JPH021225B2 - - Google Patents
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- JPH021225B2 JPH021225B2 JP5404981A JP5404981A JPH021225B2 JP H021225 B2 JPH021225 B2 JP H021225B2 JP 5404981 A JP5404981 A JP 5404981A JP 5404981 A JP5404981 A JP 5404981A JP H021225 B2 JPH021225 B2 JP H021225B2
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- Japan
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- crystal
- sample
- shielding plate
- vacuum
- vapor deposition
- Prior art date
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水晶振動子の真空蒸着装置、特に、同
時に多数の水晶片に複数層の金属を蒸着できるよ
うにした水晶振動子の真空蒸着装置に関する。
時に多数の水晶片に複数層の金属を蒸着できるよ
うにした水晶振動子の真空蒸着装置に関する。
一般に水晶振動子1は第1図に示すように所定
の角度に切り出した水晶片2の両面にクロム、
金、銀、アルミニユーム等の金属物質を適当に選
択して、2層、3層等の複数層に蒸着して、励振
電極3,3(一方は図示せず)および端子4,4
を形成し、この水晶片2を基台5に植設した導出
端子6,6と接続された保持部材7,7に挾持さ
せた後、保持部材7,7と端子4,4とを導電性
の接着剤により接着し、水晶片2の振動エネルギ
ーを端子44、保持部材7,7、導出端子6,6
を介して外部へ取出すものである。
の角度に切り出した水晶片2の両面にクロム、
金、銀、アルミニユーム等の金属物質を適当に選
択して、2層、3層等の複数層に蒸着して、励振
電極3,3(一方は図示せず)および端子4,4
を形成し、この水晶片2を基台5に植設した導出
端子6,6と接続された保持部材7,7に挾持さ
せた後、保持部材7,7と端子4,4とを導電性
の接着剤により接着し、水晶片2の振動エネルギ
ーを端子44、保持部材7,7、導出端子6,6
を介して外部へ取出すものである。
ところで、前記した水晶片2に設ける励振電極
3,3は通常2〜3層等複数層に設けることが一
般であり、しかも、多数の水晶片2を同一の真空
蒸着室内に収納し、同時に励振電極となるべき基
礎メツキを設けるものである。
3,3は通常2〜3層等複数層に設けることが一
般であり、しかも、多数の水晶片2を同一の真空
蒸着室内に収納し、同時に励振電極となるべき基
礎メツキを設けるものである。
このため、従来の基礎蒸着工程、例えば2層の
基礎蒸着の場合、真空蒸着室内に2つの蒸着源、
例えばクロム蒸着源と金蒸着源とを設け、先ず、
クロム蒸着源を蒸発させて、多数の水晶片2の面
にクロム蒸着を、次に、金蒸着源を蒸発させて、
各水晶片2のクロム蒸着上に金蒸着を行うもので
あつた。
基礎蒸着の場合、真空蒸着室内に2つの蒸着源、
例えばクロム蒸着源と金蒸着源とを設け、先ず、
クロム蒸着源を蒸発させて、多数の水晶片2の面
にクロム蒸着を、次に、金蒸着源を蒸発させて、
各水晶片2のクロム蒸着上に金蒸着を行うもので
あつた。
しかし、前記基礎蒸着工程において、複数の蒸
着源を真空蒸着室内に設けることは、各蒸着源か
ら各水晶片2への距離が等位置になることがない
ので、水晶片2に対する基礎蒸着にムラが生じ、
特性の良い水晶振動子を得ることが、困難であつ
た。
着源を真空蒸着室内に設けることは、各蒸着源か
ら各水晶片2への距離が等位置になることがない
ので、水晶片2に対する基礎蒸着にムラが生じ、
特性の良い水晶振動子を得ることが、困難であつ
た。
また、前記した水晶振動子1の周波数は水晶片
2の形状、大きさあるいは励振電極3,3、端子
4,4の質、量により決定するもであるが、水晶
片2の厚みを正確に切り出すことが困難なことか
ら単に所定形状の水晶片2に、所定の物質(クロ
ム、金、銀、アルミニユーム)を所定量、真空蒸
着装置内で蒸着しただけでは予め定められた正確
な周波数f0にて振動する水晶振動子を得ることは
困難なことであり、そのため、従来の水晶振動子
1は、一旦水晶片2に真空蒸着装置内で励振電極
3,3を2層ないし3層等に蒸着した後、真空蒸
着装置より取出し、前記したように保持部材7,
7に挾持させ、該水晶振動子1を第2図あるいは
第3図に示すように保管の都合上トレー8,8′
にその複数個(10〜15個)を収納し、その後、以
下に説明する方法により、水晶片2の励振電極
3,3上に更に微少量の物質を数回に分けて蒸着
し続け、蒸着により変化していく周波数f1があら
かじめ定められた周波数f0と等しくなる点を求
め、その蒸着を停止し、基準周波数f0を備えた水
晶振動子1を得るものである。
2の形状、大きさあるいは励振電極3,3、端子
4,4の質、量により決定するもであるが、水晶
片2の厚みを正確に切り出すことが困難なことか
ら単に所定形状の水晶片2に、所定の物質(クロ
ム、金、銀、アルミニユーム)を所定量、真空蒸
着装置内で蒸着しただけでは予め定められた正確
な周波数f0にて振動する水晶振動子を得ることは
困難なことであり、そのため、従来の水晶振動子
1は、一旦水晶片2に真空蒸着装置内で励振電極
3,3を2層ないし3層等に蒸着した後、真空蒸
着装置より取出し、前記したように保持部材7,
7に挾持させ、該水晶振動子1を第2図あるいは
第3図に示すように保管の都合上トレー8,8′
にその複数個(10〜15個)を収納し、その後、以
下に説明する方法により、水晶片2の励振電極
3,3上に更に微少量の物質を数回に分けて蒸着
し続け、蒸着により変化していく周波数f1があら
かじめ定められた周波数f0と等しくなる点を求
め、その蒸着を停止し、基準周波数f0を備えた水
晶振動子1を得るものである。
なお、第3図示では水晶振動子1が個々の収納
台9を介してトレー8′に収納されている。
台9を介してトレー8′に収納されている。
そして、周波数を調整する場合、トレー8,
8′上の水晶振動子1を1つづつ周波数を調整す
るための真空蒸着室(図示せず)内ターンテーブ
ル10,10′に設けた端子挿入部11,11あ
るいは収納台9の収納孔11′に入れ替え、その
後、ターンテーブル10,10′を間欠的に回転
し、蒸発源12,12′よりクロム、金、銀、ア
ルミニユーム等の物質を微少量、対向する水晶振
動子1の励振電極3上に蒸着し、その水晶振動子
1の周波数f1が基準周波数f0になるまで、数回に
分けて蒸着を行うものである。数回に分けて蒸着
を行うのは1度に蒸着を行うと、その途中で基準
周波数f0を越えてしまうのを防止するためで、一
般には2回目の蒸着は前記第1回目よりさらに微
少量で、また、3回目はさらに微少量の蒸着を行
うもので、この3回目の蒸着中に基準周波数f0に
到達するものが多いものである。
8′上の水晶振動子1を1つづつ周波数を調整す
るための真空蒸着室(図示せず)内ターンテーブ
ル10,10′に設けた端子挿入部11,11あ
るいは収納台9の収納孔11′に入れ替え、その
後、ターンテーブル10,10′を間欠的に回転
し、蒸発源12,12′よりクロム、金、銀、ア
ルミニユーム等の物質を微少量、対向する水晶振
動子1の励振電極3上に蒸着し、その水晶振動子
1の周波数f1が基準周波数f0になるまで、数回に
分けて蒸着を行うものである。数回に分けて蒸着
を行うのは1度に蒸着を行うと、その途中で基準
周波数f0を越えてしまうのを防止するためで、一
般には2回目の蒸着は前記第1回目よりさらに微
少量で、また、3回目はさらに微少量の蒸着を行
うもので、この3回目の蒸着中に基準周波数f0に
到達するものが多いものである。
また、基準周波数f0に到達したか否かは調整し
ようとする水晶振動子1の導出端子6,6を発振
回路(図示せず)に接続して発振させ、該発振回
路からの信号と別に基準周波数f0を発振する発振
器からの信号とのゼロビートを検出させればよい
ものである。
ようとする水晶振動子1の導出端子6,6を発振
回路(図示せず)に接続して発振させ、該発振回
路からの信号と別に基準周波数f0を発振する発振
器からの信号とのゼロビートを検出させればよい
ものである。
そして、調整後、真空蒸着室の真空状態を解除
し、水晶振動子1を再びトレー8,8′に収納し、
再び、他のトレー8,8′から他の水晶振動子1
を取出し、同様の作業を行うものである。
し、水晶振動子1を再びトレー8,8′に収納し、
再び、他のトレー8,8′から他の水晶振動子1
を取出し、同様の作業を行うものである。
ところで、前記した従来の水晶振動子は、真空
蒸着室内に先ず、水晶片2に励振電極3,3を蒸
着するため収納および取出し、また、周波数調整
のため再び真空蒸着室(同一もしくは他の真空蒸
着室)内に収納し、取出す必要があるため、その
工程が複雑で、また、トレー8,8′に収納され
た水晶振動子を1つづつ取出し、真空蒸着室内の
ターンテーブル10,10′に装着し、調整後、
再びトレー8,8′に収納するものであるため、
作業能率が悪く、水晶振動子1の出入が多く、そ
の途中で水晶片2が破損してしまう等の欠点があ
つた。
蒸着室内に先ず、水晶片2に励振電極3,3を蒸
着するため収納および取出し、また、周波数調整
のため再び真空蒸着室(同一もしくは他の真空蒸
着室)内に収納し、取出す必要があるため、その
工程が複雑で、また、トレー8,8′に収納され
た水晶振動子を1つづつ取出し、真空蒸着室内の
ターンテーブル10,10′に装着し、調整後、
再びトレー8,8′に収納するものであるため、
作業能率が悪く、水晶振動子1の出入が多く、そ
の途中で水晶片2が破損してしまう等の欠点があ
つた。
本発明は叙上の点に鑑み、真空蒸着室内に回転
式テーブルを設け、該回転式テーブル上に複数個
の蒸発源を積置し、該蒸発源の内、使用する蒸発
源は常時各水晶片に対して等位置と成るようにす
ることにより水晶片に対する蒸着ムラを防止し、
高性能の水晶振動子を提供することを目的とす
る。
式テーブルを設け、該回転式テーブル上に複数個
の蒸発源を積置し、該蒸発源の内、使用する蒸発
源は常時各水晶片に対して等位置と成るようにす
ることにより水晶片に対する蒸着ムラを防止し、
高性能の水晶振動子を提供することを目的とす
る。
以下、本発明の1実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。第7図は水晶片2を基台5に取付け
た状態を示す正面図である。図から明らかなよう
に、この状態では水晶片2の両面には励振電極
3,3および端子4,4は設けてなく、単に保持
部材7,7に仮止めされた状態である。同図にお
いて20はマスクで、該マスクは基台5に嵌合さ
れており、また、その正面および裏面には蒸着を
許容するための孔21,21が設けてある。な
お、6,6は導出端子である。なお、この状態を
試料と称す。第8図は真空蒸着室22の部分断側
面図である。23は真空蒸着室22の定盤で、該
定盤23上には複数本の支持柱24…が設けてあ
る。支持柱24…には後述する上板および下板の
位置決め用の段部24a…,24b…が設けてあ
る。26は上板で、前記支持柱24…の段部24
b…に位置し、ナツト25…により支持柱24に
取付けられている。27は上板26の中心下部に
保持されたモータ、28はモータ27の回転軸、
29は回転軸28に取付けられた伝達軸で、該伝
達軸29は太径部29aと細径部29bとを備
え、細径部29bの先端はナツト30と噛合でき
るようにジ部が設けてある。31は前記伝達軸2
9の細径部29bに取付けられた第1の蒸着物遮
蔽板で、該蒸着物遮蔽板31は特に第9図示の平
面図から明らかなようにその中心部に取付孔31
aが設けてあり、該取付孔31aから等距離に且
つ、等間隔に蒸着を許容するための孔32a〜3
2fが複数個(実施例では6個)が設けてあり、
さらに、孔32aと孔32fとの中間には周波数
調整用の調整孔33が設けてある。なお、調整孔
33も取付孔31aから等距離の位置に設けてあ
る。34は蒸着物遮蔽板31に設けた係止片であ
る。35は第2の蒸着物遮蔽板で、該蒸着物遮蔽
板35は特に第10図示の平面図から明らかなよ
うに、伝達軸29の細径部29bに強嵌合により
取付けられるべき取付孔35aが設けてあり、前
記第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32a〜3
2fに対応する位置に孔36a〜36fが設けて
あるも、調整孔33と対応する孔は設けてない。
そして、前記第1の蒸着物遮蔽板31は伝達軸2
9に対し回転可能に、また、第2の蒸着物遮蔽板
35は伝達軸29に対し、回転不能に取付けられ
るものであるが、その取付けについて、第8図で
説明すると、先ず、細径部29bにコイルバネ3
7を挿入し、次に、第1の蒸着物遮蔽板31を挿
入する。この時、取付孔31aは細径部29bよ
り大径としてあるため遊嵌された状態となつてい
る。次に、フエルト等より成る摩擦板38を挿入
し、その後、第2の蒸着物遮蔽板35を細径部2
9bに強嵌合し、ナツト30を噛合すれば、第1
の蒸着物遮蔽板31はコイルバネ37の弾力によ
り摩擦板38を介して適度に第2の蒸着物遮蔽板
35に弾圧されているため、第1の蒸着物遮蔽板
31は一定以上のトルクが加わらない限り空転す
ることなく伝達軸29の回転に伴なつて回転する
ことができるものである。39は上板26の下部
に設けた試料(水晶片2等)取付部材で、該試料
取付部材39は特に第11図示の平面図より明ら
かなように円筒形を成し、前記第2の蒸着物遮蔽
板35に設けた孔36a〜36fと同等数の取付
部40a〜40fが等間隔に且つ先端部が下方に
傾斜して設けてある。そして、取付部40a〜4
0fに前記第7図に示した試料を取付けるもので
ある。その詳細を第12図を用いて説明すると、
同図に示すように取付部40aには導出端子挿入
孔41aが設けてあり、該挿入孔41aに試料の
導出端子6,6を挿入すると、導出端子6,6に
取付部40aに設けた孔42aより挿入孔41a
内に進出する検知片43が導出端子6,6と接触
するものである。44は下板で、該下板44は支
持柱24の段部24a…上に位置決め固定されて
いる。45は定盤23上に設けたモータで、モー
タ45の回転軸45aは前記下板44の孔44a
より上方へ突出し、その先端には回転式テーブル
46が取付けてある。また、回転式テーブル46
の回転中心は前記伝達軸29の回転中心より偏心
した位置になるようにしてある。そして、回転式
テーブル46上には第8図、第13図に示すよう
に蒸発源となるべき複数個の受皿47,48(実
施例では2種類)が積置してあり、回転式テーブ
ル46を回転させ、受皿47あるいは48を所定
位置に定位した時、その定位位置が第8図に示す
ように伝達軸29の真下に定位するようにしてあ
る。従つて、第8図に1点鎖線に示したように各
試料(水晶片2)に対する入射角αは伝達軸より
等角度、すなわち、蒸着すべき金属を収納した受
皿は各試料に対して等位置に定位することになる
ものである。受皿47,48はタングステン、モ
リブデン等より成り、一方の受皿47は金属物質
としてクロム49が、また、他方の受皿48には
金50が収納してある。従つて、本実施例におけ
る水晶片2の表面にはクロム49と金50の2層
蒸着となるようにセツトされている。51は電極
で、該電極51は上下動可能に設けられ、回転式
テーブル46が回転し、所定位置に定位した時、
上昇し、所定の受皿を通電させ、受皿内の金属例
えばクロム49を蒸発させるものである。52は
電極51を上昇あるいは下降するためのソレノイ
ドプランジヤーで、該ソレノイドプランジヤー5
2に設けたプランジヤー53の往復運動により電
極51を上下動させる。すなわち、プランジヤー
53の先端にはカム面53aが設けてあり、該カ
ム面53aが電極51に設けたピン51aを押圧
するためである。54は第1の蒸着物遮蔽板31
に設けた係止片34と係合して第1の蒸着物遮蔽
板31をコイルバネ37の弾力に抗して回転させ
るための可動部材で、該可動部材54は下板44
の下面に設けたソレノイドプランジヤー55によ
り可動するものである。なお、56…は検知片4
3…と接続したリード線である。57は取外しが
可能なカバーである。
に説明する。第7図は水晶片2を基台5に取付け
た状態を示す正面図である。図から明らかなよう
に、この状態では水晶片2の両面には励振電極
3,3および端子4,4は設けてなく、単に保持
部材7,7に仮止めされた状態である。同図にお
いて20はマスクで、該マスクは基台5に嵌合さ
れており、また、その正面および裏面には蒸着を
許容するための孔21,21が設けてある。な
お、6,6は導出端子である。なお、この状態を
試料と称す。第8図は真空蒸着室22の部分断側
面図である。23は真空蒸着室22の定盤で、該
定盤23上には複数本の支持柱24…が設けてあ
る。支持柱24…には後述する上板および下板の
位置決め用の段部24a…,24b…が設けてあ
る。26は上板で、前記支持柱24…の段部24
b…に位置し、ナツト25…により支持柱24に
取付けられている。27は上板26の中心下部に
保持されたモータ、28はモータ27の回転軸、
29は回転軸28に取付けられた伝達軸で、該伝
達軸29は太径部29aと細径部29bとを備
え、細径部29bの先端はナツト30と噛合でき
るようにジ部が設けてある。31は前記伝達軸2
9の細径部29bに取付けられた第1の蒸着物遮
蔽板で、該蒸着物遮蔽板31は特に第9図示の平
面図から明らかなようにその中心部に取付孔31
aが設けてあり、該取付孔31aから等距離に且
つ、等間隔に蒸着を許容するための孔32a〜3
2fが複数個(実施例では6個)が設けてあり、
さらに、孔32aと孔32fとの中間には周波数
調整用の調整孔33が設けてある。なお、調整孔
33も取付孔31aから等距離の位置に設けてあ
る。34は蒸着物遮蔽板31に設けた係止片であ
る。35は第2の蒸着物遮蔽板で、該蒸着物遮蔽
板35は特に第10図示の平面図から明らかなよ
うに、伝達軸29の細径部29bに強嵌合により
取付けられるべき取付孔35aが設けてあり、前
記第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32a〜3
2fに対応する位置に孔36a〜36fが設けて
あるも、調整孔33と対応する孔は設けてない。
そして、前記第1の蒸着物遮蔽板31は伝達軸2
9に対し回転可能に、また、第2の蒸着物遮蔽板
35は伝達軸29に対し、回転不能に取付けられ
るものであるが、その取付けについて、第8図で
説明すると、先ず、細径部29bにコイルバネ3
7を挿入し、次に、第1の蒸着物遮蔽板31を挿
入する。この時、取付孔31aは細径部29bよ
り大径としてあるため遊嵌された状態となつてい
る。次に、フエルト等より成る摩擦板38を挿入
し、その後、第2の蒸着物遮蔽板35を細径部2
9bに強嵌合し、ナツト30を噛合すれば、第1
の蒸着物遮蔽板31はコイルバネ37の弾力によ
り摩擦板38を介して適度に第2の蒸着物遮蔽板
35に弾圧されているため、第1の蒸着物遮蔽板
31は一定以上のトルクが加わらない限り空転す
ることなく伝達軸29の回転に伴なつて回転する
ことができるものである。39は上板26の下部
に設けた試料(水晶片2等)取付部材で、該試料
取付部材39は特に第11図示の平面図より明ら
かなように円筒形を成し、前記第2の蒸着物遮蔽
板35に設けた孔36a〜36fと同等数の取付
部40a〜40fが等間隔に且つ先端部が下方に
傾斜して設けてある。そして、取付部40a〜4
0fに前記第7図に示した試料を取付けるもので
ある。その詳細を第12図を用いて説明すると、
同図に示すように取付部40aには導出端子挿入
孔41aが設けてあり、該挿入孔41aに試料の
導出端子6,6を挿入すると、導出端子6,6に
取付部40aに設けた孔42aより挿入孔41a
内に進出する検知片43が導出端子6,6と接触
するものである。44は下板で、該下板44は支
持柱24の段部24a…上に位置決め固定されて
いる。45は定盤23上に設けたモータで、モー
タ45の回転軸45aは前記下板44の孔44a
より上方へ突出し、その先端には回転式テーブル
46が取付けてある。また、回転式テーブル46
の回転中心は前記伝達軸29の回転中心より偏心
した位置になるようにしてある。そして、回転式
テーブル46上には第8図、第13図に示すよう
に蒸発源となるべき複数個の受皿47,48(実
施例では2種類)が積置してあり、回転式テーブ
ル46を回転させ、受皿47あるいは48を所定
位置に定位した時、その定位位置が第8図に示す
ように伝達軸29の真下に定位するようにしてあ
る。従つて、第8図に1点鎖線に示したように各
試料(水晶片2)に対する入射角αは伝達軸より
等角度、すなわち、蒸着すべき金属を収納した受
皿は各試料に対して等位置に定位することになる
ものである。受皿47,48はタングステン、モ
リブデン等より成り、一方の受皿47は金属物質
としてクロム49が、また、他方の受皿48には
金50が収納してある。従つて、本実施例におけ
る水晶片2の表面にはクロム49と金50の2層
蒸着となるようにセツトされている。51は電極
で、該電極51は上下動可能に設けられ、回転式
テーブル46が回転し、所定位置に定位した時、
上昇し、所定の受皿を通電させ、受皿内の金属例
えばクロム49を蒸発させるものである。52は
電極51を上昇あるいは下降するためのソレノイ
ドプランジヤーで、該ソレノイドプランジヤー5
2に設けたプランジヤー53の往復運動により電
極51を上下動させる。すなわち、プランジヤー
53の先端にはカム面53aが設けてあり、該カ
ム面53aが電極51に設けたピン51aを押圧
するためである。54は第1の蒸着物遮蔽板31
に設けた係止片34と係合して第1の蒸着物遮蔽
板31をコイルバネ37の弾力に抗して回転させ
るための可動部材で、該可動部材54は下板44
の下面に設けたソレノイドプランジヤー55によ
り可動するものである。なお、56…は検知片4
3…と接続したリード線である。57は取外しが
可能なカバーである。
次に、本発明の動作について説明すると、先
ず、カバー57を取外し、試料取付部材39の取
付部40a〜40fに試料を取付けると共に、回
転式テーブル46上の受皿47,48に蒸着用金
属であるクロム49と金50とをそれぞれの受皿
47,48に収納すると共に可動部材54を可動
させて第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32a
〜32fが第14図に示すように第2の蒸着物遮
蔽板35に設けた孔36a〜36fと対応するよ
うに操作すると共にモータ27を若干回転させ、
各孔32a〜32fが取付部40a〜40fに取
付けられた試料と対応する位置に定位させる。ま
た、回転式テーブル46も回転させてクロム49
を収納した受皿47が伝達軸29の真下に定位す
るようにセツトし、その後、カバー57を被せ
て、真空蒸着室内部を真空状態にする。そして、
ソレノイドプランジヤー52を操作して、電極5
1を上昇させ、受皿47を通電すると、クロム4
9が蒸発し、孔32a〜32f(36a〜36f)
および各試料に設けたマスク20の孔21より各
試料(各水晶片2)が同時に金属蒸着(クロム蒸
着)される。所定量のクロム蒸着が終了すると、
再びソレノイドプランジヤー52を操作して、電
極51を降下させる。そして、モータ45を回転
させ、テーブル46を半回転し、今度は金50を
収納した受皿48が伝達軸29の真下に定位する
ようにセツトし、再び、電極51を上昇させて、
受皿48を通電すると、受皿48内の金50が蒸
発し、各試料の前記クロム蒸着上にさらに金が蒸
着する。そして、この全蒸着が終了した後、特に
図示してないが取付部40a〜40fを半回転さ
せるか、一旦、真空状態を解除して、カバー57
を取外し、試料を半回転して取付け、再びカバー
57を被せ、真空状態と成し、また、回転式テー
ブル46を再び半回転し、クロム49を収納した
受皿47を再び伝達軸29の真下に定位するよう
にセツトし、前記同様先ずクロム蒸着を、次い
で、回転式テーブル46を半回転して金蒸着を行
うことにより、収納された各試料は同時に励振電
極3,3となるべく基礎蒸着が終了する。蒸着す
べき金属を収納した受皿47,48を常に伝達軸
29の真下に定位するようにセツトしたのは蒸着
源(受皿)と各試料とが等位置になるようにした
もので、これにより複数層に金属を蒸着する際の
蒸着ムラが防止できるものである。
ず、カバー57を取外し、試料取付部材39の取
付部40a〜40fに試料を取付けると共に、回
転式テーブル46上の受皿47,48に蒸着用金
属であるクロム49と金50とをそれぞれの受皿
47,48に収納すると共に可動部材54を可動
させて第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32a
〜32fが第14図に示すように第2の蒸着物遮
蔽板35に設けた孔36a〜36fと対応するよ
うに操作すると共にモータ27を若干回転させ、
各孔32a〜32fが取付部40a〜40fに取
付けられた試料と対応する位置に定位させる。ま
た、回転式テーブル46も回転させてクロム49
を収納した受皿47が伝達軸29の真下に定位す
るようにセツトし、その後、カバー57を被せ
て、真空蒸着室内部を真空状態にする。そして、
ソレノイドプランジヤー52を操作して、電極5
1を上昇させ、受皿47を通電すると、クロム4
9が蒸発し、孔32a〜32f(36a〜36f)
および各試料に設けたマスク20の孔21より各
試料(各水晶片2)が同時に金属蒸着(クロム蒸
着)される。所定量のクロム蒸着が終了すると、
再びソレノイドプランジヤー52を操作して、電
極51を降下させる。そして、モータ45を回転
させ、テーブル46を半回転し、今度は金50を
収納した受皿48が伝達軸29の真下に定位する
ようにセツトし、再び、電極51を上昇させて、
受皿48を通電すると、受皿48内の金50が蒸
発し、各試料の前記クロム蒸着上にさらに金が蒸
着する。そして、この全蒸着が終了した後、特に
図示してないが取付部40a〜40fを半回転さ
せるか、一旦、真空状態を解除して、カバー57
を取外し、試料を半回転して取付け、再びカバー
57を被せ、真空状態と成し、また、回転式テー
ブル46を再び半回転し、クロム49を収納した
受皿47を再び伝達軸29の真下に定位するよう
にセツトし、前記同様先ずクロム蒸着を、次い
で、回転式テーブル46を半回転して金蒸着を行
うことにより、収納された各試料は同時に励振電
極3,3となるべく基礎蒸着が終了する。蒸着す
べき金属を収納した受皿47,48を常に伝達軸
29の真下に定位するようにセツトしたのは蒸着
源(受皿)と各試料とが等位置になるようにした
もので、これにより複数層に金属を蒸着する際の
蒸着ムラが防止できるものである。
次に、試料(水晶片2)の両面に基礎蒸着後の
周波数調整について説明する。先ず、基礎メツキ
が終了したら、ソレノイドプランジヤー55によ
り可動部材54を可動させ、第1の蒸着物遮蔽板
31をコイルバネ37の弾力に抗して若干回転さ
せ、第1の蒸着物遮蔽板31に設けた調整孔33
が第15図に示すように第2の蒸着物遮蔽板35
に設けた孔の1つ例えば36fと対応させる。従
つて、第2の蒸着物遮蔽板35に設けた他の孔3
6a〜36eは第1の蒸着物遮蔽板31により閉
鎖状態となり、また、第1の蒸着物遮蔽板31に
設けた孔32a〜32fは第2の蒸着物遮蔽板3
5により閉鎖状態となる。従つて、両蒸着物遮蔽
板31,35には調整孔33,36fの部分のみ
が開孔した状態となり、この調整孔33を順次1
つ1つの試料に対応させ周波数調整を行うもので
ある。
周波数調整について説明する。先ず、基礎メツキ
が終了したら、ソレノイドプランジヤー55によ
り可動部材54を可動させ、第1の蒸着物遮蔽板
31をコイルバネ37の弾力に抗して若干回転さ
せ、第1の蒸着物遮蔽板31に設けた調整孔33
が第15図に示すように第2の蒸着物遮蔽板35
に設けた孔の1つ例えば36fと対応させる。従
つて、第2の蒸着物遮蔽板35に設けた他の孔3
6a〜36eは第1の蒸着物遮蔽板31により閉
鎖状態となり、また、第1の蒸着物遮蔽板31に
設けた孔32a〜32fは第2の蒸着物遮蔽板3
5により閉鎖状態となる。従つて、両蒸着物遮蔽
板31,35には調整孔33,36fの部分のみ
が開孔した状態となり、この調整孔33を順次1
つ1つの試料に対応させ周波数調整を行うもので
ある。
すなわち、調整孔33を先ず取付部40fに取
付けられた試料と対応させ、回転式テーブル46
の金50を収納した受皿48を通電させ、金50
を微少量蒸発させると、金は調整孔33、マスク
20の孔21を通過して、前記基礎蒸着層(励振
電極)上に蒸着する。この時、水晶片2の励振電
極は保持部材7,7、導出端子6,6より検知片
43を介してリード線56に導出され、該リード
線56を発振回路(図示せず)に接続して発振さ
せ、該発振回路からの信号と別に基準周波数f0を
発振する発振器からの信号とにより、従来例と同
様、数回の微調整を行い、ゼロビートを検出させ
1つの試料の調整を終了させる。1つの試料の調
整が終了したら、モータ27を所定量回転し、2
つの蒸着物遮蔽板31,35を同時に回転させ、
調整孔33が次の試料と対応するようにし、前記
同様の調整を行う。そして、モータ27を略1回
転させることにより全部の試料の周波数調整が終
了する。終了後、真空状態を解除し、カバー57
を取外し、各試料を取外せば、水晶片2には励振
電極3,3と周波数調整が終了したものが誕生す
ることになる。
付けられた試料と対応させ、回転式テーブル46
の金50を収納した受皿48を通電させ、金50
を微少量蒸発させると、金は調整孔33、マスク
20の孔21を通過して、前記基礎蒸着層(励振
電極)上に蒸着する。この時、水晶片2の励振電
極は保持部材7,7、導出端子6,6より検知片
43を介してリード線56に導出され、該リード
線56を発振回路(図示せず)に接続して発振さ
せ、該発振回路からの信号と別に基準周波数f0を
発振する発振器からの信号とにより、従来例と同
様、数回の微調整を行い、ゼロビートを検出させ
1つの試料の調整を終了させる。1つの試料の調
整が終了したら、モータ27を所定量回転し、2
つの蒸着物遮蔽板31,35を同時に回転させ、
調整孔33が次の試料と対応するようにし、前記
同様の調整を行う。そして、モータ27を略1回
転させることにより全部の試料の周波数調整が終
了する。終了後、真空状態を解除し、カバー57
を取外し、各試料を取外せば、水晶片2には励振
電極3,3と周波数調整が終了したものが誕生す
ることになる。
なお、前記両蒸着物遮蔽板31,35には6つ
の孔32a〜32f,36a〜36fを、また、
試料取付部材39には6つの取付部40a〜40
fを設けたが、必ずしも6つに限定されることな
く、個数については設計上の任意のことである。
の孔32a〜32f,36a〜36fを、また、
試料取付部材39には6つの取付部40a〜40
fを設けたが、必ずしも6つに限定されることな
く、個数については設計上の任意のことである。
また、回転式テーブル46上には2つの受皿4
7,48,を積置したが必ずしも2つの限定され
ることなく3,4〜10種類と積置することにより
2〜10層あるいはそれ以上に蒸着することができ
るものである。
7,48,を積置したが必ずしも2つの限定され
ることなく3,4〜10種類と積置することにより
2〜10層あるいはそれ以上に蒸着することができ
るものである。
さらに、調整孔33は第1の蒸着物遮蔽板31
に設けたが、反対に第2の蒸着物遮蔽板35に設
けてもよいものである。
に設けたが、反対に第2の蒸着物遮蔽板35に設
けてもよいものである。
以上、詳細に説明したように、本発明によれ
ば、真空蒸着室22に設けた回転式テーブル46
上に所定の間隔をおいて、複数種類の金属を積置
し、該回転式テーブルを回転させることにより蒸
着すべき金属の蒸着源(受皿47,48)は常時
各水晶片に対し、等位置に定位し得るようにした
ので、水晶片2に蒸着される基礎蒸着は蒸着ムラ
を起すことがなく、特性の良い水晶振動子を得る
ことができる等の効果がある。
ば、真空蒸着室22に設けた回転式テーブル46
上に所定の間隔をおいて、複数種類の金属を積置
し、該回転式テーブルを回転させることにより蒸
着すべき金属の蒸着源(受皿47,48)は常時
各水晶片に対し、等位置に定位し得るようにした
ので、水晶片2に蒸着される基礎蒸着は蒸着ムラ
を起すことがなく、特性の良い水晶振動子を得る
ことができる等の効果がある。
第1図は水晶振動子1の正面図、第2図〜第6
図は周波数調整の従来例を示し、第2図は第1の
トレー8を示し、イ図は正面図、ロ図は側面図、
第3図は第2のトレー8′を示し、イ図は正面図、
ロ図は側面図、第4図は調整装置の正面図、第5
図は同平面図、第6図は他形状の調整装置の平面
図、第7図〜第15図は本発明の実施例を示し、
第7図は試料の正面図、第8図は真空蒸着室22
の部分断側面図、第9図は第1の蒸着物遮蔽板3
1の平面図、第10図は第2の蒸着物遮蔽板35
の平面図、第11図は試料取付部材39の平面
図、第12図は取付部40aに試料を取付けた状
態を示す部分断側面図、第13図は回転式テーブ
ル46の平面図、第14図は基礎メツキ状態を示
す蒸着物遮蔽板31,35の平面図、第15図は
周波数調整状態を示す蒸着物遮蔽板31,35の
平面図である。 1…水晶振動子、2…水晶片、3,3…励振電
極、22…真空蒸着室、31…蒸着物遮蔽板、3
2a〜32f…孔、33…調整孔、35…蒸着物
遮蔽板、36a〜36f…孔、39…試料取付部
材、40a〜40f…取付部、46…回転式テー
ブル、47,48…受皿(蒸発源)。
図は周波数調整の従来例を示し、第2図は第1の
トレー8を示し、イ図は正面図、ロ図は側面図、
第3図は第2のトレー8′を示し、イ図は正面図、
ロ図は側面図、第4図は調整装置の正面図、第5
図は同平面図、第6図は他形状の調整装置の平面
図、第7図〜第15図は本発明の実施例を示し、
第7図は試料の正面図、第8図は真空蒸着室22
の部分断側面図、第9図は第1の蒸着物遮蔽板3
1の平面図、第10図は第2の蒸着物遮蔽板35
の平面図、第11図は試料取付部材39の平面
図、第12図は取付部40aに試料を取付けた状
態を示す部分断側面図、第13図は回転式テーブ
ル46の平面図、第14図は基礎メツキ状態を示
す蒸着物遮蔽板31,35の平面図、第15図は
周波数調整状態を示す蒸着物遮蔽板31,35の
平面図である。 1…水晶振動子、2…水晶片、3,3…励振電
極、22…真空蒸着室、31…蒸着物遮蔽板、3
2a〜32f…孔、33…調整孔、35…蒸着物
遮蔽板、36a〜36f…孔、39…試料取付部
材、40a〜40f…取付部、46…回転式テー
ブル、47,48…受皿(蒸発源)。
Claims (1)
- 1 複数個の水晶片の表面に同時に複数種類の金
属を順次真空蒸着して水晶片の表面に励振電極と
なる基礎蒸着層を形成させるようにした水晶振動
子の真空蒸着装置において、前記複数種類の金属
を回転式テーブル上に所定の間隔をおいて積置
し、該回転式テーブルを回転させることにより蒸
着すべき金属は常時各水晶片に対し等位置に定位
し得るようにしたことを特徴とする水晶振動子の
真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5404981A JPS57169086A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Vacuum vapor-depositing device of crystal resonator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5404981A JPS57169086A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Vacuum vapor-depositing device of crystal resonator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57169086A JPS57169086A (en) | 1982-10-18 |
| JPH021225B2 true JPH021225B2 (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=12959746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5404981A Granted JPS57169086A (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 | Vacuum vapor-depositing device of crystal resonator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57169086A (ja) |
-
1981
- 1981-04-10 JP JP5404981A patent/JPS57169086A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57169086A (en) | 1982-10-18 |
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