JPH02123775A - Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置 - Google Patents
Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置Info
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- JPH02123775A JPH02123775A JP27622688A JP27622688A JPH02123775A JP H02123775 A JPH02123775 A JP H02123775A JP 27622688 A JP27622688 A JP 27622688A JP 27622688 A JP27622688 A JP 27622688A JP H02123775 A JPH02123775 A JP H02123775A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、エキシマレーザ装置等のＸ線予備電離放電励
起パルスガスレーザ装置に関する。
起パルスガスレーザ装置に関する。
（従来の技術）
放電励起パルスガスレーザ装置においては、高気圧のレ
ーザガスをパルス的にグロー放電させることによってレ
ーザを励起している。上記のレーザガスを均一にグロー
放電させるためには、放電に先立って放電電極対間隙の
放電空間（以下、単に放電空間と称す）に多数の電子、
イオン対を形成する予備電離が必要不可欠である。
ーザガスをパルス的にグロー放電させることによってレ
ーザを励起している。上記のレーザガスを均一にグロー
放電させるためには、放電に先立って放電電極対間隙の
放電空間（以下、単に放電空間と称す）に多数の電子、
イオン対を形成する予備電離が必要不可欠である。
予備電離方式としては、ピンアーク放電を用いた紫外線
予備電離（以下、ピンアーク予備電離と称す）、コロナ
予備電離及びＸ線予備電離等が通常用いられている。
予備電離（以下、ピンアーク予備電離と称す）、コロナ
予備電離及びＸ線予備電離等が通常用いられている。
Ｘ線予備電離は、放電に先立ってＸ線源からのＸ線を放
電空間のレーザガスに照射し、光電効果及びコンプトン
効果等によって生成する電子を用いるもので、他の予備
電離方式に比べＸ線の透過力が大きいためにレーザガス
を均一に予備電離できることや、Ｘ線源をレーザ管外に
配置するためレーザガス中での不純物の発生を防げる等
の利点を有し、一般的に用いられている。なお、Ｘ線予
備電離に関しては、「レーザ研究第１２巻、第３号、第
３〜１３ページ（１９８４） Ｊに詳しく記述されてい
る。
電空間のレーザガスに照射し、光電効果及びコンプトン
効果等によって生成する電子を用いるもので、他の予備
電離方式に比べＸ線の透過力が大きいためにレーザガス
を均一に予備電離できることや、Ｘ線源をレーザ管外に
配置するためレーザガス中での不純物の発生を防げる等
の利点を有し、一般的に用いられている。なお、Ｘ線予
備電離に関しては、「レーザ研究第１２巻、第３号、第
３〜１３ページ（１９８４） Ｊに詳しく記述されてい
る。
また、物質によるＸ線の質量吸収係数はＷ／９−物質の
原子番号２の４乗に比例し、Ｘ線の波長λの３乗に比例
すること（μ／ｐαＺ４λ３）が経験的に知られている
（例えば、東京図會発行の「原子物理ＩＪシュポルスキ
ー著の第９９ページに記述されている）。このことは、
物質の原子番号２が小さい程Ｘ線の透過率が大きくなる
こと及び放電空間のレーザガスに照射するＸ線の波長が
長い程（したがって、Ｘ線のエネルギーが小さい程）、
より多数の子備電離電子を生成できることを意味してい
る。
原子番号２の４乗に比例し、Ｘ線の波長λの３乗に比例
すること（μ／ｐαＺ４λ３）が経験的に知られている
（例えば、東京図會発行の「原子物理ＩＪシュポルスキ
ー著の第９９ページに記述されている）。このことは、
物質の原子番号２が小さい程Ｘ線の透過率が大きくなる
こと及び放電空間のレーザガスに照射するＸ線の波長が
長い程（したがって、Ｘ線のエネルギーが小さい程）、
より多数の子備電離電子を生成できることを意味してい
る。
（発明が解決しようとする課題）
従来のＸ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置では
、レーザ管外に配置したＸ線からのＸ線の一部を透過し
、レーザ管内の放電空間のレーザガスに照射するための
Ｘ線照射窓としてアルミニウム（Ａ１）の薄板を用いて
いる（例えば、「アプライド・フィジックス・レター（
Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、 ４２（２）。
、レーザ管外に配置したＸ線からのＸ線の一部を透過し
、レーザ管内の放電空間のレーザガスに照射するための
Ｘ線照射窓としてアルミニウム（Ａ１）の薄板を用いて
いる（例えば、「アプライド・フィジックス・レター（
Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 Ｌｅｔｔ、 ４２（２）。
１４９（１９８３） Ｊに記載の装置）。
物質に入射するＸ線の強度をＩｏ、物質の質量吸収係数
を１１／９、物質の密度をｐ、物質の厚さをｔとし、物
質を通過した後のＸ線強度を１とするとＩ＝Ｉ。ｅ−（
＄ｐ）ρＬと表わされる。今、アルミニウム薄板の厚さ
を１ｍｍとし、波長λ＝ １．２９５２Ａ（エネルギー
Ｅ〜９．６ｋｅＶ）のＸ線の透過を考えると、この波長
でのアルミニウム（Ａ１）の質量の吸収係数は約２９．
３ｃｍ２／ｇであるから、Ｉ／Ｉｏ ＝ ０．３６％と
なりこの波長以下の波長のＸ線はほとんど透過しないこ
とが判る。しがし、前述したように、レーザガスによる
Ｘ線の質量吸収係数は波長が短くなる程小さくなる（各
物質の質量吸収係数は、例えば「インターナショナル・
テーブル・フォ・エックスレイ・クリスタログラフィー
（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｔａｂｌｅｓ ｆｏｒ
Ｘ−ｒａｙ ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ）Ｊ第
３巻に記載されている）。例えば、放電励起パルスガス
レーザ装置の一つであるＸｅＣ１エキシマレーザ装置の
レーザガスであるキセノンガス（Ｘｅ）の場合、λ〜０
．２４人（Ｅ〜５０ＫｅＶ）における質量吸収係数はλ
〜１．２９人（Ｅ〜１０ＫｅＶ）における質量吸収係数
の１／１００以下である。したがって、Ｘ線照射窓とじ
てアルミニウム（ＡＩ）の薄板を用いる従来のＸ線予備
電離放電励起パルスガスレーザ装置では、放電空間のレ
ーザガスを電離する効率が高い長波長のＸ線は放電空間
にほとんど到達できない。このため、従来の装置では、
発生Ｘ線の総線量の大きなＸ線源を用いる必要が有り、
装置の運転コストが高くなるという問題点がある。また
、発生Ｘ線の総線量を増すために６０〜１８０ＫＶもの
高い管電圧のＸ線源を用いることから、Ｘ線源の寿命が
短いこと及び装置が大型化し、製作費が高くなる等の問
題点がある。
を１１／９、物質の密度をｐ、物質の厚さをｔとし、物
質を通過した後のＸ線強度を１とするとＩ＝Ｉ。ｅ−（
＄ｐ）ρＬと表わされる。今、アルミニウム薄板の厚さ
を１ｍｍとし、波長λ＝ １．２９５２Ａ（エネルギー
Ｅ〜９．６ｋｅＶ）のＸ線の透過を考えると、この波長
でのアルミニウム（Ａ１）の質量の吸収係数は約２９．
３ｃｍ２／ｇであるから、Ｉ／Ｉｏ ＝ ０．３６％と
なりこの波長以下の波長のＸ線はほとんど透過しないこ
とが判る。しがし、前述したように、レーザガスによる
Ｘ線の質量吸収係数は波長が短くなる程小さくなる（各
物質の質量吸収係数は、例えば「インターナショナル・
テーブル・フォ・エックスレイ・クリスタログラフィー
（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｔａｂｌｅｓ ｆｏｒ
Ｘ−ｒａｙ ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ）Ｊ第
３巻に記載されている）。例えば、放電励起パルスガス
レーザ装置の一つであるＸｅＣ１エキシマレーザ装置の
レーザガスであるキセノンガス（Ｘｅ）の場合、λ〜０
．２４人（Ｅ〜５０ＫｅＶ）における質量吸収係数はλ
〜１．２９人（Ｅ〜１０ＫｅＶ）における質量吸収係数
の１／１００以下である。したがって、Ｘ線照射窓とじ
てアルミニウム（ＡＩ）の薄板を用いる従来のＸ線予備
電離放電励起パルスガスレーザ装置では、放電空間のレ
ーザガスを電離する効率が高い長波長のＸ線は放電空間
にほとんど到達できない。このため、従来の装置では、
発生Ｘ線の総線量の大きなＸ線源を用いる必要が有り、
装置の運転コストが高くなるという問題点がある。また
、発生Ｘ線の総線量を増すために６０〜１８０ＫＶもの
高い管電圧のＸ線源を用いることから、Ｘ線源の寿命が
短いこと及び装置が大型化し、製作費が高くなる等の問
題点がある。
本発明の目的は、このような課題を解決したＸ線予備電
離放電励起パルスガスレーザ装置を提供することにある
。
離放電励起パルスガスレーザ装置を提供することにある
。
（課題を解決するための手段）
・本発明は、内部に高気圧のレーザガスを封入するレー
ザ管と、前記レーザ管内に配置し空間を隔てて対向する
放電電極対と、前記レーザ管外に配置するＸ７凍源と、
前記Ｘ線源からのＸ線の一部を透過し放電空間に照射す
るためのＸ線照射窓とを少なくとも備えるＸ線予備電離
放電励起パルスガスレーザ装置において、前記Ｘ線照射
窓を原子番号が１〜１２の元素またはそれらの化合物か
ら構成される物質で形成することを特徴とするＸ線予備
電離放電励起パルスガスレーザ装置である。
ザ管と、前記レーザ管内に配置し空間を隔てて対向する
放電電極対と、前記レーザ管外に配置するＸ７凍源と、
前記Ｘ線源からのＸ線の一部を透過し放電空間に照射す
るためのＸ線照射窓とを少なくとも備えるＸ線予備電離
放電励起パルスガスレーザ装置において、前記Ｘ線照射
窓を原子番号が１〜１２の元素またはそれらの化合物か
ら構成される物質で形成することを特徴とするＸ線予備
電離放電励起パルスガスレーザ装置である。
（作用）
本発明のＸ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置に
おいては、Ｘ線照射窓を原子番号１２以下の元素すなわ
ちＡＩより原子番号の小さい元素から構成される物質に
よって形成している。このような構成の本発明のＸ線予
備電離放電励起パルスガスレーザ装置では、レーザ管外
に配置したＸ線源から発生するＸ線において、レーザガ
スを電離する効率の極めて高い長波長のＸ線がＸ線照射
窓を透過し放電空間まで到達できることから、より少な
いＸ線の総線量で均一なグロー放電を起こすために必要
な数の子備電離電子を得ることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源の総線量を小さくできるため、装置の
運転コストを低減できる。また、Ｘ線源において、より
低い管電圧でも放電空間において十分な予備電離電子数
を得ることが可能になるため、装置を小型化できること
及び製作費を低減できることに加えて、Ｘ線源の寿命を
長くでき装置全体の寿命を長くすることが可能であると
いう利点を有する。
おいては、Ｘ線照射窓を原子番号１２以下の元素すなわ
ちＡＩより原子番号の小さい元素から構成される物質に
よって形成している。このような構成の本発明のＸ線予
備電離放電励起パルスガスレーザ装置では、レーザ管外
に配置したＸ線源から発生するＸ線において、レーザガ
スを電離する効率の極めて高い長波長のＸ線がＸ線照射
窓を透過し放電空間まで到達できることから、より少な
いＸ線の総線量で均一なグロー放電を起こすために必要
な数の子備電離電子を得ることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源の総線量を小さくできるため、装置の
運転コストを低減できる。また、Ｘ線源において、より
低い管電圧でも放電空間において十分な予備電離電子数
を得ることが可能になるため、装置を小型化できること
及び製作費を低減できることに加えて、Ｘ線源の寿命を
長くでき装置全体の寿命を長くすることが可能であると
いう利点を有する。
（実施例）
次に、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図は、本発明の第１の実施例を示す模式的な断面図
である。なお、本図には本発明に係る部分のみが示しで
ある。
である。なお、本図には本発明に係る部分のみが示しで
ある。
本実施例ではレーザ管１の外に配置したＸ線源４からの
Ｘ線９を放電空間６に照射するためのＸ線照射窓として
、原子番号が１２以下の元素単体もしくはそれらの化合
物から構成される、ベリラム（Ｂｅ）、炭素材（Ｃ）、
窒化ボロン（ＢＮ）、ポリフッ化ビニル■Ｈ２−ＣＨＦ
祐）、ポリフッ化ビニリデン（−ｅＣＨ２−ＣＦ２ｉ）
酸化ベリリウム（ＢｅＯ）及びポリテトラフルオロエチ
レンｅｅＣＦ２−ＣＦ２Ｔｈ）等の物質で形成した低原
子番号Ｘ線照射窓（以下、単に低原子番号Ｘ線照射窓と
称す）５を用い、第１及び第２の放電電極２，３間に形
成される電界方向に垂直な方向からコリメータ７でコリ
メートされたＸ線９を放電空間６に照射する構成をとっ
ている。
Ｘ線９を放電空間６に照射するためのＸ線照射窓として
、原子番号が１２以下の元素単体もしくはそれらの化合
物から構成される、ベリラム（Ｂｅ）、炭素材（Ｃ）、
窒化ボロン（ＢＮ）、ポリフッ化ビニル■Ｈ２−ＣＨＦ
祐）、ポリフッ化ビニリデン（−ｅＣＨ２−ＣＦ２ｉ）
酸化ベリリウム（ＢｅＯ）及びポリテトラフルオロエチ
レンｅｅＣＦ２−ＣＦ２Ｔｈ）等の物質で形成した低原
子番号Ｘ線照射窓（以下、単に低原子番号Ｘ線照射窓と
称す）５を用い、第１及び第２の放電電極２，３間に形
成される電界方向に垂直な方向からコリメータ７でコリ
メートされたＸ線９を放電空間６に照射する構成をとっ
ている。
この場合、Ｘ線源４から発生するＸ線の中で、レーザガ
スを電離する効率の極めて高い長波長のＸ線が低原子番
号Ｘ線照射窓５を透過し放電空間６まで到達することが
可能である。例えば、放電励起パルスガスレーザ装置の
一つであるＸｅＣ１エキシマレーザ装置のレーザガスで
あるキセノンガス（Ｘｅ）による質量吸収係数が、波長
λ〜０．２４Ａ（Ｅ〜５０ＫｅＶ）のＸ線の場合の１０
０倍以上である波長 λ＝１．２９５２人（Ｅ〜９．６ＫｅＶ）のＸ線の透過
を考えてみる。この波長のＸ線では、厚さｔ＝１ｍｍの
アルミニウム（Ａ１）の透過率Ｉ／Ｉｏは約０．３６％
となりほとんど透過しない。一方、厚さｔ＝１ｍｍのベ
リラム（Ｂｅ）、炭素材（Ｃ）、窒化ボロン（ＢＮ）、
ポリフッ化ビニル（（（ＣＨ２−ＣＦ２ｉ）、酸化ベリ
リウム（ＢｅＯ）及びポリテトラフルオロエチレン（（
ＣＦ２−ＣＦ２Ｍ）のこの波長での透過率Ｉ／Ｉｏは、
それぞれ約８４％、約４８％、約３８％、約３０％、約
２６％及び約１７％である。このように、本実施例の構
成をとれば、レーザガスを電離する効率の極めて高い長
波長のＸ線も放電空間６まで到達できるため、より少な
いＸ線の総線量で均一なグロー放電を起こすために必要
な数の予備電離電子を得ることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源４の総線量を小さくできるため装置の
運転コストを低減できると同時に、より低い管電圧のＸ
線源でも十分な予備電離電子数を得ることが可能になる
ため、装置の寸法及び製作費を低減できるとともにＸ線
源の寿命を長くすることが可能になる。
スを電離する効率の極めて高い長波長のＸ線が低原子番
号Ｘ線照射窓５を透過し放電空間６まで到達することが
可能である。例えば、放電励起パルスガスレーザ装置の
一つであるＸｅＣ１エキシマレーザ装置のレーザガスで
あるキセノンガス（Ｘｅ）による質量吸収係数が、波長
λ〜０．２４Ａ（Ｅ〜５０ＫｅＶ）のＸ線の場合の１０
０倍以上である波長 λ＝１．２９５２人（Ｅ〜９．６ＫｅＶ）のＸ線の透過
を考えてみる。この波長のＸ線では、厚さｔ＝１ｍｍの
アルミニウム（Ａ１）の透過率Ｉ／Ｉｏは約０．３６％
となりほとんど透過しない。一方、厚さｔ＝１ｍｍのベ
リラム（Ｂｅ）、炭素材（Ｃ）、窒化ボロン（ＢＮ）、
ポリフッ化ビニル（（（ＣＨ２−ＣＦ２ｉ）、酸化ベリ
リウム（ＢｅＯ）及びポリテトラフルオロエチレン（（
ＣＦ２−ＣＦ２Ｍ）のこの波長での透過率Ｉ／Ｉｏは、
それぞれ約８４％、約４８％、約３８％、約３０％、約
２６％及び約１７％である。このように、本実施例の構
成をとれば、レーザガスを電離する効率の極めて高い長
波長のＸ線も放電空間６まで到達できるため、より少な
いＸ線の総線量で均一なグロー放電を起こすために必要
な数の予備電離電子を得ることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源４の総線量を小さくできるため装置の
運転コストを低減できると同時に、より低い管電圧のＸ
線源でも十分な予備電離電子数を得ることが可能になる
ため、装置の寸法及び製作費を低減できるとともにＸ線
源の寿命を長くすることが可能になる。
第２図は、本発明の第２の実施例を示す模式的な断面図
で、本発明に係る部分のみが示しである。
で、本発明に係る部分のみが示しである。
本実施例では、放電電極対の一方の放電電極を開孔放電
電極１０とし、この開孔放電電極１０の背面のレーザ管
１の管壁に低原子番号Ｘ線照射窓５を設け、図の如くＸ
線源４からのＸ線９を開孔放電電極１０の背面から放電
空間６に照射する構成をとっている。本実施例でも第１
図に示した本発明の第１の実施例と同様に、レーザ管１
の外に配置したＸ線源からのＸ線９を放電空間６に照射
するためのＸ線照射窓としてＸ線の質量吸収係数が小さ
な原子番号１２以下の元素から構成される物°質で形成
した低原子番号Ｘ線照射窓５を用いる構成をとっている
ため、レーザガスを電離する効率の極めて高い長波長の
Ｘ線も放電空間６に到達できる。したがって、用いるＸ
線源４の総線量を小さくできるため装置の運転コストの
低減が可能であると同時に、より低い管電圧のＸ線源で
も十分な予備電離電子数を得ることが可能になるため、
装置の寸法及び製作費を低減できるとともにＸ線）原の
寿命を長くすることが可能になる。
電極１０とし、この開孔放電電極１０の背面のレーザ管
１の管壁に低原子番号Ｘ線照射窓５を設け、図の如くＸ
線源４からのＸ線９を開孔放電電極１０の背面から放電
空間６に照射する構成をとっている。本実施例でも第１
図に示した本発明の第１の実施例と同様に、レーザ管１
の外に配置したＸ線源からのＸ線９を放電空間６に照射
するためのＸ線照射窓としてＸ線の質量吸収係数が小さ
な原子番号１２以下の元素から構成される物°質で形成
した低原子番号Ｘ線照射窓５を用いる構成をとっている
ため、レーザガスを電離する効率の極めて高い長波長の
Ｘ線も放電空間６に到達できる。したがって、用いるＸ
線源４の総線量を小さくできるため装置の運転コストの
低減が可能であると同時に、より低い管電圧のＸ線源で
も十分な予備電離電子数を得ることが可能になるため、
装置の寸法及び製作費を低減できるとともにＸ線）原の
寿命を長くすることが可能になる。
さらに、本実施例では、開孔放電電極１０の背面から放
電空間６に照射する構成をとるため、放電空間６にレー
ザガスを循環することが容易な構成を取り易く装置の高
繰り返し動作が可能である。
電空間６に照射する構成をとるため、放電空間６にレー
ザガスを循環することが容易な構成を取り易く装置の高
繰り返し動作が可能である。
第３図は、本発明の第３の実施例を示す模式的な断面図
で、本図でも本発明に係る部分のみが示しである。
で、本図でも本発明に係る部分のみが示しである。
本実施例では、第１及び第２図に示した本発明の第１及
び第２の実施例と同様に、レーザ管１の外に配置したＸ
線源４からのＸ線９を放電空間６に照射するためのＸ線
照射窓として原子番号１２以下の元素から構成される物
質で形成した低原子番号Ｘ線照射窓５を用いるとともに
、この低原子番号Ｘ線照射窓５が放電電極対の一方の放
電電極を兼ねる構成をとっている。本実施例の構成をと
ることによって、レーザガスを電離する効率の極めて高
い長波長のＸ線も含めてＸ線源４からのＸ線をより多く
放電空間６まで到達させることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源４の総線量をより小さくできるため装
置の運転コストの低減が可能であると同時に、より低い
管電圧のＸ線源も十分な予備電離電子数を得ることが可
能になるため、装置の寸法及び製作費を低減できるとと
もにＸ線源の寿命をより長くすることが可能になる。
び第２の実施例と同様に、レーザ管１の外に配置したＸ
線源４からのＸ線９を放電空間６に照射するためのＸ線
照射窓として原子番号１２以下の元素から構成される物
質で形成した低原子番号Ｘ線照射窓５を用いるとともに
、この低原子番号Ｘ線照射窓５が放電電極対の一方の放
電電極を兼ねる構成をとっている。本実施例の構成をと
ることによって、レーザガスを電離する効率の極めて高
い長波長のＸ線も含めてＸ線源４からのＸ線をより多く
放電空間６まで到達させることが可能となる。したがっ
て、用いるＸ線源４の総線量をより小さくできるため装
置の運転コストの低減が可能であると同時に、より低い
管電圧のＸ線源も十分な予備電離電子数を得ることが可
能になるため、装置の寸法及び製作費を低減できるとと
もにＸ線源の寿命をより長くすることが可能になる。
また、本実施例でも本発明の第２の実施例と同様に、放
電空間６にレーザガスを循環することが容易であるから
装置の高繰り返し動作が可能である。
電空間６にレーザガスを循環することが容易であるから
装置の高繰り返し動作が可能である。
（発明の効果）
以上述べた様に、本発明のＸ線予備電離放電励起パルス
ガスレーザ装置によれば、レーザガスを電離する効率の
極めて高い長波長のＸ線も含めてレーザ管外に配置した
Ｘ線源からのＸ線をより多くレーザ管内の放電空間まで
到達させることが可能となる。したがって用いるＸ線源
の総線量をより小さくできることから装置の運転コスト
の低減が可能になると同時に、より低い管電圧のＸ線源
でも均一なグロー放電を起こすために十分な予備電離電
子数を得ることができるから、装置の寸法及び製作費を
低減できかつＸ線源の寿命が伸び装置全体の寿命を長く
することが可能になる。
ガスレーザ装置によれば、レーザガスを電離する効率の
極めて高い長波長のＸ線も含めてレーザ管外に配置した
Ｘ線源からのＸ線をより多くレーザ管内の放電空間まで
到達させることが可能となる。したがって用いるＸ線源
の総線量をより小さくできることから装置の運転コスト
の低減が可能になると同時に、より低い管電圧のＸ線源
でも均一なグロー放電を起こすために十分な予備電離電
子数を得ることができるから、装置の寸法及び製作費を
低減できかつＸ線源の寿命が伸び装置全体の寿命を長く
することが可能になる。
第１図、第２図及び第３図は、本発明の第１、第２及び
第３の実施例をそれぞれ示す模式的な断面図である。 図において、 １・・・レーザ管、２・・・第１の放電電極、３・・・
第２の放電電極、４．・・Ｘ線源、５・・・低原子番号
Ｘ線照射窓、６・・・放電空間、７・・・コリメータ、 ８・・・励起回路、 ９・・・Ｘ線、 １０・・・開孔放電電極、 である。
第３の実施例をそれぞれ示す模式的な断面図である。 図において、 １・・・レーザ管、２・・・第１の放電電極、３・・・
第２の放電電極、４．・・Ｘ線源、５・・・低原子番号
Ｘ線照射窓、６・・・放電空間、７・・・コリメータ、 ８・・・励起回路、 ９・・・Ｘ線、 １０・・・開孔放電電極、 である。
Claims (1)
- 内部に高気圧のレーザガスを封入するレーザ管と、前記
レーザ管内に配置し空間を隔てて対向する放電電極対と
、前記レーザ管外に配置するＸ線源と、前記Ｘ線源から
のＸ線の一部を透過し前記放電電極対間隙の放電空間に
照射するためのＸ線照射窓とを少なくとも備えるＸ線予
備電離放電励起パルスガスレーザ装置において、前記Ｘ
線照射窓を原子番号が１〜１２の元素またはそれらの化
合物から構成される物質で形成することを特徴とするＸ
線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27622688A JPH02123775A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27622688A JPH02123775A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02123775A true JPH02123775A (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=17566449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27622688A Pending JPH02123775A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02123775A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06350167A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-22 | Nec Corp | Ｘ線放電励起ガスレーザ用電極及びガスレーザ装置 |
| US20220200225A1 (en) * | 2020-12-21 | 2022-06-23 | Hamamatsu Photonics K.K | Light emitting sealed body and light source device |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP27622688A patent/JPH02123775A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06350167A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-22 | Nec Corp | Ｘ線放電励起ガスレーザ用電極及びガスレーザ装置 |
| US20220200225A1 (en) * | 2020-12-21 | 2022-06-23 | Hamamatsu Photonics K.K | Light emitting sealed body and light source device |
| US11862922B2 (en) * | 2020-12-21 | 2024-01-02 | Energetiq Technology, Inc. | Light emitting sealed body and light source device |
| US12191623B2 (en) * | 2020-12-21 | 2025-01-07 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light emitting sealed body and light source device |
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