JPH02136063U - - Google Patents

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JPH02136063U
JPH02136063U JP4519989U JP4519989U JPH02136063U JP H02136063 U JPH02136063 U JP H02136063U JP 4519989 U JP4519989 U JP 4519989U JP 4519989 U JP4519989 U JP 4519989U JP H02136063 U JPH02136063 U JP H02136063U
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Japan
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growth
reaction tube
cooling chamber
boat
cooling
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JP4519989U
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による液相エピタキシヤル成長
装置の一実施例を構成図、第２図は従来の液相エ
ピタキシヤル成長装置を用いた場合の温度プログ
ラムの一例を示す説明図、第３図は本実施例の液
相エピタキシヤル成長装置を用いた温度プログラ
ムの一例を示す説明図、第４図は従来の液相エピ
タキシヤル成長装置の一例を示す構成図である。 １ａは一の成長ボート、１ｂは他の成長ボート
、５は反応管、６ａは一方向冷却室としてのガス
置換型冷却室、６ｂは他方向冷却室としてのガス
置換型冷却室、７ａは一方向の開閉弁、７ｂは他
方向の開閉弁、１４ａ，１４ｂは搬送・制御系と
してのワークステーシヨン、１５ａ，１５ｂは原
料溶液、１６ａ，１６ｂは基板である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 成長ボートに収容した原料溶液を反応管内で冷
    却させて基板上に半導体結晶の薄膜を成長させる
    液相エピタキシヤル成長装置において、 上記反応管の両端にそれぞれ設けられ、反応管
    の両方向から搬送され得る成長の終了した成長ボ
    ートを冷却する冷却室と、 これら冷却室と反応管との間にそれぞれ設けら
    れ、反応管と各冷却室とを連通あるいは遮断する
    開閉弁と、 上記成長ボートを２個用意しておき、一の成長
    ボートを一方向から上記反応管内に搬送したとき
    、他方向にある上記開閉弁を閉じて反応管と他方
    向にある冷却室とを遮断すると共に、この他方向
    冷却室で他の成長ボートを待機させ、反応管内に
    搬送した一の成長ボートの成長が終了したとき該
    一の成長ボートを一方向から一方向にある冷却室
    内に搬送して冷却させ、同時に一方向にある上記
    開閉弁を閉じると共に他方向開閉弁を開いて、他
    方向冷却室で待機させていた他の成長ボートを他
    方向から反応管内に搬送する搬送・制御系と を備えたことを特徴とする液相エピタキシヤル成
    長装置。
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