分子量タイプのアクリル樹脂を用いている
が、得られた光記録媒体用基板は機械的特性及び耐溶剤
性に劣り、使用上問題があった。
したかって、光記録媒体用基板材料としてアクリル樹脂
を使用する場合には、一般に注型成形法が利用されてい
る。
を使用する場合には、一般に注型成形法が利用されてい
る。
［発明か解決しようとする課題］
一方、光ディスク又は光カートなどの光記録媒体用基板
上に、有機染料又は顔料を用いて記ＲＦｅを形成する方
法は、従来、溶媒に染料又は顔料を溶解した溶液を基板
表面に塗布した後、溶媒を蒸発させて記録膜として形成
する方法が行われている。塗布方法としては、通常、ス
ピンコード。
上に、有機染料又は顔料を用いて記ＲＦｅを形成する方
法は、従来、溶媒に染料又は顔料を溶解した溶液を基板
表面に塗布した後、溶媒を蒸発させて記録膜として形成
する方法が行われている。塗布方法としては、通常、ス
ピンコード。
ロールコート、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷
又はグラビア印刷等が用いられている。
又はグラビア印刷等が用いられている。
しかしながら、注型成形法により作製されたアクリル樹
脂基板に、記録媒体として有機染料を使用した場合には
、アクリル樹脂基板表面において樹脂を形成する高分子
物質のモノマーの過度の残留かアクリル樹脂基板上に塗
布した有機染料からなる記録媒体の反射率等の特性劣化
を生ずるという問題かあった。
脂基板に、記録媒体として有機染料を使用した場合には
、アクリル樹脂基板表面において樹脂を形成する高分子
物質のモノマーの過度の残留かアクリル樹脂基板上に塗
布した有機染料からなる記録媒体の反射率等の特性劣化
を生ずるという問題かあった。
本発明は、この様な従来技術の問題を解決するためにな
されたものであり、アクリル樹脂基板に含有される未硬
化モノマーを５００ｐｐｍ以下とすることにより、基板
上に形成される記録媒体の有機染料との相互作用を防ぎ
、反射率等の特性の低下を防止した光記録媒体用基板を
提供することを目的とするものである。
されたものであり、アクリル樹脂基板に含有される未硬
化モノマーを５００ｐｐｍ以下とすることにより、基板
上に形成される記録媒体の有機染料との相互作用を防ぎ
、反射率等の特性の低下を防止した光記録媒体用基板を
提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
即ち、本発明は、注型成形法により作製されたポリメチ
ルメタクリレートよりなる光記録媒体用基板において、
前記ポリメチルメタクリレート中に含有されている未硬
化モノマーが５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする
光記録媒体用基板である。
ルメタクリレートよりなる光記録媒体用基板において、
前記ポリメチルメタクリレート中に含有されている未硬
化モノマーが５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする
光記録媒体用基板である。
本発明において、光記録媒体用基板（以下、基板と記す
）のポリメチルメタクリレート中に含有されている未硬
化モノマー量は、 ５００ｐｐｍ以下、好ましくは３０
０ｐｐｍ以下が望ましい。５００ｐｐｍを越えると基板
上に形成される記録媒体の有機染料と基板の残留未硬化
モノマーの相互作用により、記録媒体の反射率等の特性
の低下を引き起こすために好ましくない。
）のポリメチルメタクリレート中に含有されている未硬
化モノマー量は、 ５００ｐｐｍ以下、好ましくは３０
０ｐｐｍ以下が望ましい。５００ｐｐｍを越えると基板
上に形成される記録媒体の有機染料と基板の残留未硬化
モノマーの相互作用により、記録媒体の反射率等の特性
の低下を引き起こすために好ましくない。
また、基板のポリメチルメタクリレート中に含有されて
いる未硬化上ツマー量を５００ｐｐａ＋以下に設定する
具体的方法は、注型成形法における成形条件を適切に設
定することにより行なうことかできる。
いる未硬化上ツマー量を５００ｐｐａ＋以下に設定する
具体的方法は、注型成形法における成形条件を適切に設
定することにより行なうことかできる。
［作用］
本発明は、注型成形法により作製されたポリメチルメタ
クリレートよりなる基板において、ポリメチルメタクリ
レート中に含有されている未硬化子ツマ−を５００ｐｐ
ｍ以下とすることにより、基板の残留未硬化上ツマー量
を低く押え、基板上に形成される記録媒体の有機染料と
未硬化モノマーの相互作用により、記録媒体の反射率等
の特性が低下することを防止することか可使となる。
クリレートよりなる基板において、ポリメチルメタクリ
レート中に含有されている未硬化子ツマ−を５００ｐｐ
ｍ以下とすることにより、基板の残留未硬化上ツマー量
を低く押え、基板上に形成される記録媒体の有機染料と
未硬化モノマーの相互作用により、記録媒体の反射率等
の特性が低下することを防止することか可使となる。
［実施例］
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１
第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明のポリメチルメタクリレ
ート基板を注型成形法により製造する方法を示す工程図
である。
ート基板を注型成形法により製造する方法を示す工程図
である。
第１図（ａ）は注型成形用型１を示し、厚さ３■のガラ
ス板上に、クロムてバターニングされたフリフォーマッ
トパターン２を形成したものである。その注型成形用型
ｌと鏡面研磨された鏡面型５をスペーサ４を介して、第
１図（ｂ）に示すように組み立てて注型成形装置とした
。該注型成形装置に、以下の配合組成の液状樹脂３を注
入し、１２０°Ｃて１，２，４，６．１２時間の各時間
硬化を行ない、それぞれサンプル基板とした。
ス板上に、クロムてバターニングされたフリフォーマッ
トパターン２を形成したものである。その注型成形用型
ｌと鏡面研磨された鏡面型５をスペーサ４を介して、第
１図（ｂ）に示すように組み立てて注型成形装置とした
。該注型成形装置に、以下の配合組成の液状樹脂３を注
入し、１２０°Ｃて１，２，４，６．１２時間の各時間
硬化を行ない、それぞれサンプル基板とした。
（配合組成）
メタクリＪし酸メチル ７０冑ｔ％メタ
クリル酸ターシャリブチル ２５ｗシ％ポリエチレ
ングリコール ジメタクリレート（分子量６２０ ） ５ｗｔ％次
に、型から脱型し、それぞれの基板６を得た。
クリル酸ターシャリブチル ２５ｗシ％ポリエチレ
ングリコール ジメタクリレート（分子量６２０ ） ５ｗｔ％次
に、型から脱型し、それぞれの基板６を得た。
これらの基板を用いて、以下に示す条件にて第２図に示
す光記録媒体を作製した。
す光記録媒体を作製した。
上記の注型成形法により作製された厚さ０．４ｍｍのポ
リメチルメタクリレート基板６を洗浄し乾燥した。次い
て、第２図に示す様に、基板のプリフォーマット部７上
に、下記の構造式（Ｉ）で示されるポリメチン系色素媒
体の濃度３．０ ｗｔ％のジアセトンアルコール溶液を
印刷塗布し、乾燥した後９００人の記録層９を形成した
。
リメチルメタクリレート基板６を洗浄し乾燥した。次い
て、第２図に示す様に、基板のプリフォーマット部７上
に、下記の構造式（Ｉ）で示されるポリメチン系色素媒
体の濃度３．０ ｗｔ％のジアセトンアルコール溶液を
印刷塗布し、乾燥した後９００人の記録層９を形成した
。
（Ｃ２１１５）２ Ｎ＋ ＋ Ｎ （Ｃ２ＩＩ
５）２ＣＩ！０４ｅ 次いで、これをホットメルトタイプのエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体からなる接着剤８により、厚さ０．３ ａ
ｍのポリメチルメタクリレートの保護基材１０と貼り合
わせ光記録媒体を作製した。
５）２ＣＩ！０４ｅ 次いで、これをホットメルトタイプのエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体からなる接着剤８により、厚さ０．３ ａ
ｍのポリメチルメタクリレートの保護基材１０と貼り合
わせ光記録媒体を作製した。
この光記録媒体の反射率を、スポット径３μｍ。
パワー０．２ｍＷ 、波長８３０ｎｍの半導体レーザー
て測定した結果、及びヘットスペースガスクロマトグラ
フ（ｌｌ５−１０１／８３００ 、パーキンエルマー製
）にて基板の未硬化モノマー量を測定した結果の関係を
第３図のグラフに示す。ただし、第３図における基板の
未硬化モノマー量は、前記基板の配合組成の樹脂の硬化
時間１，２，４，６．１２時間の各サンプル基板の残留
未硬化モノマー量８００．６００゜４００、２５０．１
１００ｐｐを示す。
て測定した結果、及びヘットスペースガスクロマトグラ
フ（ｌｌ５−１０１／８３００ 、パーキンエルマー製
）にて基板の未硬化モノマー量を測定した結果の関係を
第３図のグラフに示す。ただし、第３図における基板の
未硬化モノマー量は、前記基板の配合組成の樹脂の硬化
時間１，２，４，６．１２時間の各サンプル基板の残留
未硬化モノマー量８００．６００゜４００、２５０．１
１００ｐｐを示す。
第３図の結果より、基板に含有される未硬化モノマーを
５ｏｏｐｐ■以下におさえることにより、色素媒体の反
射率の低下を防止てきることが認られる。
５ｏｏｐｐ■以下におさえることにより、色素媒体の反
射率の低下を防止てきることが認られる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、ポリメチルメタ
クリレート基板に含有される未硬化モノマーを５００ａ
ｐＨ以下とすることにより、基板上に形成される記録媒
体の有機染料との相互作用を防ぎ、記録媒体の反射率等
の特性の低下を防止した基板を得ることができる。
クリレート基板に含有される未硬化モノマーを５００ａ
ｐＨ以下とすることにより、基板上に形成される記録媒
体の有機染料との相互作用を防ぎ、記録媒体の反射率等
の特性の低下を防止した基板を得ることができる。
第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明のポリメチルメタクリレ
ート基板を注型成形法により製造する方法を示すＴ程図
、第２図は上記基板から作製された光記録媒体を示す断
面図および第３図は光記録媒体の反射率と基板の未硬化
千ツマー量の関係を示すグラフである。 ｌ・・・注型成形用型 ２・・・ブリフォーマツ ３・・・液状樹脂 ４・・・スペーサー ６・・・基板 ８・・・接着層 １０・・・保護基材 ５・・・鏡面型 ７・・・プリフォーマット部 ９・・・記録層 ドパターン
ート基板を注型成形法により製造する方法を示すＴ程図
、第２図は上記基板から作製された光記録媒体を示す断
面図および第３図は光記録媒体の反射率と基板の未硬化
千ツマー量の関係を示すグラフである。 ｌ・・・注型成形用型 ２・・・ブリフォーマツ ３・・・液状樹脂 ４・・・スペーサー ６・・・基板 ８・・・接着層 １０・・・保護基材 ５・・・鏡面型 ７・・・プリフォーマット部 ９・・・記録層 ドパターン
Claims (1)
- 注型成形法により作製されたポリメチルメタクリレート
よりなる光記録媒体用基板において、前記ポリメチルメ
タクリレート中に含有されている未硬化モノマーが５０
０ｐｐｍ以下であることを特徴とする光記録媒体用基板
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63274414A JPH02122441A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 光記録媒体用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63274414A JPH02122441A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 光記録媒体用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02122441A true JPH02122441A (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=17541340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63274414A Pending JPH02122441A (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 光記録媒体用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02122441A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151212A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-09 | Kuraray Co Ltd | メタクリル系共重合体の製造法 |
| JPS6391601A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Hitachi Ltd | 光学式情報記録担体 |
-
1988
- 1988-11-01 JP JP63274414A patent/JPH02122441A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151212A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-09 | Kuraray Co Ltd | メタクリル系共重合体の製造法 |
| JPS6391601A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Hitachi Ltd | 光学式情報記録担体 |
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