JPH021224B2 - - Google Patents

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JPH021224B2
JPH021224B2 JP5404881A JP5404881A JPH021224B2 JP H021224 B2 JPH021224 B2 JP H021224B2 JP 5404881 A JP5404881 A JP 5404881A JP 5404881 A JP5404881 A JP 5404881A JP H021224 B2 JPH021224 B2 JP H021224B2
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evaporation
vapor deposition
hole
adjustment
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JP5404881A
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Yasuo Nomura
Toshio Hayashi
Toshiki Suganuma
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Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS57169085A publication Critical patent/JPS57169085A/ja
Publication of JPH021224B2 publication Critical patent/JPH021224B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • C23C14/546Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水晶振動子の真空蒸着装置、特に、複
数個の水晶片に同時に励振電極を設け、次いで、
1つ1つの水晶片に順次周波数調整を可能とした
真空蒸着装置に関する。
一般に水晶振動子1は第1図に示すうに所定の
角度に切り出した水晶片2の両面にクロム、金、
銀、アルミニユーム等の金属物質を真空蒸着によ
り2層、3層等の複数層に蒸着して、励振電極
3,(一方は図示せず)および端子4,4を形成
し、この水晶片2を基台5に植設した導出端子
6,6と接続された保持部材7,7に挾持させた
後、保持部材7,7と端子4,4とを導電性の接
着剤により接着し、水晶片2の振動エネルギーを
端子4,4、保持部材7,7、導出端子6,6を
介して外部へ取出すものである。
ところで、前記した水晶振動子1の振動周波数
は水晶片2の厚み、大きさあるいは励振電極3,
3、端子4,4の質、量により決定するものであ
るが、水晶片2の厚みを正確に切り出すことが困
難なことから単に所定形状の水晶片2に、所定の
物質(クロム、金、銀、アルミニユーム)を所定
量、真空蒸着装置内で蒸着しただけでは予め定め
られた正確な周波数f0にて振動する水晶振動子を
得ることは困難なことであり、そのため、従来の
水晶振動子1は、一旦水晶片2に真空蒸着装置内
で励振電極3,3を2層ないし3層等に蒸着した
後、真空蒸着装置より取出し、前記したように保
持部材7,7に挾持させ、該水晶振動子1を第2
図あるいは第3図に示すように保管の都合上トレ
ー8,8′にその複数個(10〜15個)を収納し、
その後、以下に説明する方法により、水晶片2の
励振電極3,3上に更に微少量の物質を数回に分
けて蒸着し続け、蒸着により変化していく周波数
f1があらかじめ定められた周波数f0と等しくなる
点を求め、その蒸着を停止し、基準周波数f0を備
えた水晶振動子1を得るものである。
なお、第3図示では水晶振動子1が個々の収納
台9を介してトレー8′に収納されている。
そして、周波数を調整する場合、トレー8,
8′上の水晶振動子1を1つづつ周波数を調整す
るための真空蒸着室(図示せず)内のターンテー
ブル10,10′に設けた端子挿入部11,11
あるいは収納台9の収納孔11′に入れ替え、そ
の後、ターンテーブル10,10′を間欠的に回
転し、蒸発源12,12′よりクロム、金、銀、
アルミニユーム等の物質を微少量、対向する水晶
振動子1の励振電極3上に蒸着し、その水晶振動
子1の周波数f1が基準周波数f0になるまで、数回
に分けて蒸着を行うものである。数回に分けて蒸
着を行うのは1度に蒸着を行うと、その途中で基
準周波数f0を越えてしまうのを防止するためで、
一般には2回目の蒸着は前記第1回目よりさらに
微少量で、また、3回目はさらに微少量の蒸着を
行うもので、この3回目の蒸着中に基準周波数f0
に到達するものが多いものである。
また、基準周波数f0に到達したか否かは調整し
ようとする水晶振動子1の導出端子6,6を発振
回路(図示せず)に接続して発振させ、該発振回
路からの信号と別に基準周波数f0で発振する発振
器からの信号とのゼロビートを検出させればよい
ものである。
そして、調整後、真空蒸着室の真空状態を解除
し、水晶振動子1を再びトレー8,8′に収納し、
再び、他のトレー8,8′から他の水晶振動子1
を取出し、同様の作業を行うものである。
ところで、前記した従来の水晶振動子は、真空
蒸着室内に先ず、水晶片2に励振電極3,3を蒸
着するため収納および取出し、また、周波数調整
のため再び真空蒸着室(同一もしくは他の真空蒸
着室)内に収納し、取出す必要があるため、その
工程が複雑で、また、トレー8,8′に収納され
た水晶振動子を1つづつ取出し、真空蒸着室内の
ターンテーブル10,10′に装置し、調整後、
再びトレー8,8′に収納するものであるため、
作業能率が悪く、水晶振動子1の出入が多く、そ
の途中で水晶片2が破損してしまう等の欠点があ
つた。
本発明は叙上の点に鑑み、同一の真空蒸着室内
に複数個の水晶片を収納し、各水晶片に同時に励
振電極用の基礎蒸着を施すと共に、次いで、その
真空状態を保つたまま順次1つ1つの周波数調整
を行うことにより前記欠点を解消し、作業能率の
向上および水晶片の破損がないものを提供するこ
とを目的とする。
以下、本発明の1実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。第7図は水晶片2を基台5に取付け
た状態を示す正面図である。図から明らかなよう
に、この状態では水晶片2の両面には励振電極
3,3および端子4,4は設けてなく、単に保持
部材7,7に仮止めされた状態である。同図にお
いて20はマスクで、該マスクは基台5に嵌合さ
れており、また、その正面および裏面には蒸着を
許容するための孔21,21が設けてある。な
お、6,6は導出端子である。なお、この状態を
試料と称す。第8図は真空蒸着室22の部分断側
面図である。23は真空蒸着室22の定盤で、該
定盤23上には複数本の支持柱24…が設けてあ
る。支持柱24…には後述する上板および下板の
位置決め用の段部24a……,24b…が設けて
ある。26は上板で、前記支持柱24…の段部2
4b…に位置し、ナツト25…により支持柱24
に取付けられている。27は上板26の中心下部
に保持されたモータ、28はモータ27の回転
軸、29は回転軸28に取付けられた伝達軸で、
該伝達軸29は太径部29aと細径部29bとを
備え、細径部29bの先端はナツト30と噛合で
きるようにネジ部が設けてある。31は前記伝達
軸29の細径部29bに取付けられた第1の蒸着
物遮蔽板で、該蒸着物遮蔽板31は特に第9図示
の平面図から明らかなようにその中心部に取付孔
31aが設けてあり、該取付孔31aから等距離
に且つ、等間隔に蒸着を許容するための孔32a
〜32fが複数個(実施例では6個)が設けてあ
り、さらに、孔32aと孔32fとの中間には周
波数調整用の調整孔33が設けてある。なお、調
整孔33も取付孔31aから等距離の位置に設け
てある。34は蒸着物遮蔽板31に設けた係止片
である。35は第2の蒸着物遮蔽板で、該蒸着物
遮蔽板35は特に第10図示の平面図から明らか
なように、伝達軸29の細径部29bに強嵌合に
より取付けられるべき取付孔35aが設けてあ
り、前記第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32
a〜32fに対応する位置に孔36a〜36fが
設けてあるも、調整孔33と対応する孔は設けて
ない。そして、前記第1の蒸着物遮蔽板31は伝
達軸29に対し回転可能に、また、第2の蒸着物
遮蔽板35は伝達軸29に対し、回転不能に取付
けられるものであるが、その取付けについて、第
8図で説明すると、先ず、細径部29bにコイル
バネ37を挿入し、次に、第1の蒸着物遮蔽板3
1を挿入する。この時、取付孔31aは細径部2
9bより大径としてあるため遊嵌された状態とな
つている。次に、フエルト等より成る摩擦板38
を挿入し、その後、第2の蒸着物遮蔽板35を細
径部29bに強嵌合し、ナツト30を噛合すれ
ば、第1の蒸着物遮蔽板31はコイルバネ37の
弾力により摩擦板38を介して適度に第2の蒸着
物遮蔽板35に弾圧されているため、第1の蒸着
物遮蔽板31は一定以上のトルクが加わらない限
り空転することなく伝達軸29の回転に伴なつて
回転することができるものである。39は上板2
6の下部に設けた試料(水晶片2等)取付部材
で、該試料取付部材39は特に第11図示の平面
図より明らかなように円筒形を成し、前記第2の
蒸着物遮蔽板35に設けた孔36a〜36fと同
等数の取付部40a〜40fか等間隔に且つ先端
部が下方に傾斜して設けてある。そして、取付部
40a〜40fに前記第7図に示した試料を取付
けるものである。その詳細を第12図を用いて説
明すると、同図に示すように取付部40aには導
出端子挿入孔41aが設けてあり、該挿入孔41
aに試料の導出端子6,6を挿入すると、導出端
子6,6に取付部40aに設けた孔42aより挿
入孔41a内に進出する検知片43が導出端子
6,6と接触するものである。44は下板で、該
下板44は支持柱24の段部24a…上に位置決
め固定されている。45は定盤23上に設けたモ
ータで、モータ45の回転軸45aは前記下板4
4の孔44aより上方へ突出し、その先端には回
転式テーブル46が取付けてある。また、回転式
テーブル46の回転中心は前記伝達軸29の回転
中心より偏心した位置になるようにしてある。そ
して、回転式テーブル46上には第8図、第13
図に示すように蒸発源となるべき複数個の受皿4
7,48(実施例では2種類)が積置してあり、
回転式テーブル46を回転させ、受皿47あるい
は48を所定位置に定位した時、その定位位置が
第8図に示すように伝達軸29の真下に定位する
ようにしてある。従つて、第8図に1点鎖線に示
したように各試料(水晶片2)に対する入射角α
は伝達軸より等角度、すなわち、蒸着すべき金属
を収納した受皿は各試料に対して等位置に定位す
ることになるものである。受皿47,48はタン
グステン、モリブデン等より成り、一方の受皿4
7は金属物質としてクロム49が、また、他方の
受皿48には金50が収納してある。従つて、本
実施例における水晶片2の表面にはクロム49と
金50の2層蒸着となるようにセツトされてい
る。51は電極で、該電極51は上下動可能に設
けられ、回転式テーブル46が回転し、所定位置
に定位した時、上昇し、所定の受皿を通電させ、
受皿内の金属例えばクロム49を蒸発させるもの
である。52は電極51を上昇あるいは下降する
ためのソレノイドプランジヤーで、該ソレノイド
プランジヤー52に設けたプランジヤー53の往
復運動により電極51を上下動させる。すなわ
ち、プランジヤー53の先端にはカム面53aが
設けてあり、該カム面53aが電極51に設けた
ピン51aを押圧するためである。54は第1の
蒸着物遮蔽板31に設けた係止片34と係合して
第1の蒸着物遮蔽板31をコイルバネ37の弾力
に抗して回転させるための可動部材で、該可動部
材54は下板44の下面に設けたソレノイドプラ
ンジヤー55により可動するものである。なお、
56…は検知片43…と接続したリード線であ
る。57は取外しが可能なカバーである。
次に、本発明の動作について説明すると、先
ず、カバー57を取外し、試料取付部材39の取
付部40a〜40fに試料を取付けると共に、回
転式テーブル46上の受皿47,48に蒸着用金
属であるクロム49と金50とをそれぞれの受皿
47,48に収納すると共に可動部材54を可動
させて第1の蒸着物遮蔽板31に設けた孔32a
〜32fが第14図に示すように第2の蒸着物遮
蔽板35に設けた孔36a〜36fと対応するよ
うに操作すると共にモータ27を若干回転させ、
各孔32a〜32fが取付部40a〜40fに取
付けられた試料と対応する位置に定位させる。ま
た、回転式テーブル46も回転させてクロム49
を収納した受皿47が伝達軸29の真下に定位す
るようにセツトし、その後、カバー57を被せ
て、真空蒸着室内部を真空状態にする。そして、
ソレノイドプランジヤー52を操作して、電極5
1を上昇させ、受皿47を通電すると、クロム4
9が蒸発し、孔32a〜32f(36a〜36f)
および各試料に設けたマスク20の孔21より各
試料(各水晶片2)が同時に金属蒸着(クロム蒸
着)される。所定量のクロム蒸着が終了すると、
再びソレノイドプランジヤー52を操作して、電
極51を降下させる。そして、モータ45を回転
させ、回転式テーブル46を半回転し、今度は金
50を収納した受皿48が伝達軸29の真下に定
位するようにセツトし、再び、電極51を上昇さ
せて、受皿48を通電すると、受皿48内の金5
0が蒸発し、各試料の前記クロム蒸着上にさらに
金が蒸着する。そして、この全蒸着が終了した
後、特に図示してないが取付部40a〜40fを
半回転させるか、一旦、真空状態を解除して、カ
バー57を取外し、試料を半回転して取付け、再
びカバー57を被せ、真空状態と成し、また、回
転式テーブル46を再び半回転し、クロム49を
収納した受皿47を再び伝達軸29の真下に定位
するようにセツトし、前記同様先ずクロム蒸着
を、次いで、回転式テーブル46を半回転して金
蒸着を行うことにより、収納された各試料は同時
に励振電極3,3となるべく基礎蒸着が終了す
る。蒸着すべき金属を収納した受皿47,48を
常に伝達軸29の真下に定位するようにセツトし
たのは蒸着源(受皿)と各試料とが等位置になる
ようにしたもので、これにより複数層に金属を蒸
着する際の蒸着ムラが防止できるものである。
次に、試料(水晶片2)の両面に基礎メツキ後
の周波数調整について説明する。先ず、基礎メツ
キが終了したら、ソレノイドプランジヤー55に
より可動部材54を可動させ、第1の蒸着物遮蔽
板31をコイルバネ37の弾力に抗して若干回転
させ、第1の蒸着物遮蔽板31に設けた調整孔3
3が第15図に示すように第2の蒸着物遮蔽板3
5に設けた孔の1つ例えば36fと対応させる。
従つて、第2の蒸着物遮蔽板35に設けた他の孔
36a〜36eは第1の蒸着物遮蔽板31により
閉鎖状態となり、また、第1の蒸着物遮蔽板31
に設けた孔32a〜32fは第2の蒸着物遮蔽板
35により閉鎖状態となる。従つて、両蒸着物遮
蔽板31,35には調整孔33(36f)の部分
のみが開孔した状態となり、この調整孔33を順
次1つ1つの試料に対応させ周波数調整を行うも
のである。
すなわち、調整孔33を先ず取付部40fに取
付けられた試料と対応させ、回転式テーブル46
の金50に収納した受皿48を通電させ、金50
を微少量蒸発させると、金は調整孔33、マスク
20の孔21を通過して、前記基礎メツキ(励振
電極)上に蒸着する。この時、水晶片2の励振電
極は保持部材7,7、導出端子6,6より検知片
43を介してリード線56に導出され、該リード
線56を発振回路(図示せず)に接続して発振さ
せ、該発振回路からの信号と別に基準周波数f0
発振する発振器からの信号とにより、従来例と同
様、数回の微調整を行い、ゼロビートを検出させ
1つの試料の調整を終了させる。1つの試料の調
整が終了したら、モータ27を所定量回転し、2
つの蒸着物遮蔽板31,35を同時に回転させ、
調整孔33が次の試料と対応するようにし、前記
同様の調整を行う。そして、モータ27を略1回
転させることにより全部の試料の周波数調整が終
了する。終了後、真空状態を解除し、カバー57
を取外し、各試料を取外せば、水晶片2には励振
電極3,3と周波数調整が終了したものが誕生す
ることになる。
なお、前記両蒸着物遮蔽板31,35には6つ
の孔32a〜32f、36a〜36fを、また、
試料取付部材39には6つの取付部40a〜40
fを設けたが、必ずしも6つに限定されることな
く、個数については設計上の任意のことである。
また、回転式テーブル46上には2つの受皿4
7,48を積置したが必ずしも2つに限定される
ことなく、3,4〜10種類と積置することにより
2〜10層あるいはそれ以上に蒸着することができ
るものである。
さらに、調整孔33は第1の蒸着物遮蔽板31
に設けたが、反対に第2の蒸着物遮蔽板35に設
けてもよいものである。
以上、詳細に説明したように、本発明によれ
ば、真空蒸着室22内に2枚の蒸着物遮蔽板3
1,35を水晶片2と蒸発源(受皿47,48)
との間に回転可能に設け、該2枚の蒸着物遮蔽板
には各々対応する位置に複数個の孔32a〜32
fおよび36a〜36fを設けると共に、2枚の
蒸着物遮蔽板のうちどちらか一方には前記孔より
1つ余分に調整孔33を設け、基礎メツキ時には
調整孔を除く各孔を対応させて、各水晶片に同時
に金属蒸着を可能と成すも、周波数調整時には前
記各孔の対向を解除し、調整孔と他方の蒸着物遮
蔽板に設けた孔の1つと対応し、順次周波数調整
の金属蒸着を可能としたので、同一の真空蒸着室
内で、水晶片への基礎蒸着(励振電極)を行なう
工程と、周波数調整の工程とを連続的に行えるの
で、作業能率がよく、しかも水晶片の出入が少な
くてすむので、水晶片を破損させることがなく、
また、試料の取付部40a〜40fを自動半転可
能にすれば、基礎蒸着の工程と周波数調整の工程
において、真空状態を破壊することなく、作業が
単純化され安価に水晶振動子を提供できる等の効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は水晶振動子1の正面図、第2図〜第6
図は周波数調整の従来例を示し、第2図は第1の
トレー8を示し、イ図は正面図、ロ図は側面図、
第3図は第2のトレー8′を示し、イ図は正面図、
ロ図は側面図、第4図は調整装置の正面図、第5
図は同平面図、第6図は他形状の調整装置の平面
図、第7図〜第15図は本発明の実施例を示し、
第7図は試料の正面図、第8図は真空蒸着室22
の部分断側面図、第9図は第1の蒸着物遮蔽板3
1の平面図、第10図は第2の蒸着物遮蔽板35
の平面図、第11図は試料取付部材39の平面
図、第12図は取付部40aに試料を取付けた状
態を示す部分断側面図、第13図は回転式テーブ
ル46の平面図、第14図は基礎蒸着状態を示す
蒸着物遮蔽板31,35の平面図、第15図は周
波数調整状態を示す蒸着物遮蔽板31,35の平
面図である。 1…水晶振動子、2…水晶片、3,3…励振電
極、22…真空蒸着室、31…蒸着物遮蔽板、3
2a〜32f…孔、33…調整孔、35…蒸着物
遮蔽板、36a〜36f…孔、39…試料取付部
材、40a〜40f…取付部、46…回転式テー
ブル、47,48…受皿(蒸発源)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空蒸着室内に複数個の水晶片を収納し、該
    複数個の水晶片に同時に励振電極となるべき金属
    の基礎蒸着を施こし、次いで、1つ1つの水晶片
    に順次周波数の調整を行い得るようにした水晶振
    動子の真空蒸着装置において、真空蒸着室内に2
    枚の蒸着物遮蔽板を前記水晶片と蒸発源との間に
    回転可能に設け、該2枚の蒸着物遮蔽板には各々
    対応する位置に複数個の孔を設けると共に、該2
    枚の蒸着物遮蔽板のうちどちらか一方には前記孔
    より1つ余分に調整孔を設け、基礎蒸着時には前
    記調整孔を除く各孔を対応させて、各水晶片に同
    時に金属蒸着を可能と成すも、周波数調整時には
    前記各孔の対向を解除し、調整孔と他方の蒸着物
    遮蔽板に設けた孔の1つと対応し、順次周波数調
    整の金属蒸着を可能としたことを特徴とする水晶
    振動子の真空蒸着装置。 2 基礎蒸着時には2枚の蒸着物遮蔽板は回転す
    ることなく、周波数調整時のみ回転し得るように
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の水晶振動子の真空蒸着装置。 3 2枚の蒸着物遮蔽板は摩擦結合していること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の水晶振
    動子の真空蒸着装置。
JP5404881A 1981-04-10 1981-04-10 Vacuum vapor-depositing device of crystal resonator Granted JPS57169085A (en)

Priority Applications (1)

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JP5404881A JPS57169085A (en) 1981-04-10 1981-04-10 Vacuum vapor-depositing device of crystal resonator

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JPS57169085A JPS57169085A (en) 1982-10-18
JPH021224B2 true JPH021224B2 (ja) 1990-01-10

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ID=12959715

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JPS57169085A (en) 1982-10-18

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