JPH02134709A - 複合型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、Ｖ　Ｔ　ｌ’ｂ、デジタルオーディオテープ
レコーダ等の磁気記録再生１１Ａ置に装備される１ｉｊ
ｌ気ヘツドに関し、特にメタルチーフ゛等の高抗磁力を
有する記録媒体の記録再生に適した磁気ヘッドに関する
ものである。

（Ｕｅ来の技術） 斯種磁気ヘッドとして、第９図に示す如く一χ・１のフ
ェライトコア（６２）　（（３２）の突／ｌ−，Ｑ部に
、磁気ギャップ部〈６１）を挾んで、パーマロイ、セン
ダスト、アモルファス自余等の金属磁性層（６３）　（
６３）と介装し、磁気ギャップ部（６１）の両側には、
ガラス袈のトランク幅規制部（６４）　（６４）を配備
した複合型磁気ヘッドが提案されている（例えば特開昭
５８−１７５１２２［（：１１［１５／２２］）。

上記磁気ヘッドの製造方法を第１０図（ａ）〜（ｆ）に
基づいて説明する。

先ず第１０［］（ａ）に示すフェライト基板（１）の表
面に、同［２１（１＋）の如くスパッタリングによりセ
ンダストからなる金属磁性層ｐＡ（２）とＳ　＋　０２
Ｍ　（３）を形成する。

次に第１０図（ｅ）の如く前記金属磁性薄膜（２）及び
５ｉｎ２膜（３）に周知のイオンビーｌ・エンチングを
施して、所定のトラック幅ＴＷを有する凸条（２４）を
一定ピツチＰで形成する。

第１０図（ｄ）の如くフェライト基板（１）の各凸条間
の領域に、回転砥石（８）を用いてトラック幅規制溝（
１５）を凹設した後、更に同図（ｅ）の如く前記トラン
ク幅規制？１ｉ（１５）と交叉する方向にコイル講（１
２）及び融着溝（１３）を凹設する９第１０図（ｆ）に
示す様に、上記工程を経て得られた第１のブロック半体
（５１）と、同１１ｆｆｉ　（ｅ）に示す工程を省略し
て得られた第２のプロア２半体（５２）とを、周知のガ
ラス接６法により互いに接合固定し、コアブロック（５
）を作製する。

該コアブロック（５）に図中破線に沿う機械加工を施し
、第９図の磁気へラド（６０）を得る。

（解決しようとする課題） 第１０図（ｃ）に示す凸条（２４）のト・ラック幅ＴＷ
は例えば±２μ輪の寸法公差で高精度に形成されている
から、同図（ｄ）のトラック幅規制溝（１５）の加工工
程では、凸条（２４）が研削されない様に回転砥石（８
）の位置や切込み深さを設定する必要がある。しかし、
回転砥石（８）を２μ−以下の精度で位置決めすること
は困難であり、例えば第１１図に示す様に、凸条（２４
）が破線（９）で示す所定の幅よりも狭くなったり、薄
膜にパリ（９１）や剥離（９２）が発生する。この結果
、従来の製造方法では、歩留りが悪い問題があった。

本発明の目的は、トラック幅規制溝（１１）の加工を高
精度で行なうことが出来る複合型磁気ヘッドの製造方法
を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る複き型磁気ヘッドの製造方法は、ヘッドコ
アとなる磁性基板（１）の表面に、金属磁性層となる資
材を用いて真空薄膜形成技術による成膜を施し、所定の
トラック幅を有する第１凸条（２１）を一定ピンチＰＴ
Ｆａり返し形成すると共に、各第１凸条（２１）間に、
所定の間隔をおいて互いに平行に伸びる一対の第２凸条
（２２）（２２）を繰り返し形成する第１工程と、前記
一対の第２凸条（２２）（２２）の間隔Ｔ、よりも大き
く且つ第１凸条（２１）の間隔Ｔ２よりも小さい直径を
有するワイヤーソー（４）を用いて、基板（１）の第１
凸条間の領域にトラック幅ｊｌｌ制講（１１）を凹設す
る第２工程と、上記工程を経て得られたブロック半体（
５１）を含む一対のブロック半体（５１）（５２）を非
磁性層を介してガラス接きし、コアブロック（５）を１
ト製する第３工程と、該コアブロック（５）に機械加工
を施して複数の磁気ヘソドチッグをｆＰ製する第４工程
とをから構成される。

（作　川） 前記第２工程に於いて、ワイヤーソー（４）を基板（１
）上に設置して、トラック幅規制１ＪＩ（１１）を凹設
する際、先ずワイヤーソー（４）を一対の第２凸条（２
２）（２２）間の四部に密に嵌合せしめることによって
、ワイヤーソー（４）を第２凸条（２２）の精度に応じ
た高い精度で位置決めすることが出来る。

その決、ワイヤーソー（４）の切り込みによって、第２
凸条（２２）が削り取られ、基板（１）の所定位置に断
面円弧状のトラック幅規制溝（１１）が形成される。

（発明の効果） 本発明に係る複合型磁気ヘッドの製造方法によれば、第
１工程に於いて、トラック幅規制溝（１１）を形成すべ
き位置に応じて第２凸条（２２）を精度良く形成ことは
容易であるから、第２工程では、第２凸条（２２）によ
るワイヤーソー（４）の位置決めによって、トラック幅
規制溝（１１）を従来より６高い精度で加工することが
出来、歩留りを改淳することが可能である。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

第１図乃至第８図に基づいて本発明に係る磁気ヘッドの
製造方法の一例を示す。

先ず第１図に示す様に、フェライト基板（１）の表面に
、スパッタリング、真空蒸着等の薄膜形成技Ｈ１ｉを用
いて、センダスト等の金属磁性薄膜（２）（厚さ１〜１
０μ噛〉と厚さＳｉＯ□膜（３）を形成する。

尚、前記薄膜形成時に、フェライト基板く１）を２００
〜３００°Ｃに加熱すれば、薄膜の付着強度を上げるこ
とが出来る。又、センダストの組成は、Ａ１！：５〜９
ｗＬ％、Ｓ　ｉ　：８〜１２　Ｗ　Ｌ　％、残部Ｆｅと
することにより高出力の磁気ヘッドかＩＨ＞られ、更に
、２（２）１％以下のＣｒを添加すれば、磁気ヘッドの
耐蝕性及び耐摩耗性を改善出来ることが確認されている
。

前記ｓ　；　Ｏｒ　ＩＢＩ（３）の表面に、フォトリン
グラフィ技術を用いて、イオンビームエンチング川のレ
ジスＩ・（７）を所定パターンに形成する。該レジスト
（７）のパターンは、１表述の第１凸条（２１）及び第
２凸条（２２）の幅及びピッチに応じて決定される９そ
の後、第２図の如く基板（１）表面に対してイオンビー
ムエツチング（７１）を施し、基板」二に残−〕たレジ
ストを溶剤（アセトン）により除去する。

この結果、第３図に示す４口く、フェライト基板（１）
上には、所定のｌ・ラック幅ＴＷを有する第１凸条（２
１）が一定ピツチＰで形成されると共に、各第１凸条（
２１）間には、所定の間隔′「１をおいて互いに平行に
伸びる一対の第２凸条（２２）　（２２）が、夫／Ｊ隣
接する第１凸条（２１）から同−距雛だけ離して形成さ
れる。

次に、第８図に示す々ｌくワイヤーソー（４）を複数本
のガイド軸（４２）に巻装してなる切１ｔｙｉ′ＩＡ置
く４１）を用いて、フエライ［一基板（１）のに面にト
ランク幅規制ｊＭ（＋１）を凹設する。ワイヤーソー（
４）は１１ｔ１記第１凸条＜２１）のピンチＰと同一ピ
ッチてガイド軸（４２）に巻回されている。

ワイヤーソー（・ｌ）は、第一１図の如く一対の第２凸
条（２２）　（２２）の間隔Ｔ１よりも大きく且つ第１
凸条（２１）の間隔Ｔ２よりも僅かに小さい直径りを有
しており、図示の如く第２凸＋（２２）　（２２）間に
面会せしめた際、ワイヤーソー（・ｌ）は、フェライト
基板（１）から浮いた状態で、画策２凸条（２２）　（
２２）によって支持されることになる。

Ｇｆ、−〕で、第８図の切断装置り４１）をフェライト
基板（１）に対して位置決めする際、各ワイヤーソー（
−１）がｎｉｆ記第２凸＋　（２２）間の四部に偏りな
く咲きする様に微Ａ整することにより、ワイヤーソーク
４）によるト・ランク幅規制溝〈１１）の加工位置を、
第１凸条（２１）間の中心位置に正確に設定することが
出来る。又、ワイヤーソー（４）の位置に多少のズレが
あっても、第２凸条（２２）間ｌ＼の底金時に、自動的
にズレが補正される。

その後、ワイヤーソー（１１）を往１覧移動させながら
、遊離砥粒を供給しつつフエライ］・基板（１）に切り
込むことにより、第・４図に破線で示す様に断面円弧状
のトラック幅規制溝〈１１）が凹設される。

この際、ワイヤーソー（４）は第１凸条（２１）間の中
心位置に正確に位置決めされているから、第１凸条（２
１）が削り取られることはない。

尚、前記薄膜形成工程で形成すべき一対の第２凸条（２
２）の間隔Ｔ１は、［図示の４口くワイヤーソー（４）
を第２凸条（２２）（２２）間に嵌自せしめた際、第２
凸条（２２）間の四部への落ち込み１Ｇが第２凸条り２
２）の高さｌ−１よりも僅かに小さくなる様に設定すれ
ば、ワイヤーソー（４）の位置決め精度を可及的に上け
′ることが出来る。

第５１２に示す様に、」−記工程を経て得られた第１の
プロｌり半体（５１）に、１ヘラツク幅規制講（１１）
と交叉する方ｌｌｌＩ４こコイル堝（１２）及び融ｉ６
扇（１３）を凹設置−る９ これによって得られたブロック半体（５１）と、第５図
の工程を省略して得られた第２のブし７ノク゛ト体（５
２）とを、第０図の如く周知のガラス接ｒＴ法により互
いに接３固定し、二１アブロック（５）を作製する。こ
び）際、トラック幅規制講（１１）にはガラスが充填（
６６）される。

該コアブｔ７ノ２（５）に対し、口中破線Ａに沿−）て
曲面研磨を施した接、破線Ｂに沿ってスライスすること
により、第７図の磁気ヘッド（６）が完成する。

該磁気ヘッドは、第９図の磁気ヘッドと基本的に同一構
造であるが、フェライトコア（６２）とトラック幅規制
部（６４）の境界面が円弧面となる違いがある。

上記複り型磁気ヘッドの製造方法によれば、所定のトラ
ック幅及びギャツプ長を有する磁気ヘッドが歩留り良く
装造されるばかりでなく、第８図の切断装置（４１）を
用いることによって、多数のトラック幅用ｉｌ’ｌｉＭ
（Ｉ＋）を同時に加工出来、生産能率を大幅に改善出来
る。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

例えば、第１図のフェライト・基板（１）と金属磁性薄
膜（２）との間に、耐熱性Ｓ　ｉ　Ｏ２薄膜（例えば厚
さ０．０１μ−）を形成すれば、第７Ｉ２Ｉの磁気ヘッ
ドに於いて、金属磁性層〈６３）とフェライトコア（６
２）との境界面に擬（υ、ギャップが形成されることを
効果的に阻止出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第６図は本発明に係る磁気ヘッドの￥ＩＪ造
方法を示す工程図、第７図は該磁気ヘッドの斜面図、第
８図はワイヤーソーを用いた切断装置の）゛）面図、第
９Ｉ２Ｉは従来の磁気ヘッドの斜面図、第１０図（ａ）
〜（ｆ）は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、
第１１図は従来の製造方法の問題点を説明する図である
。 （１）・・・フェライト基板　　（２）・・・金属磁性
薄膜（２１）・・・第１凸条　　　　　（２２）・・・
第２凸条（１１）・・トランク幅規制溝　（４）・・・
ワイヤーソー第１０図（ｂ） 第６図 第８図 茅１０図（ｅ） 茅１１図 手心にネ市ＴＥ朴Ｆ （自発） 別紙「第６図」 のとおり補正。 平成元年４月２２日 明細書中「特許請求の範囲」 を別紙のとおり補正。 明細書節７頁１０行目 「と厚さ５ｉＯｚ膜」 を °１１イ１１の表示 特願昭６３ 「とＳｉＯ２膜」 に補正。 ２、発明の名称 複合型磁気ヘッドの製造方法 補正をする者 事件との関係　　特許出願人 （１８８）三洋電機株式会社 ５゜ 補正の対象 図面、 明細書の特許請求の範囲及び発明の詳細な説明の欄 特許請求の範囲 ■　磁性酸化物よりなる一対のへラドコアの突合せ部に
金属磁性層を介装すると共に、該金属磁性層に沿って磁
気ギャップ部を形成した複合型磁気ヘッドの製造方法に
於いて、前記ヘッドコアとなる磁性基板（１）の表面に
、前記金属磁性層となる資材を用いて真空薄膜形成技術
による成膜を施し、所定のトラック幅を有する第１凸条
（２１）を一定ピツチＰで繰り返し形成すると共に、各
第１凸条（２１）間に、所定の間隔をおいて互いに平行
に伸びる一対の第２凸条（２２）（２２）を繰り返し形
成する工程と、前記一対の第２凸条（２２）（２２＞の
間隔Ｔ、よりも大きく且つ第１凸条（２１）の間隔Ｔ２
よりも小さい直径を有するワイヤーソー（４）を用いて
、基板（１）の第１凸条間の領域にトラック幅規制溝（
１１）を四段する二り程と、上記工程を経て得られたブ
ロック毛体（５１）を含む一対のブロック半体（５１）
（５２）を非磁性層を介してガラス接合し、コアブロッ
ク（５）を作製する工程と、該コアブロック（５）に機
械加工を施して複数の磁気へラドチップを作製する工程
とから構成されることを特徴とする複合型磁気ヘットの
製造方法。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ［１］磁性酸化物よりなる一対のヘッドコアの突合せ部
   に金属磁性層を介装すると共に、該金属磁性層に沿つて
   磁気ギャップ部を形成した複合型磁気ヘッドの製造方法
   に於いて、前記ヘッドコアとなる磁性基板（１）の表面
   に、前記金属磁性層となる資材を用いて真空薄膜形成技
   術による成膜を施し、所定のトラック幅を有する第１凸
   条（２１）を一定ピッチＰで繰り返し形成すると共に、
   各第１凸条（２１）間に、所定の間隔をおいて互いに平
   行に伸びる一対の第２凸条（２２）（２２）を繰り返し
   形成する工程と、前記一対の第２凸条（２２）（２２）
   の間隔Ｔ＿１よりも大きく且つ第１凸条（２１）の間隔
   Ｔ＿２よりも小さい直径を有するワイヤーソー（４）を
   用いて、基板（１）の第１凸条間の領域にトラック幅規
   制溝（１１）を凹設する工程と、上記工程を経て得られ
   たブロック半体（５１）を含む一対のブロック半体（５
   １）（５２）を非磁性層を介してガラス接合し、コアブ
   ロック（５）を作製する工程と、該コアブロック（５）
   に機械加工を施して複数の磁気ヘッドチップを作製する
   工程とをから構成されることを特徴とする複合型磁気ヘ
   ッドの製造方法。