JPH02126938A - 水処理用触媒 - Google Patents

水処理用触媒

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JPH02126938A
JPH02126938A JP1175596A JP17559689A JPH02126938A JP H02126938 A JPH02126938 A JP H02126938A JP 1175596 A JP1175596 A JP 1175596A JP 17559689 A JP17559689 A JP 17559689A JP H02126938 A JPH02126938 A JP H02126938A
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Kiichiro Mitsui
三井 紀一郎
Toru Ishii
徹 石井
Sadao Terui
照井 定男
Kunio Sano
邦夫 佐野
Akira Inoue
明 井上
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はオゾンを用いた水処理において処理後に水中に
残留する溶存オシ、ンを分解除去する水処理用触媒に関
する。
〈従来の技術〉 オゾン処理は水中の有害成分、臭気成分、着色成分等の
酸化的分解除去に広く用いられており、排水、上水の処
理に利用されている。特に近年トリへロメタンによる汚
染の問題や上水道における取水水質の悪化による臭気問
題、排水規制の強化による高度処理の必要性から重要性
を増してきている。一方、オゾン処理後の水中に残留す
るオゾンの問題も生じてきている。オゾンは水中で徐々
に分解して行くが、中性から酸性域では分解スビ−ドが
遅く残留が問題となる。例えばオゾン処理後塩素処理を
する場合には必要塩素量が増加するというデメリットを
もたらす。また、オゾン処理後活性炭処理をする場合に
はオゾンが活性炭を酸化的に消費Jるという問題が生じ
る。これらを防ぐためには残留しているオゾンを除去す
ることが必要である。従来これに関する技術は少なく、
触媒を用いる方法としては、二酸化マンガン触媒皮膜を
有する濾材層を用いる方法(特開昭59−139991
)がある。
〈発明が解決しようとする問題点〉 水中の溶存オゾンはアルカリ性域では比較的速やかに分
解して行くが、中性から酸性域では分解スピードが遅く
、分解するまでに時間を要し、残留が問題となる。前述
の二酸化マンガン触媒皮膜を右する濾材層を用いる方法
はオゾンの分解除去に処理時間がかかり効率は十分なも
のではない。
また、濾材層の処理量に対する容積が大きいため装置自
体が大型化するという難点もある。
従って、本発明の目的は従来品に比して高オゾン分解活
性かつ長期間にわたり安定性を有し、幅広いl)H領域
において水中に残留する溶存オゾンを分解除去すること
ができる水処理用触媒を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉 この目的は、触媒A成分としてチタン、ケイ素、アルミ
ニウムおよびジルコニウムよりなる群から選ばれた少な
くとも一種の元素の酸化物および触媒日成分として、マ
ンガン、鉄、コバルト、ニッケル、セリウム、タングス
テン、銅、銀、金、白金、パラジウム、ロジウム、ルテ
ニウムおよびイリジウムよりなる群から選ばれた少なく
とも一種の元素の水に不溶性または難溶性の化合物を含
有してなることを特徴とする水中の溶存オゾンの分解除
去に用いられる水処理用触媒により達成される。また、
本発明は該触媒がベレット、バイブまたはハニカムの形
状に成型された固定床用触媒であることを特徴とする水
中の溶存オゾンの分解除去に用いられる水処理用触媒で
もある。
本発明にかかる触媒の特徴は触媒A成分とじてチタン、
ケイ素、アルミニウムおよびジルコニウムよりなる群か
ら選ばれた少なくとも一種の元素の酸化物および触媒B
成分として、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、セリ
ウム、タングステン、銅、銀、金、白金、パラジウム、
ロジウム、ルテニウムおよびイリジウムよりなる群から
選ばれた少なくとも一種の元素の水に不溶性または難溶
性の化合物を含有してなることである。すなわち、本発
明者らの検討によれば触媒A成分単独または触媒日成分
単独では十分なオゾン分解活性および長期間にわたる安
定性は得られず、触媒へ成分と触媒B成分とが共に含有
されることによりオゾン分解効率が上がり、経時変化の
少ない触媒となっているのである。
本発明で使用する触媒における各触媒成分の比率は触媒
A成分が酸化物として10〜99.99@i%、好まし
くは80〜99.95重量%であり、触媒B成分が金属
または化合物として0.01〜30fi 吊%、好まし
くは0,05〜20重量%であることが適当であ裏 h
7±I/l+始幻Od%八を世山豐スニ寞ハ出マンガン
、鉄、コバルト、ニッケル、セリウム、タングステン、
銅および銀の使用量は、化合物(例えば酸化物、硫化物
などの水に不溶性または難溶性の化合物)として0〜3
0重量%であり、金、白金、パラジウム、ロジウム、ル
テニウムおよびイリジウムの使用量は金属として0〜1
0重皐%である(但し、両者の合hl量は0.01〜3
0重量%である。)。なお、触媒A成分と触媒8成分と
の合計量は100重量%である。触媒B成分が上記範囲
未満の吊ではオゾン分解活性が不充分であり、また、白
金、パラジウムおよびロジウム等の円金属の場合、上記
範囲を越える吊では原料コストが高くなり相応した効果
が期待できない。一方、触媒A成分を上記範囲内にする
ことにより触媒成型性が向上して各種形状の成型が容易
になるとともに、触媒の長期安定性を増し、さらに活性
にも良い影響を与える。また、触媒△成分およびB成分
が上記組成範囲内において相互に分散されていることが
触媒活性の面から好ましい。
一*1−    1山 がJ Δ r;l)  4  
#  E−ノン ゝノ    ノr ノ IX)ぐ  
1−1t  S5  I+。
」ニウムよりなる群から選ばれた少なくとも二種の元素
の複合酸化物であることが好ましい。これらの複合酸化
物は強い固体酸性や大きいBET表面積を持ち、触媒の
活性、触媒成型性および強度安定性の面から好ましい。
本発明で使用する触媒はペレット、バイブまたはハニカ
ムの形状に成型されている固定床用触媒であることが触
媒の取り扱いを容易にし、処理水の流通抵抗を下げるな
どの面から好ましい。特に処理水中に固形物が含有され
る場合においてはハニカムの形状が目詰りの可能性を低
くできるので好ましい。
このハニカムの形状は、貫通孔の相当直径が2〜20#
、セル肉厚が0.1〜3m111および開口率が50〜
90%の範囲が好ましい。さらに、相当直径が2.5〜
15InIRStル肉厚が0.5〜31Mおよび間口率
が50〜80%の範囲にあることが特に好ましい。相当
直径が2麿未満である場合には圧力損失が大きく、特に
水中に固形分が含有される場合には目詰りを生じやすく
なる。相当直径が20.を越える場合には圧力損失は小
さくなり目詰まりの可能性も低くなるものの、触媒活性
が充分でない。セル肉厚が0.1間未満の場合には圧力
損失が小さくなり、触媒を軽量化できるという利点があ
るが、触媒の機械的強度が低下するために好ましくない
。セル肉厚が3mを越える場合には機械的強度は充分で
あるが、圧力損失が大きくなる欠点を有している。
開口率についても上記と同様の理由から50〜90%で
ある。従って、上記の好ましい形状条件を具備したハニ
カム型触媒は充分な機械的強度かつ充分な幾何学的表面
積を有しているため、耐久性に優れ、低圧力損失かつ高
流速で対象水を処理することができる。また、水中に固
形分が含有されている場合にも目詰りを生じることなく
長期にわたって高活性を維持することができる。
本発明の触媒の調製法を述べると、以下の方法が挙げら
れるが、特にこれらの調製法に限定されるものではない
ことはもちろんである。すなわち、触媒日成分として挙
げた遷移金属、貴金属などの活性成分を含む水溶液に上
記触媒A成分の粉体を加えてよく混合し、これを直接成
型した後、50〜120℃で乾燥後300〜800℃、
好ましくは350〜600℃で1〜10時間、好ましく
は2〜6時間焼成して触媒とすることができる。また、
この混合物を焼成して予め触媒組成粉体を作っておき、
それを適当な担体に担持することによっても触媒化でき
る。また、別法として触媒A成分の粉体を成型、乾燥、
焼成して予め触媒担体とし、含浸法によりこれに触媒B
成分の金属塩水溶液を担持、焼成しても触媒化できる。
なお、触媒A成分としてチタン、ケイ素およびジルコニ
ウムよりなる群から選ばれた少なくとも二種の元素の複
合酸化物を用いる場合、これらの複合酸化物粉体は次の
ようにして調製することができる。
例えば、チタンおよびケイ素からなる二元系複合酸化物
(以下、TiO2−8iO2とする)粉体の調製法とし
ては以下の方法が挙げられる°。
■ 四塩化チタンをシリカゾルと共に混合し、アンモニ
アを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を洗滌、乾燥
後300〜650℃、好ましくは350〜600℃で焼
成せしめる方法。
■ 四塩化チタンにケイ酸ナトリウム水溶液を添加し、
反応せしめて沈殿を生成させ、これを洗滌、乾燥後30
0〜650℃、好ましくは350〜600℃で焼成せし
める方法。
■ 四塩化チタンの水−アルコール溶液にエチルシリケ
ート[(C2HsO)4silを添加し加水分解反応せ
しめて沈殿を生成させ、これを洗滌、乾燥後300〜6
50℃、好ましくは350〜600℃で焼成せしめる方
法。
■ 酸化塩化チタン(T i OCj!2)とエチルシ
リケートの水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈
殿を形成せしめ、これを洗滌、乾燥後300〜650℃
、好まシ<ハ35o〜6o。
℃で焼成せしめる方法。
以上の好ましい方法のうちでもとくに■の方法が好まし
く、この方法は具体的には以下のごと〈実施される。す
なわち、上記チタン源およびケイ素源の化合物をT i
 02と5i02のモル比が所定mになるようにとり、
酸性の水溶液状態またはゾル状態でチタンおよびケイ素
を酸化物換尊して1〜100g/ J 、好ましくは1
0〜80g/Jの濃度として10〜100℃に保つ。そ
の中へ撹拌下、中和剤としてアンモニア水を滴下し、1
0分間ないし3時間pH5〜10にて、チタンおよびケ
イ素よりなる共沈化合物を生成せしめ、ン戸別し、よく
洗滌したの580〜140℃で 1〜10時間屹燥し、
300〜650℃、好ましくは300〜600℃で1〜
10時間、好ましくは2〜8時間焼成して王102−8
iO2粉体をえることができる。
また、出発原料としては、ブタン源として塩化チタン類
、硫酸チタン類などの無機性チタン化合物および蓚酸チ
タン、テトライソプロピルチタネートなどの有機性チタ
ン化合物などから選ぶことができ、またケイ素源として
はコロイド状シリカ、水ガラス、四塩化ケイ素など無機
性のケイ素化合物およびテトラエチルシリケートなど有
機ケイ素化合物などから選ぶことができる。そしてこれ
ら原料中には、微量の不純物、混入物のあるものもある
が、えられるTiO2−8iO2の物性に大きく影響を
与えるものでない限り問題とならない。
また、チタンおよびジルコニウム二元系複合酸化物(以
下、TiO2−ZrO2という)粉体の調製法も同様に
して行なうことができる。
そして、好ましいTiO2〜Zr0z粉体の調製法とし
ては、以下の方法が挙げられる。
■ 塩化チタンをオキシ塩化ジルコニウムと共に混合し
、アンモニアを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を
洗滌、乾燥後300〜650℃、好ましくは350〜6
00℃で焼成μしめる方法。
■ 四塩化チタンに硝酸ジルコニウムを添加し、熱加水
分解反応せしめて沈殿を生成させ、これを洗滌、乾燥後
300〜650℃、好ましくは350〜600℃で焼成
せしめる方法。
また、触媒A成分と共に用いる触媒B成分の出゛発原料
としては、酸化物、水酸化物、無機酸塩、有ms塩など
が挙げられ、例えばアンモニウム塩、蓚酸塩、硝酸塩、
硫酸塩またはハロゲン化物などから適宜選ばれる。
本発明で用いる触媒はオゾンをM素にまで分解する能力
を有している。処理温度は0〜90℃の範囲が適当であ
るが、処理温度を一トげろとオゾン自体の無触媒での分
解スピードも上がるが、触媒を用いてより低温で反応を
遂行することによるユーティリティーの削減等のメリッ
トが小さくなるため、処lIl!温度は0〜60℃の範
囲がより好ましい。
処理水量は目的とする処理率や条件により異なり、触媒
11当り 1〜10001/ hrの流量条件で用いら
れる。圧力条件は特に限定されないが常圧において十分
に用いることができる。また、処理対象水中の溶存オゾ
ン濃度はオゾンの溶解飽和濃度から0.IWtg/j!
の範囲が適当である。オゾン濃度が0.1■/1未満で
は触媒を用いるメリットが小さい。
く実 施 例〉 以下に実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
実施例1 チタンおよびジルコニウムの二元系複合酸化物を以下に
述べる方法で調製した。チタン源として以下の組成を有
する硫酸チタニルの@酸水溶液を用いた。
Ti 0804  (Ti 02換算)   250(
]/ 1全1−(2S 04         110
0a/ 1別に水50j!にオキシ塩化ジルコニウム[
Zr OCj!2  81−120F  2.77 K
gを溶解させ、上記組成の硫酸チタニルの硫酸水溶′a
6.4./に添加しつつよく混合した。これを温度的3
0℃に維持しつつよく攪拌しながらアンモニア水を徐々
に滴下し、pHが7になるまで加え、共沈ゲルを生成さ
せた。
さらにそのまま放置して15時間静置した。次いで、ろ
過、水洗後200℃で10時間乾燥した後500℃で5
時間空気雰囲気下で焼成した。得られた粉体の組成はT
i 02  :Zr 02 = 7:  3(モ/L[
)Fあり、BET表面積は120m2 /Qであった。
水850dに前記の粉体1.5Kgおよび澱粉75(l
を加えて混合し、ニーダ−でよく練り合わせた。これを
孔径(貝通孔の相当直径)4m、セル肉厚1Mで開口率
64%のハニカム型に押出成型して 120℃で6時間
乾燥した後、450℃で6時間焼成した。
かくして得られた成型体を塩化パラジウム水溶液に含浸
し、ついで120℃で6時間乾燥し、400℃で3時間
焼成し、Pdを0.5重1%含有する触媒を得た。
実施例2 硝酸第1セリウム[Ce  (NO3)3  61−1
20]  0.5に’jを水0.91に溶解し、市販の
酸化チタン粉体1.8Kgに加え、実施例1の方法に準
じて5m径のペレットを成型した。得られた触媒の組成
はCCO2(10重量%) −Ti  02  (90
重ω%)であった。
実施例3 実施例1に準じてオキシ塩化ジルコニウムの代わりにコ
ロイダルシリカを用い、TiO2:502=9:1(モ
ル比)の組成を持ち、BET表面積が150m2 /g
であるチタンおよびケイ素の二元系複合酸化物の粉体を
得た。
次いで、実施例1において塩化パラジウム水溶液のかわ
りに硝酸マンガン水溶液を用いC実flJi、I’A1
の方法に準じて触媒を調製し、二酸化マンガンを7重石
1%含有し、孔径3sSL’ル肉厚0.58順で開口率
70%であるハニカム型触媒を得た。
実施(!A4 市販の4#径のγ−アルミナ担体を硝酸コバルト水溶液
に含浸し、乾燥、焼成して、Co 30/L(7ffi
Ei96)  Al2O3(93ffEfm%) (7
)Ill成の触媒を得た。
実施例5 反応管に実施例1〜4の触媒を1j2充填し、11当り
5■のオゾンを含み、かつ表1に示すpHを有する常温
の処理水を501 / hr流し、反応させた。反応器
出口でのオゾン含有は測定よりオゾン分解率を出した。
処理結果については表1に示す。
比較例1 5mM径の電解二酸化マンガン粒子を用い、実施例5に
準じて反応を行なった結果を表1に示す。
比較例2 実施例5において、触媒を充填せずに11当り5mgの
オゾンを含むpH5,1の処理水を流して得られた結果
を表1に示す。
表 実施例6 表2に示した触媒を前記実施例に準じて調製した。これ
らの触媒を反応管に11充填し、ゴl当り5Iltgの
オゾンを含みp H6,8の常温の処理水を50j!/
h r流し反応させた。反応器出口でのオゾン含有量測
定よりオゾン分解率を求めた。処理結果を表3に示す。
表 実I1M例7 実施例1〜4および6の触媒について実施例6の条件で
反応を4000時間継続した後、触媒を扱き出した。こ
れらの触媒の圧壊強度試験を行ない、反応前触媒と反応
後触媒との強度比を求めた。
その結果を表4に示す。
表 実施例8 反応管に実施例1および3の触媒を11充填し、これに
SS(懸濁物質)を500■/1含有する水を501/
hrの流量で、またオゾンを含むガスをオゾン流M O
,5(1/hrの割合で流し、常温で反応させた。
その結果は、 反応開始後1000時間を経過し でも触媒は閉塞を起こさなかった。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)触媒A成分としてチタン、ケイ素、アルミニウム
    およびジルコニウムよりなる群から選ばれた少なくとも
    一種の元素の酸化物および触媒B成分としてマンガン、
    鉄、コバルト、ニッケル、セリウム、タングステン、銅
    、銀、金、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウムお
    よびイリジウムよりなる群から選ばれた少なくとも一種
    の元素の水に不溶性または難溶性の化合物を含有してな
    ることを特徴とする水中の溶存オゾンの分解除去に用い
    られる水処理用触媒。
  2. (2)触媒A成分が酸化物として70〜99.99重量
    %であり、触媒B成分が金属または化合物として0.0
    1〜30重量%であることを特徴とする請求項(1)記
    載の触媒。
  3. (3)触媒がペレット、パイプまたはハニカムの形状に
    成型された固定床用触媒であることを特徴とする請求項
    (1)記載の触媒。
  4. (4)触媒A成分がチタン、ケイ素およびジルコニウム
    よりなる群から選ばれた少なくとも二種の元素の複合酸
    化物であることを特徴とする請求項(1)記載の触媒。
JP1175596A 1988-07-12 1989-07-10 水処理用触媒 Granted JPH02126938A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007268527A (ja) * 2006-03-10 2007-10-18 Nippon Shokubai Co Ltd 排水処理用触媒及び該触媒を用いた排水の処理方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007268527A (ja) * 2006-03-10 2007-10-18 Nippon Shokubai Co Ltd 排水処理用触媒及び該触媒を用いた排水の処理方法

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