JPH0287314A - 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造
法に係り、特に、トラック幅を狭く成し得て、その精度
が向上され得ると共に、製造工数が有利に減少され得る
固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法に関する
ものである。

（背景技術） 従来から、固定磁気ディスク装置（ＲＤＤ）に用いられ
る、バルク形状のコアを用いた浮上型磁気ヘッド用スラ
イダの一つとして、第１図に示される如きモノリシック
型スライダ１が知られている。このスライダ１は、スラ
イダ本体２とＣ字形状のヨーク部３とから一体的に構成
されており、その記録媒体との摺動面には、その摺動方
向に延びる所定高さの互いに平行な左右の空気ベアリン
グ部（面）４ａ、４ｂを有し、またそれら空気ベアリン
グ部４ａ、４ｂの間に、トラック部を与える同じ高さの
センターレール５が設けられ、そしてこのセンターレー
ル５の端部に前記ヨーク部３が一体的に設けられて、そ
れらヨーク部３とスライダ本体２にて磁気ヘッドのため
の閉磁路が形成されている。

しかしながら、このモノリシック型スライダｌは、フェ
ライトのみで構成されるため、低価格であるという優位
性を有しているものの、センターレール５のテーパー加
工によりトラック部が形成されるものであるところから
、トラック幅精度及び狭トラツク化が得難く、近年、高
密度記録化に伴って要求されているトラック幅２０μｍ
以下、トラック幅精度±２μｍ以内を達成することが困
難である。更にスライダがディスク上で浮上するために
は、空気ベアリング部４　ａ　−、４ｂがディスクより
外にはみ出すことが出来ないところから、トラック部（
５）がスライダ中央部にあることが有効記録面積を減す
るという記録容量上の欠点を有していた。

また、スライダ本体とコアとを別体として、それらを組
み合わせてなる、所謂コンポジット型スライダも知られ
ている。このコンポジット型スライダは、トラック部が
直角に加工されたフェライトコアを非磁性のスライダ本
体に埋め込み、固定するものであるところから、トラッ
ク幅精度、狭トラツク化が、前記モノリシック型に比べ
て得易いと言う利点を有しており、また空気ベアリング
部の延長上にトラック部を配することが可能であり、記
録容量上において有利ではあるものの、スライダ本体や
コアを個々に加工し、それらを接合一体化するという工
程の採用が必須となるため、コスト高となる欠点を有し
ている。

一方、かかるコンポジット型スライダと同様な性能を持
たせ、また低コスト化を図るために、特開昭６２−１８
６１５号公報には、スライダ本体の空気ベアリング部の
端部にヨーク部を一体的に設けて、コアを構成するよう
にした構造のスライダが明らかにされている。そして、
そのようなスライダは、予めトラック規定溝にガラスを
埋め込んだ両ブロックを突き合わせて、接合一体化する
ことにより、ギャップ接合を行ない、その後、空気ベア
リング部及びヨーク部を形成するための溝加工を行なう
ことによって、製作されることとなる。

しかしながら、この構造では、モノリシック型スライダ
に比べて、トラック部が空気ベアリング部の延長上にあ
るために、空気ベアリング部形成のための溝加工により
両者が同時に形成されるという利点を有するが、このス
ライダでは、一方のフェライトブロックのみのトラック
加工ではトラック位置合わせが不要なものの、ギャップ
エツジでのフリンジング効果が大きく、高密度化に不利
であると共に、両側のフェライトブロックのトラック加
工がある場合には、トラック位置合わせという煩雑な作
業が加わり、またヨーク部の断面積が前記したコンポジ
ット型スライダ、更には第１図の如きモノリシック型ス
ライダに比べて大きく、従ってインダクタンスが大きく
なって、高周波対応、換言すれば高密度記録に不利であ
ると言う問題を内在している。

しかも、上記の如き従来のコアスライダにおいて、その
左右の二つの空気ベアリング部やセンターレールを形成
するための溝加工やそれらの面取り加工は、何れも、ダ
イヤモンド砥石等による機械加工により行なわれること
となるところから、チン１１個当たり合計８ケ所の砥石
加工を施す必要があり、そのため、全工程中の中で最も
加工時間を必要とする工程であったのであり、また面取
り加工においては、ダイヤモンド砥石の割出し誤差に加
えて、製品の高さや接着誤差等により、空気ベアリング
部及びトラック（センターレール）の幅に±３ｐｍの誤
差の発生が避けられ得す、更にダイヤモンド砥石の加工
面には、大きさ：１−以上のチッピングの発生が避けら
れ得ない等という問題も内在しているのである。

（解決課題） ここにおいて、本発明は、かかる事情を背景として為さ
れたものであって、その解決すべき課題とするところは
、固定磁気ディスク装置用コアスライダにおいて、トラ
ック幅を狭く成し得て、その精度を向上せしめると共に
、オフトラック時における隣接トラックからの信号の読
み取り（クロストーク）を極めて小さくして、高密度記
録化を有利に達成せしめ、また製造時のトラック部にお
けるチッピング（稜部の欠け）の発生を無くし、更にこ
のようなコアスライダの製造工数を格段に低減して、製
造コストの低下を有利に図ることにある。

（解決手段） そして、本発明は、かかる課題解決のために、所定高さ
の互いに平行な左右の空気ベアリング部をディスク摺動
面に備えたスライダ本体と、該スライダ本体に対して一
体的に設けられたヨーク部とを有し、それらヨーク部と
スライダ本体にて磁気ヘッドのための閉磁路が構成され
ると共に、該スライダ本体と該ヨーク部との間に所定間
隙の磁気ギャップが°形成されてなる固定磁気ディスク
装置用コアスライダを、前記スライダ本体を与える第一
のフェライトブロックと前記ヨーク部を与える第二のフ
ェライトブロックとを突き合わせて製造するに際して、
第一のフェライトブロックと第二のフェライトブロック
とが一体化されたブロック組合せ体のディスク摺動面側
の面に、二つのフェライトブロックに跨がるように、少
なくとも二つのトラック幅規制用の溝を、レーザ誘起エ
ツチングにより平行に設け、それら溝間に所定幅のトラ
ック部を形成せしめる工程と、前記ブロック組合せ体の
ディスク摺動面側の面に所定のマスクを施して、化学エ
ツチング処理することにより空気ベアリング部並びに前
記トラック部の形成部位を同様な高さにおいて突出、形
成せしめる工程とを含むことを特徴する固定磁気ディス
ク装置用コアスライダの製造法を、その要旨とするもの
である。

なお、かかる固定磁気ディスク装置用コアスライダの製
造法においては、前記第一及び第二のフェライトブロッ
クの少なくとも一方のものの少なくとも磁気ギャップ形
成部位に、所定厚さの金属磁性材層を配置することも可
能である。

（発明の具体的構成・実施例） 以下、図面に示される本発明に従う幾つかの具体例に基
づき、本発明を更に具体的に明らかにすることとする。

先ず、本発明に従って固定磁気ディスク装置用コアスラ
イダを得るために、第一及び第二のフェライトブロック
が準備される。第一のフェライトブロックはスライダ本
体を与え、また第二のフェライトブロックはヨーク部を
与えるものである。

そして、それらフェライトブロックには、従来からの高
透磁率フェライト材が用いられ、またそれらフェライト
ブロックは、一般に複数のコアスライダが製造され得る
ように、所定厚さの長手板状のブロックとして用いられ
て、それらの突き合わせによって磁気ヘッドのための閉
磁路、換言すれば環状の磁路が構成せしめられる。なお
、高透磁率のフェライトブロックとしては、Ｍｎ−Ｚｎ
フェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の単結晶体或いは
多結晶体が用いられ、また単結晶体と多結晶体の複合体
も有利に用いられる。また、通常空気ベアリング部の幅
精度は±１５Ｊ１ｍ以内であることが要求されるので、
単結晶体を用いるにあたっては、特願昭６２−１７１６
６６号において本出願人が提案したように、エツチング
稜部、即ち空気ベアリング部の長手方向の稜部の直線性
の乱れを±１５μｍ以内に維持し、且つ空気ベアリング
部の斜面を対称にするべ（、以下の空気ベアリング面及
び空気ベアリング部の長手稜部の組合せが、結晶面及び
結晶方位として選択される。即ち、（１００）と＜１０
０＞、（１００）と＜１１０＞。

（１１０）　　と　＜１００＞、　　（１１０）　　と
　＜１１０＞。

（３１１）と＜３３２＞、（３３２）と＜３１１＞。

（６１１）　　と　＜３３　１＞、　　（３３１）　　
と　＜６１１＞。

（２１１）と＜１１１＞の組合せが好適に選択されるこ
ととなる。

そして、かかる選択された第一及び第二のフェライトブ
ロックの少なくとも一方のものに対して、その少なくと
も一方の突合せ面に、少なくとも１条のコイル巻線用の
溝を形成する工程が実施される。例えば、第２図（ａ）
及び（ｂ）に示される如き形状の第一及び第二のフェラ
イトブロック１０．１２のそれぞれの突合せ面（ギャッ
プ対向面）１４に対して、第３図（ａ）及び（ｂ）に示
されるようなコイル巻線用の溝２４が設けられるのであ
る。また、かかるコイル巻線用の溝２４は、第一及び第
二のフェライトブロックが一体化されたブロック組合せ
体の２個取りのために、それらフェライトブロック１０
．１２の磁気ギャップ形成部位１８の両側に、それぞれ
設けられている。そして、その後、それらフェライトブ
ロック１０゜１２の互いに突き合わされるギャップ対向
面（１４）には、必要に応じて表面研磨が施されて、最
終仕上げが行なわれる。

次いで、かかる工程の終了した二つのフェライトブロッ
ク１０．１２を、それぞれの突合せ面１４．１４におい
て、それらの磁気ギャップ形成部位１８．１８を対向さ
せて突き合わせ、環状の磁路を構成せしめ、コイル巻線
用溝２４、更に必要に応じて設けられた後部溝に、ガラ
ス棒（２８）をそれぞれ差し込み、加熱・加圧すること
により、それらの溝に入れたガラス棒を溶融させて、そ
れら二つのフェライトブロック１０．１２を接合する。

例えば、軟化点３６０°Ｃのガラスを用い、５００°Ｃ
で接合するのである。尤も、このようなガラスを用いた
接合一体化方式に代えて、よく知られている固相反応を
利用したフェライトの焼結接合方式を用いて、二つのフ
ェライトブロック１０゜１２を、それらの突合せ面にお
いて直接に焼結接合せしめる手法も採用可能である。

第４図には、このようにして得られた第一のフェライト
ブロックｌＯと第二のフェライトブロック１２との接合
体２６が示されており、またこの接合体２６には、それ
を構成する第一のフェライトブロック１０の磁気ギャッ
プ形成部位１８と第二のフェライトブロック１２の磁気
ギャップ形成部位１８との間に所定間隙の磁気ギャップ
３０が形成されることとなる。なお、第４図において、
２８は、ガラス棒の溶融によって形成された接合ガラス
である。また、この接合ガラス２８が、その溶融時に磁
気ギャップ３０の間隙内に侵入して充填していることに
よって、磁気ギャップ３０自体を保護する機能も果たす
こととなる。

なお、この所定間隙の磁気ギャップ３０は、通常、第−
或いは第二のフェライトブロック１Ｏ１１２の少なくと
も一方の磁気ギャップ形成部位１８部分が、前記のコイ
ル巻線用溝の形成工程の前後に、予め、所定量研磨され
たり、或いはエツチング処理が施されたりして形成され
る他、それら磁気ギャップ形成部位１８の少なくとも一
方に、ガラス等の非磁性材からなる非磁性層（ギャップ
形成層）が所定厚さで設けられることによって、形成さ
れることとなる。例えば、第一及び第二のフェライトブ
ロック１０．１２の少なくとも一方のものの突合せ面の
少なくとも磁気ギャップ形成部位１８に、ＳｉＯ□、ガ
ラス等のギャップ形成用非磁性材が、所定厚さにスパッ
タリング等にて通用され、所定厚さの非磁性層として形
成された後、それら第一及び第二のフェライトブロック
を接合、一体化せしめることによって、該非磁性層に対
応した間隙を有する磁気ギャップ３０が形成されるので
ある。

そして、このような二つのフェライトブロックからなる
接合体２６は、それより、第５図に示される如きブロッ
ク組合せ体、所謂ギャップパー３２を得るために、第４
図に示される切断線３４に沿って二分割され、これによ
って第５図に示されるように、ディスク摺動側の面３６
に磁気ギャップ３０を露呈せしめたブロック組合せ体３
２の二つが形成されるのである。

なお、このように形成されたブロンク組合せ体３２のデ
ィスク摺動側の面３６には、必要に応じて研磨操作が施
される。この研磨操作によって、最終ギャップデプス長
（ｆ６１気ギャップ３０のデプス長）まで研磨しても差
支えはないが、続いて実施されるレーザ誘起エツチング
操作により、ディスク摺動側の面３６に加工生成物等が
飛散したりすること等を考慮して、ディスク摺動側の面
３６を最終ギャップデプス長まで研磨する操作は、レー
ザ誘起エツチング操作の後、後述する化学エツチング処
理に先立って行なわれることが望ましい。

次いで、このブロック組合せ体３２のディスク摺動側の
面３６に、レーザ誘起エツチング操作が施されることに
よって、例えば、第６図に示されるように、第一及び第
二のフェライトブロック１０．１２に跨がるように、少
なくとも二つのトラック幅規制用の溝３８．３８が互い
に平行に設けられ、以て、それら溝の間に所定幅のトラ
ック部４０を形成せしめる工程が実施される。なお、第
６図においては、ブロック組合せ体３２から複数の固定
スライダを得るべく、かかるブロック組合せ体３２には
複数組のトラック幅規制用溝３日が形成されている。

このように、トラック幅規制用溝３日の形成をレーザ誘
起エツチングにて行なうことにより、幅が狭（、精度の
高いトラック加工が可能となり、しかも溝側面（トラッ
ク部４０側の側面）の角度を略垂直（８０〜９０°）に
加工することができるため、オフトラック時の隣接トラ
ックからの信号読み取り（クロストーク）を極めて小さ
く出来、また摺動面の研磨によってもトラック幅が変化
せず、更に砥石加工の場合に起こる、トラック部のチッ
ピング（稜部の欠け）や、磁気ギャップ近傍に金属磁性
材を配した所謂メタルインギャップヘッドにおける金属
磁性材のパリ等が生じ難いこと等、多くの利点を得るこ
とができるのである。

なお、前述したように、このレーザ誘起エツチング操作
によりトラック幅規制用溝を形成する工程に先立って、
必要に応じてブロック組合せ体３２のディスク摺動側の
面３６に対して研磨が施されるが、かかる研磨操作にお
い、て最終ギャップデプス長まで研磨されない場合には
、かかるトラック幅規制用溝を形成する工程の後、ブロ
ック組合せ体３２のディスク摺動側の面３６には再び研
磨操作が施され、最終ギャップデプス長が規定される。

このようにすれば、レーザ誘起エツチング操作で、ディ
スク摺動面３６に飛散粒子等が付着しても、その後の最
終ギャップデプス長までの研摩により、飛散粒子等を有
利に取り除くことができるのである。

ところで、前記したレーザ誘起エツチング手法によるト
ラック幅規制用の溝入れ加工は、通常、波長が１μｍ以
下であるアルゴンレーザ等が用いられ、５０〜１５０Ｔ
ｏｒｒのＣＣｌ２．（四塩化炭素）ガス雰囲気下におい
て好適に行なわれる。また、溝３８の深さとしては、好
ましくは、コイル巻線用溝２４に達する深さで、少なく
とも３　ａｍ以上の溝深さ、そして溝３８の長さとして
は、磁気ギャップ３０からの長さ（第１０図中、１）の
２倍が、最長記録波長以上、一般に１０−以上、好まし
くは２０μｍ以上の長さとなるように、それぞれ−組の
トランク幅規制用溝３８．３８が形成されるのである。

かかるトラック幅規制用溝３８の最終的な深さが、３μ
ｍよりも浅いと、次工程での化学エツチングによりトラ
ック部の斜面に棚部４２が生じた場合（第８図（ｂ）参
照）、この棚部４２でディスクの信号を再生してしまう
という不都合が生じるからであり、また磁気ギャップ３
０からの長さ：ｌが短いと、第１Ｏ図中ａで示される部
位において再生時に隣接トラックの信号を拾い易く、ノ
イズが発生するという不都合が生じるからである。なお
、第８図（ａ）及び（ｂ）に示される一点鎖線は、エツ
チング後のフェライト面を表わすものである。

レーザ誘起エツチングの加工条件としては、通常、レー
ザーパワーが３０〜３００ｍＷ、スキャンスピードが２
〜６０　ｐｍ／ｓｅｃ、ビーム径が１０μｍ以下とされ
ることとなる。けだし、トラック幅の精度を±２μｍ以
内に抑える必要上、スキャンスピードが速すぎたり、ビ
ーム径が大き過ぎたり、し−ザーバワーが大き過ぎたり
することは好ましくなく、またトラック幅規制用溝３８
のトラック部４０側の斜面（以下、トラック部側面と称
する）４３の角度を８０〜９０゛にする必要上、スキャ
ンスピードが速すぎたり、ビーム径が大き過ぎたりする
と、溝が播鉢断面形状になって好ましくなく、更にトラ
ック幅規制用溝３８の深さを３−以上にする必要上、レ
ーザーパワーが低過ぎたり、スキャンスピードが速すぎ
たりすることは好ましくないからである。

なお、このレーザ誘起エツチング操作に先立って、既に
ディスク摺動側の面３６が最終ギャップデプス長まで研
磨されている場合には、ディスク摺動側の面３６に加工
生成物等が付着したり、トラック部４０のエツジ（稜部
）のだれが２−を越えないように、また変質層が形成さ
れたりするような不都合が無いように、通常、レーザー
パワーは３０〜２００　ｍＷ、スキャンスピードは２〜
３０μ／ｓｅｃ、ビーム径は５−以下とされることとな
る。

また、レーザ誘起エツチング操作の後に最終ギャップデ
プス長までの研磨が為される場合には、溝３８の深さを
３μｍ＋μｍ化以上にするため、また研磨によるトラッ
ク幅の変動を少なくするべくトラック部側面４３の角度
を垂直に近づけるため、通常、レーザーパワーは５０〜
３００ｍＷ、スキャンスピードは２〜６０１ｍ７ｓｅｃ
、ビーム径は１０μｍ以下とされる。なお、このように
レーザ誘起エツチング操作の後に最終ギャップデプス長
までの研磨が為される場合には、液中（燐酸水溶液や水
酸化カリウム水溶液等）におけるレーザ加工も可能であ
り、特願昭６３−４７５４０号において、本出願人が提
案したように、濃度１０〜９０ｗｔ％のリン酸水溶液中
で、ビーム径５０μｍ以下、パワー：Ｐが５０〜１９０
０ｍＷ、走査速度：Ｖが２〜２００−／ｓｅｃの範囲で
、■≦０．３ＩＰ＋３４の関係式と、■≦−０．１４Ｐ
＋２７１の関係式を同時に成立させるパワーと走査速度
の下で行なうことにより、良好なトラック幅規制用溝３
８を形成することができる。

その後、かかるトラック幅規制用溝３８．３８によって
トラック部４０がディスク摺動側の面３６に設けられた
ブロック組合せ体３２には、更にかかるディスク摺動側
の面３６に、目的とするコアスライダに与えられる左右
一対の空気ベアリング部並びに該トラック部４０の形成
部位を、それぞれ同様な高さにおいて突出、形成せしめ
る工程が実施される。本発明においては、この工程とし
て、次のような化学エツチング処理によって、ディスク
摺動面（３６）に空気ベアリング部やトランク部を与え
る突起部を形成せしめる手法が採用される。

すなわち、エツチング手法によって空気ベアリング部や
トランク部を与える突起部を形成せしめる工程を実施す
るに際しては、先ず、第７図に示されるように、ブロッ
ク組合せ体３２のディスク摺動側の面３６に対して、そ
の空気ベアリング部の形成部位及びトラック部の形成部
位に、それぞれ、所定パターンのマスク４４ａ、４４ｂ
が施され、以下に述べるエツチング操作を行なうことに
よって、かかるマスク４４ａ、４４ｂの施されていない
ディスク摺動側の面３６のフェライト面を所定深さにエ
ツチングすることにより、空気ベアリング部及びトラッ
ク部となる突起部がそれぞれ所定の高さにおいて形成さ
れることとなるのである。

なお、この化学エツチングによって得られた空気ベアリ
ング部の長平方向の稜部の直線性の乱れを±１５μｍ以
内に維持するために、特開昭６２−８３４８３号、特願
昭６２−１７１６６６号、特願昭６３−７５７４４号に
おいて、本出願人が提案したように、好ましくは、マス
ク４４ａ、４４ｂの施される前に、ディスク摺動側の面
は、鏡面に加工されると共に、マスクの施される表面部
分の加工歪を除去するために、熱処理や化学エツチング
等の前処理が施されるのである。

この熱処理は、フェライトの平衡酸素濃度若しくはそれ
以下の酸素濃度の雰囲気中において、少な（とも２００
°Ｃ１一般に２００〜１３００’Ｃの温度下で実施され
る。また化学エツチングは、すン酸、塩酸等の各種の酸
性水溶液により実施可能であるが、エツチング後の鏡面
の維持及び作業の簡便さから、好ましくは、特開昭６２
−８３４８３号に開示されている如く、水分量２０ｗｔ
％以上のリン酸主体水溶液中に浸漬することにより実施
されるのである。更にまた熱処理と化学エツチングを併
用することにより、より効果的に歪が除去され得るので
ある。

ところで、この所定パターンのマスク４４ａ。

４４ｂの形成には、スクリーン印刷等の公知の手法が必
要精度と経済性の点から適宜に選択され、中でも、好適
には、パターン精度と工程の簡便さからフォトレジスト
を用いた露光による方法が採用され、例えばレジストを
ディスク摺動側の面３６に塗布した後、空気ベアリング
部の形成部位及びトラック部の形成部位、そしてトラッ
ク幅規制用溝３８に埋設されたレジストを残して、それ
ら以外の部位のフェライト面が露出せしめられるように
すること等によって、実施されることとなる。

また、かかるマスク４４ａ、４４ｂには、ポジ型或いは
ネガ型のフォトレジストや、真空蒸着、スパッタリング
若しくはＣＶＤ法等によって形成されたＣｒ等の金属や
Ｓｉｎ若しくはＳｉｎ、等の各種のマスクを使用するこ
とが可能であり、操作性、経済性と併わせで、マスクの
フェライト表面への密着性等の点から適宜に選択される
こととなる。

また、かかる所定パターンのマスク４４ａ、４４ｂが付
与されたブロック組合せ体３２には、その露出せしめら
れたフェライト部分を介して、所定深さのエツチング処
理が施され、第９図及びその要部を拡大して示す第１０
図から明らかなように、それぞれのマスク４４ａ、４４
ｂに対応する形状の突起部が形成され、マスク４４ａか
らは空気ベアリング部４６が、またマスク４４ｂがらは
トラック突起４８が、それぞれ所定高さにおいて形成さ
れるのである。なお、このようなエツチング処理によっ
て、かかる空気ベアリング部４６やトラック突起４８の
周囲には、傾斜面５ｏが形成されるようになるが、一方
、トラック部４０のギャップ近傍におけるトラック部側
面４３は、トラック幅規制用溝３８内にマスク４４ｂが
埋設されることによってエツチングから守られ、略垂直
な状態に保たれるのである（第８図参照）。

このようなエツチング処理は、通常の化学エツチングに
て行なわれることとなるが、特に有利には、リン酸主体
水溶液を用いて実施される。なお、このリン酸の濃度と
しては、５０〜８５−ｔ％が望ましく、５０−ｔ％以下
ではエツチング時間が長くなって生産性が悪くなり、８
５−ｔ％以上では、エツチング深さがバラツキ、幅精度
が悪くなるのである。一方、リン酸水溶°液の温度とし
ては５０〜９０°Ｃが望ましく、９０″Ｃ以上になると
、リン酸主体水溶液の水分量の変化が著しくなると共に
、溶液内での温度分布が不均一になって、エツチング深
さがバラツキ、幅精度が悪くなり、５０°Ｃ以下では、
エツチング時間が長くなり、生産性が悪くなるのである
。

このように、空気ベアリング部４６及びトラック突起４
８が、化学エツチングにより一度に形成されると同時に
傾斜面５０が形成されるところから、砥石加工等の如き
機械加工のように多数の研削操作を行なう必要がなく、
加工時間が大幅に短縮でき、しかもチッピングも発生し
ないのである。

また、ディスクの摺動時には、トラック部４０の延長上
の両側に幅広の空気ベアリング部４６及びそれと同じ高
さを有する幅広のトラック突起４８を有するので、ギャ
ップ近傍のトラック部側面４３が略９０°であっても、
トラック部４０は、それら双方により保護されて、機械
的強度が保障されるのである。

そして、その後、ブロック組合せ体３２は、所定長さの
コアスライダを与えるように、更に必要に応じて、ブロ
ック幅方向の所定位置において、例えば、第１１図に示
される破線５２．５２位置で切断せしめられた後、それ
ぞれの空気ベアリング部４６のリーディング部に所定長
さで且つ所定角度のテーパー面（傾斜面）５４を与える
べく研磨が施される（第１２図参照）。

そして、かくして得られた第１２図に示される如き、空
気ベアリング部４６やトラック突起４８を有するブロッ
ク組合せ体３２には、第１３図に示される如く、トラッ
ク突起４８の形成部位を残して他の部分を切除せしめる
ことにより、ヨーク部５６が形成される。換言すれば、
トラック突起４８を有するヨーク部５６が、ブロック組
合せ体３２の幅方向の一端部に、切除操作によって一体
的に形成されることとなるのである。そして、このヨー
ク部５６が形成されたブロック組合せ体３２は、図示の
如く、二つの空気ベアリング部４６゜４６が対となるよ
うに、切断線５８．５８によってブロック幅方向に平行
に切断せしめられることにより、第１４図に示される、
本発明の目的とする固定磁気ディスク用コアスライダ６
０の少なくとも１個が切り出されることとなるのである
。

要するに、第１４図に示されるように、互いに平行な空
気ベアリング部４６．４６を左右に有するスライダ本体
６２と、該スライダ本体６２に対して一体的に設けられ
たＣ字形状のヨーク部５６とを有し、それらヨーク部５
６とスライダ本体６２にて磁気ヘッドのための閉磁路が
構成されると共に、該スライダ本体６２と該ヨーク部５
６との間に、所定間隙の磁気ギャップ３０が形成されて
なる固定磁気ディスク装置用コアスライダ６０が、前記
工程を経たブロック組合せ体３２より切り出されるので
ある。

ところで、前記具体例では、化学エツチング処理にて、
空気ベアリング部並びにトラック部形成部位を突出、形
成せしめる工程が行なわれるに際して、トラック部（ト
ラック部側面）の保護が、トラック部形成部位に施され
るマスク材料をトラック幅規制用溝内に埋設することに
よって為されたが、トラック幅規制用溝を形成する工程
の終了の後、このようなトラック幅規制用溝内に、ガラ
スの如き非磁性材を埋設して、トラック部を保護し、続
いてブロック組合せ体のディスク摺動側の面を最終ギャ
ップデプス長まで研磨し、その後化学エツチング処理を
行なう手法も好適に採用されることとなる。

すなわち、前記した具体例と同様な工程を経て製造され
た、化学エツチング処理が実施される前のトラック幅規
制用溝が形成されたブロック組合せ体に対して、そのデ
ィスク摺動面における最終ギャップデプス長までの研磨
操作に先立って、かかるトラック規制用溝の内部に、所
定の非磁性材を埋設するのである。

例えば、第６図に示されるようなトラック幅規制用溝３
８が形成されたブロック組合せ体３２に対して、そのト
ラック幅規制用溝３８内に、ガラス等の非磁性材６４が
所定の手法により埋設されるのである（第１５図参照）
。その後、余分な非磁性材６４を除去せしめるべく、ブ
ロック組合せ体３２のディスク摺動側の面３６に対して
、最終ギャップデプス長までの研磨操作が施され、第１
５図に示されるようなブロック組合せ体３２が製造され
ることとなる。

そして、このように、トラック部４０の両側のトラック
幅規制用溝３８に非磁性材６４が埋め込まれたブロック
組合せ体３２に対して、続いて、前記した具体例と同様
にして、空気ベアリング部及びトラック部形成部位を突
出、形成せしめる工程が施されるのである。すなわち、
第１６図に示される如き前記と同様の所定パターンのマ
スク４４ａ、４４ｂが施され、そして前記と同様のエツ
チング操作を行なうことによって、かかるマスク４４ａ
、４４ｂの施されていないディスク摺動側の面３６のフ
ェライト面が、例えば第１７図における一点鎖線で示さ
れる面まで化学エツチングされることにより、空気ベア
リング部４６及びトラック突起４８がそれぞれ形成され
るのである。このように、トラック幅規制用溝３８内に
非磁性材６４を埋設した状態で、化学エツチング操作を
施すことから、第１７図からも明らかなように、この非
磁性材６４によって、トラック部４０（トラック部側面
４３）がエツチング作用から良好に保護されるのである
。

その後、前記と同様、第１８図に示される如き所定形状
の固定磁気ディスク装置用コアスライダ６０が製造され
ることとなるが、この非磁性材６４は、ディスク摺動時
における、トラック部４０のエツジ部の欠は等を良好に
防止する利点をも享受するのである。

さらに、本発明法に従う別の具体例を、図面を参照しつ
つ、更に具体的に明らかにすることとする。

なお、この具体例においては、前記した具体例における
、レーザ誘起エツチングを施してトラック規制用溝を形
成する工程と、空気ベアリング部及びトラック部の形成
部位を化学エツチングにより形成する工程とが、逆の順
序において行なわれている。

すなわち、第一及び第二のフェライトブロックの少なく
とも一方の突合せ面に少なくとも１条のコイル巻線用溝
が形成され、そして、それら第一及び第二のフェライト
ブロックが一体化されたブロック組合せ体を得た後、続
く工程として、空気ベアリング部及びトラック部形成部
位を突出、形成せしめる化学エツチング処理が施される
のである。例えば、第５図に示されるような、ディスク
摺動側の面３６に磁気ギャップ３０を露呈せしめたブロ
ック組合せ体３２に対して、第１９図に示される如き前
記と同様の所定パターンのマスク４４ａ、４４ｂが施さ
れ、そして前記と同様のエツチング操作を行なうことに
よって、かかるマスク４４ａ、４４ｂの施されていない
ディスク摺動側の面３６のフェライト面が化学エツチン
グされることにより、第２０図の如く空気ベアリング部
４６及びトラック部となる突起部４８がそれぞれ形成さ
れることとなるのである。

その後、レーザ誘起エツチング処理により、トラック幅
規制用の溝を形成せしめる工程が実施される。例えば、
第２０図に示されるブロック組合せ体３２に対して、ト
ラック突起４８の形成部位に、第一及び第二のフェライ
トブロック１０．１２に跨がるようにトラック幅規制用
溝３８が形成されて、トラック部４０が形成されるので
ある（第９図、第１０図参照）。

この空気ベア、リング部４６及びトラック突起４８を形
成する化学エツチング処理の後、トラック幅規制用溝３
８を形成するレーザ誘起エツチングを行なう場合におい
て、レーザ誘起エツチング後に研磨をしない場合、レー
ザーパワーは３０〜２００ｍＷ、スキャンスピードは２
〜３０　ｔａｎ／ｓｅｃ。

ビーム径は５−以下とされる。一方、レーザ誘起エツチ
ング後に最終研磨を施す場合は、レーザーパワーは５０
〜３００　ｍＷ、スキャンスピードは２〜６　Ｑ　、Ｂ
ｒｍ／ｓ６（、ビーム径は１０μｍ以下とされる。

そして、かかるトラック幅規制用溝３８が形成されたブ
ロック組合せ体３２に、必要に応じてブロック組合せ体
３２のディスク摺動側の面３６に対して研磨が施された
後、前記具体例と同様、第１４図に示される所定形状の
固定磁気ディスク装置用コアスライダが製造されること
となる。

このような、固定磁気ディスク装置用コアスライダの製
造法にあっても、トラック幅規制用溝３８の形成がレー
ザ誘起エツチングにて行なわれるため、狭い幅で精度の
高いトラック加工が可能となり、しかも溝３８側面（ト
ラック部側面４３）の角度を略垂直（８０〜９０°）に
加工することができるため、クロストークを極めて小さ
いものと為し、また摺動面の研磨によってもトラック幅
が変化せず、更に砥石加工の場合に起こる、トラック部
４０のチッピングや、磁気ギャップ近傍に金属磁性材を
配した所謂メタルインギャップヘッドにおける金属磁性
材のパリ等が生じ難いこと等、多くの利点を得ることが
できるのである。また、空気ベアリング部４６及びトラ
ック部となる突起部４８を、化学エツチングにより一度
に形成するところから、砥石等による機械加工のように
何回も研削する必・要がなく、加工時間が大幅に短縮で
き、しかもチッピングも発生しないのである。更に、デ
ィスクの摺動時には、トラック部４０の延長上の両側に
幅広の空気ベアリング部４６及びそれと同じ高さを有す
る幅広のトラック突起４８を有するので、磁気ギャップ
３０近傍のトラック部側面４３が略９０°となっても、
トラック部４０は、それら双方により保護されて、機械
的強度が保障されるのである。

さらに、本発明に従う、前述した幾つかの固定磁気ディ
スク装置用スライダの製造法の具体例において、前記第
一及び第二のフェライトブロックを接合せしめる工程に
先立って、それらフェライトブロックの少なくとも一方
のものの少なくとも磁気ギャップ形成部位に、所定厚さ
の金属磁性材層を形成せしめる一方、それらフェライト
ブロックの少なくとも一方のものの突合せ面の少なくと
も磁気ギャップ形成部位に所定厚さの非磁性層を形成せ
しめるようにしても良い。

すなわち、所定厚さの長手板形状の第一のフェライトブ
ロック及び第二のフェライトブロックの少なくとも一方
のものに対して、先ず、その突合せ面の磁気ギャップ形
成部位を除く他の部位に、前記マスク４４ａ、４４ｂと
同様な所定のマスクを施して、前記と同様なエツチング
処理をすることにより、かかるマスクの施されていない
磁気ギャップ形成部位が、所定深さにエツチングされる
のである。第２１図及び第２２図には、そのような工程
の一例が示されており、そこでは、ヨーク部を与える第
二のフェライトブロック１２の突合せ面１４に対して、
所定パターンで、マスク６６が施されている。なお、こ
こでは、第一及び第二のフェライトブロックより二つの
ブロック組合せ体を得るために、磁気ギャップ形成部位
１８が第二のフェライトブロック１２の突合せ面１４の
中央部位に帯状において位置させられている。

次いで、かかる所定パターンのマスク６６が付与された
第二のフェライトブロック１２には、その露出せしめら
れたフェライト部分を介して、前記と同様なエツチング
処理が施され、これによって、第２２図に示される如く
、マスク６６の施されていない中央の磁気ギャップ形成
部位１８に所定深さのエツチング凹所６８が形成される
のである。

続いて、かかる第二のフェライトブロック１２のエツチ
ング処理された突合せ面１４には、所定の金属磁性材が
所定厚さで被着せしめられる。この金属磁性材としては
、Ｆｅ−３ｉ　（Ｓｉ　：６．５重量％）、Ｆｅ−Ａｌ
１！−５！合金（センダスト）、Ｎｔ−Ｆｅ合金（パー
マロイ）等で代表される公知の結晶質合金があり、一方
、非晶質合金としても、例えばＦ　ｅ−Ｃｏ−５ｉ　−
Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイド系合金やＣ
ｏ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ系等の周知のメタル−メタ
ル系合金等が用いられる。なお、Ｆｅ−３ｉ、Ｆｅ−３
ｉ−Ａｆ系合金を用いる場合には、耐食性向上のために
、５重量％以下のＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ等の元素添加が適宜
行なわれる。また、このような磁性材の被着には、他に
真空蒸着、イオンブレーティング、ＣＶＤ、メツキ等で
も可能であるが、塑性変動等が大きいことや被着物質が
限定されることから、スパッタリング法が好適に採用さ
れる。

なお、このような金属磁性材の被着に先立ち、フェライ
トブロック（１２）の突合せ面（１４）上に、中間層と
してガラス層を、例えば数十人〜１００人程度の厚さに
おいて被着せしめることにより、かかる金属磁性材の層
の密着性をより高めることが可能である。また、この中
間ガラス層の厚みが１００Å以下ならば、擬似ギャップ
としての作用は小さく、実用上問題はないのであり、ま
た中間層としてＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等のうち少なくとも一
種の元素を用いれば、密着上有利となる。

更に、これらの磁性材の場合、１０００Å以下ならば、
擬似ギャップとしての作用は小さく、実用上問題とはな
らないのである。

そして、かかる金属磁性材の被着されたフェライトブロ
ック（１２）には、そのギャップ対向面である突合せ面
（１４）に対して、通常の切削・研磨操作が施され、か
かるフェライトブロック（１２）に被着した金属磁性材
の不要部及び一部のフェライト部分が除去せしめられる
。即ち、この金属磁性材の被着されたフェライトブロッ
ク（１２）の突合せ面（１４）の所定厚さ部分を除去す
ることにより、第２３図に示されるように、エツチング
凹所６８内に埋設された金属磁性材７０の被着層を所定
厚さで残しつつ、磁気ギャップ形成部位１８以外の突合
せ面１４のフェライト面が露出せしめられるのである。

また、第一及び第二のフェライトブロックに対しては、
その少なくとも一方の突合せ面１４に、少なくとも１条
のコイル巻線用の溝を形成する第一の工程が実施され、
例えば、フェライトブロック１２には、第２４図に示さ
れる如き溝２４が形成されるのである（フェライトブロ
ック１０については、第３図（ａ）と同様）。なお、か
かる例にあっては、第一及び第二のフェライトブロック
１０．１２の何れにも、コイル巻線用溝２４が設けられ
ており、しかもブロック組合せ体の２個取りのために、
それらフェライトブロック１０，１２の磁気ギャップ形
成部位１８の両側にコイル巻線用溝２４が、それぞれ設
けられているのである。

そして、その後、それらフェライトブロック１０゜１２
の互いに突き合わされるギャップ対向面（１４）には、
必要に応じて表面研磨が施されて、最終仕上げが行なわ
れる。

その後、かくして得られた第一及び第二のフェライトブ
ロック１０．１２の少なくとも一方のものの突合せ面の
少なくとも磁気ギャップ形成部位１８に、Ｓｉｎ、、ガ
ラス等のギャップ形成用非磁性材が、所定厚みにスパッ
タリング等にて適用され、所定厚さの非磁性層（ギャッ
プ形成層）が形成されることとなる。

そして、前記と同様に、第一及び第二のフェライトブロ
ックが一体化されたブロック組合せ体を得て、その後、
レーザ誘起エツチングによるトラック幅規制用溝を形成
する工程と、化学エツチング処理により空気ベアリング
部及びトラック突起を突出、形成せしめる工程とが、前
後して実施され、そして所定の形状に切り出されて、第
２５図に示されるような、磁気ギャップ近傍に高飽和磁
束密度を有する金属磁性材料を配した複合型ヘッド、所
謂メタルインギャップヘッドを与える固定磁気ディスク
装置用スライダが製造されることとなる。

このメタルインギャップヘッドを与える固定磁気スライ
ダの製造法においては、化学エツチング処理によって空
気ベアリング部並びにトラック部となる突起部を形成し
た後、レーザ誘起エツチングにて、トラック幅規制用の
溝を形成する手法も採用可能であるが、好ましくは、レ
ーザ誘起エツチングにてトラック幅規制用の溝を形成し
た後、化学エツチングにて空気ベアリング部及びトラッ
ク部となる突起部を形成する手法が採用される。

即ち、後者の場合、レーザ誘起エツチングにてトラック
幅規制用の溝を形成した後、次の化学エツチングによっ
てトラック部となる突起部を形成する際に、トラック幅
規制用溝内にマスクが埋設されることによって、化学エ
ツチングからトランク部側面が保護され、略垂直状態に
保たれるのである。また、このようなトラック幅規制用
溝内、に、ガラスの如き非磁性材を埋設して、トラック
部を保護し、続いてブロック組合せ体のディスク摺動面
側の面を最終ギャップデプス長まで研磨し、その後、化
学エツチング処理を行なう手法も好適に採用されること
となる。

なお、レーザ誘起エツチングは、ＣＣ１，Ｃ四塩化炭素
）ガス雰囲気下において好適に行なわれる。

また、特願昭６３−５３６７８号において、本出願人が
提案したように、濃度５〜５５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液中
においても好適に行なわれ、レーザ照射条件としては、
ビーム径２０μｍ以下、パワー：Ｐが５０〜ｌＯ１００
Ｏ、走査速度：■が２〜１３０　ＩＩｎ／ｓｅｃの範囲
で、■≦０．３４Ｐ＋１３および■≦−０，１９Ｐ＋１
９０の関係式を同時に成立させるパワーと走査速度の下
で行なわれる。一方、特願昭６３−４７５４０号におい
て本出願人が提案したように、濃度５０〜９０ｗｔ％の
リン酸水溶液にても好適に行なわれ、レーザー照射条件
としては、ビーム径１０ＩＩＴｎ以下、パワー：Ｐが５
０〜１９００ｍＷ、走査速度：■が２〜２００−／ｓｅ
ｃの範囲で、■≦０．３ＩＰ＋３４の関係式と、■≦−
０．１４Ｐ＋２７１の関係式を同時に成立させるパワー
と走査速度の下で行なわれる。

このような固定磁気ディスク装置用スライダの製造法に
よれば、先に述べた様々な長所を発揮し得ると共に、デ
ィスク摺動部近傍のみに金属磁性材が被着されることと
なり、これによって渦電流損失を小さく為し得る構造と
なって、ヘッド特性を効果的に向上せしめ得、トラック
部側面を略９０°　としてクロストークを極めて小さく
成し得、高保磁力媒体に適した固定磁気ディスク装置用
ヘッドを与え得るのである。

なお、前記金属磁性層を形成する工程、磁気ギャップを
構成する非磁性層を形成する工程、そしてコイル巻線用
溝を形成する工程は、第一及び第二のフェライトブロッ
クの接合工程に先立って行なわれるならば、その順序に
関して特に限定されるものではない。

以上、本発明に従う固定磁気ディスク装置用コアスライ
ダの製造法について、その幾つかの具体例に基づき詳細
に説明してきたが、本発明が、これら例示の具体例にの
み限定して解釈されるものでは決してなく、本発明の趣
旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて
種々なる変更、修正、改良等を加えた形態において実施
され得るものであることが、理解されるべきである。

例えば、トラック幅規制用溝３・８の外側に、更に必要
に応じて、レーザ誘起エツチング等にて溝を形成して、
トラック幅規制用溝３８を実質的に幅広（することも可
能である。

また、上記した幾つかの具体例においては、ヨーク部５
６が、左右の空気ベアリング部４６，４６の間に位置す
るように、スライダ本体６２に一体に設けられているが
、また第２６図に示されるように、空気ベアリング部４
６の延長上に位置するように設け、そしてかかる空気ベ
アリング部４６から同じ高さにおいて延びるトラック部
４０を含むトラック突起４８が、かかるヨーク部５６上
に位置させられた構造のスライダを製造することも可能
である。このようなヨーク部５６、ひいてはトラック部
４０の配設形態を採用することによって、有効記録面積
が改善されて、記録容量上における利点を享受すること
が出来る。

（発明の効果） 以上の説明から明らかなように、本発明に従う固定磁気
ディスク装置用コアスライダの製造法にあっては、二つ
のフェライトブロックに対して、接合後、同時にトラッ
ク加工（溝入れ加工）が行なわれることとなるところか
ら、トラック位置合わせの必要が全くなく、トラック精
度を著しく向上せしめ得るのである。

また、本発明に従う製造手法によれば、レーザ誘起エツ
チングにてトラック加工が行なわれるため、トラック部
の狭小化と高精度化が図られ得、また溝側面（即ちトラ
ック部側面）の傾斜が略垂直（８０〜９０°）とされる
ため、研磨によるトラック幅の変動を少なく為し得ると
共に、このような固定磁気ディスク装置用コアスライダ
において、オフトラック時の隣接トラックからの信号の
読み取り（クロストーク）が極めて小さくなり、従って
ガートバンド（信号の書いてない領域）を袂くできるた
め、信号の高密度化を有利に達成し得るのである。また
、砥石加工の如きチッピング（稜部の欠け）がなく、信
頬性の高いトラックを形成することができるのである。

さらに、本発明法によれば、比較的精度の要求されない
空気ベアリング部及びトラック部の形成部位は化学エツ
チングによって突出、形成されるため、固定磁気ディス
ク装置用コアスライダの量産性が著しく向上され得るの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来の固定磁気ディスク装置用モノリシック
型コアスライダの一例を示す斜視図である。 第２図乃至第１４図は、本発明の一実施例に係る各工程
の説明図であって、第２図（ａ）及び（ｂ）は、それぞ
れ、組み合わされる二つのフェライトブロックを示す斜
視図であり、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、二
つのフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加工
が施された状態を示す斜視図であり、第４図は、二つの
フェライトブロックが接合一体化されてなる状態を示す
斜視図であり、第５図は、第４図に示される接合体を二
分割して得られるブロック組合せ体を示す斜視図であり
、第６図は、かかるプロ・ンク組合せ体にトラック幅規
制用溝を設けた状態を示す斜視図であり、第７図は、空
気ベアリング部及びトラック突起を形成するために、プ
ロ・ツク組合せ体のディスク摺動側の面にマスクを施し
た状態を示す要部平面図であり、第８図（ａ）及び（ｂ
）は、共に、トラック幅規制用溝にマスクが埋設された
状態とフェライトのエツチング状態とを示す部分断面図
であって、第８図（ａ）は、第７図における■−■断面
図、第８図（ｂ）は、第８図（ａ）に対応する別の状態
を示す断面図であり、第９図は、エツチング処理により
形成された空気ベアリング部及びトラック突起を示すブ
ロック組合せ体の部分平面図であり、第１０図は、第９
図の要部拡大説明図であり、第１１図及び第１２図は、
それぞれ、ブロック組合せ体の切断部位を示す部分平面
図、及びそのような切断操作及びテーパー加工の施され
たブロック組合せ体を示す部分平面図であり、第１３図
は、ヨーク部の切り出し状態及びコアスライダの切り出
しのための切断部位を示すブロック組合せ体の部分平面
図であり、第１４図は、第１３図のブロック組合せ体か
ら切り出されたコアスライダを示す平面図である。 また、第１５図乃至第１８図は、本発明の別の実施例に
係る各工程の一部を説明する図であって、第１５図は、
ブロック組合せ体のトラック幅規制用溝内に非磁性材が
埋め込まれた状態を示す斜視図であり、第１６図は、空
気ベアリング部及びトラック突起を形成するために、か
かるブロック組合せ体のディスク摺動側の面にマスクが
施された状態を示す要部平面図であり、第１７図は、ト
ラック幅規制用溝内に非磁性材が埋設された状態とフェ
ライトのエツチング状態とを示す部分断面図であって、
第１６図におけるＸ■−Ｘ■断面図であり、第１８図は
、このようなブロック組合せ体から得られたコアスライ
ダを示す平面図である。 さらに、第１９図及び第２０図は、本発明の更に別の実
施例に係る各工程の一部を説明する図であって、第１９
図は、トラック幅規制用溝が形成されていないブロック
組合せ体のディスク摺動側の面にマスクを施した状態を
示す要部平面図であり、第２０図は、かかるブロック組
合せ体に工・ノチング処理を施して、空気ベアリング部
及びトラック突起を形成せしめた状態を示すプロ・ンク
組合せ体の部分平面図である。 更にまた、第２１図乃至第２５図は、本発明の更に別の
実施例に係る各工程の一部を説明する図であって、第２
１図及び第２２図は、それぞれ、一方のフェライトブロ
ックに対してマスクが付与された状態を示す斜視図、及
び工・ンチング処理された状態を示す斜視図であり、第
２３図は、かかるフェライトブロックに金属磁性材が被
着せしめられた状態を示す斜視図であり、第２４図は、
かかるフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加
工が施された状態を示す斜視図であり、第２５図は、そ
のようなフェライトブロックを用いて得られたコアスラ
イダを示す平面図である。 そして、第２６図は、本発明手法によって製造されるコ
アスライダの他の一例を示す平面図である。 １０：第一のフェライトブロック １２：第二のフェライトブロック １４：突合せ面 １８：磁気ギャップ形成部位 ２４：コイル巻線用溝　　２６：接合体２８：接合ガラ
ス　　　　３０：磁気ギャップ３２ニブロック組合せ体 ３６：ディスク摺動側の面 ３８ニドラック幅規制用溝 ４０ニドランク部　　　　４２：棚部 ４３ニドラック部側面 ４４ａ、４４ｂ：マスク ４６：空気ベアリング部 ４８ニドラツク突起 ５４：テーバ−面 ６０：コアスライダ ６４：非磁性材 ６８：エツチング凹所 ５０：傾斜面 ５６：ヨーク部 ６２ニスライダ本体 ６６：マスク ７０：金属磁性材

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）所定高さの互いに平行な左右の空気ベアリング部
   をディスク摺動面に備えたスライダ本体と、該スライダ
   本体に対して一体的に設けられたヨーク部とを有し、そ
   れらヨーク部とスライダ本体にて磁気ヘッドのための閉
   磁路が構成されると共に、該スライダ本体と該ヨーク部
   との間に所定間隙の磁気ギャップが形成されてなる固定
   磁気ディスク装置用コアスライダを、前記スライダ本体
   を与える第一のフェライトブロックと前記ヨーク部を与
   える第二のフェライトブロックとを突き合わせて製造す
   るに際して、 前記第一のフェライトブロック及び第二のフェライトブ
   ロックが一体化されたブロック組合せ体のディスク摺動
   面側の面に、これら第一及び第二の二つのフェライトブ
   ロックに跨がるように、少なくとも二つのトラック幅規
   制用の溝を、レーザ誘起エッチングにより平行に設け、
   それら溝間に所定幅のトラック部を形成せしめる工程と
   、前記ブロック組合せ体のディスク摺動面側の面に所定
   のマスクを施して、化学エッチング処理することにより
   、前記空気ベアリング部並びに前記トラック部の形成部
   位を、同様な高さにおいて突出、形成せしめる工程とを
   含むことを特徴する固定磁気ディスク装置用コアスライ
   ダの製造法。
2. （２）前記第一及び第二のフェライトブロックの少なく
   とも一方のものの少なくとも磁気ギャップ形成部位に、
   所定厚さの金属磁性材層が配置されることを特徴とする
   請求項（１）記載の固定磁気ディスク装置用コアスライ
   ダの製造法。