JPH0213952A - 自動ペリクル異物除去装置 - Google Patents
自動ペリクル異物除去装置Info
- Publication number
- JPH0213952A JPH0213952A JP63165328A JP16532888A JPH0213952A JP H0213952 A JPH0213952 A JP H0213952A JP 63165328 A JP63165328 A JP 63165328A JP 16532888 A JP16532888 A JP 16532888A JP H0213952 A JPH0213952 A JP H0213952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- mask
- foreign matter
- air
- ionizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ＶＬＳＩ及びＩＣの製造において、パター
ンをウェハに転写する際に使用されるマスク及びペリク
ル上の異物を除去させる装置に関するものである。
ンをウェハに転写する際に使用されるマスク及びペリク
ル上の異物を除去させる装置に関するものである。
半導体装置の製造に当ってパターンをウェハに転写する
際に使用するマスク及びペリクル上の異物をエアーで除
去する従来の装置は、投光器、イオナイザ、エアーガン
及びマスク支持台各単体によってｆｌｌ成されていた。
際に使用するマスク及びペリクル上の異物をエアーで除
去する従来の装置は、投光器、イオナイザ、エアーガン
及びマスク支持台各単体によってｆｌｌ成されていた。
次に動作について説明する。
ペリクルなしマスク、若しくはペリクル付きマスク （
以下、単にマスクと呼ぶ）をマスク支持台にセットし、
イオナイザーにより帯電したエアーをマスクにあて、ペ
リクル及び、マスクの静電気を取り除き、異物の離脱性
を向上させる。更に、投光器を用い、ペリクル及びマス
ク上の異物を目視しながらエアーガンで異物を吹き飛ば
す。
以下、単にマスクと呼ぶ）をマスク支持台にセットし、
イオナイザーにより帯電したエアーをマスクにあて、ペ
リクル及び、マスクの静電気を取り除き、異物の離脱性
を向上させる。更に、投光器を用い、ペリクル及びマス
ク上の異物を目視しながらエアーガンで異物を吹き飛ば
す。
更にマスクを裏返して、同様方法で、マスク裏面部の異
物の除去を行う。
物の除去を行う。
従来のペリクル異物除去装置は以上のように構成されて
いるので、異物の除去作業に単に時間と手間が掛るだけ
でなく、機器の収扱い万が悪いと、ペリクル・マスクに
傷をつけてしまう可能性がある。また１手作業が入って
いるため、マスクを裏返すときなどに異物が再付着する
可能性があり、その対策が課題となっていた。
いるので、異物の除去作業に単に時間と手間が掛るだけ
でなく、機器の収扱い万が悪いと、ペリクル・マスクに
傷をつけてしまう可能性がある。また１手作業が入って
いるため、マスクを裏返すときなどに異物が再付着する
可能性があり、その対策が課題となっていた。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされ
たもので、マスク上の異物の除去が手作業なしでできる
装置を得ることを目的とする。
たもので、マスク上の異物の除去が手作業なしでできる
装置を得ることを目的とする。
この発明に係るペリクルの異物除去装置は従来の機５’
に一体化し自動化することにより生ずる異物除去率の低
下に対して、イオナイザーと超音波加部ノズルを付加す
ることにより、異物除去率の低下を防いだものである。
に一体化し自動化することにより生ずる異物除去率の低
下に対して、イオナイザーと超音波加部ノズルを付加す
ることにより、異物除去率の低下を防いだものである。
この発明における異物除去率の向上は、イオナイザーに
より、マスク及びペリクル表面の静電気の中和作用と、
超音波加振機構による粗密圧縮空気による異物への衝撃
による。
より、マスク及びペリクル表面の静電気の中和作用と、
超音波加振機構による粗密圧縮空気による異物への衝撃
による。
以下、この発明の一実施ｇＡＪ Ｋついて説明する。
８１図はこの発明に係る自動ペリクル異物除去装置の主
要部金量す断面図、第２図は第１図のＶ：、置において
ペリクルから異物を除去する状況を示し、１ｍｌは斜視
図、（ｂｌは側面図である。
要部金量す断面図、第２図は第１図のＶ：、置において
ペリクルから異物を除去する状況を示し、１ｍｌは斜視
図、（ｂｌは側面図である。
第３図はペリクル細小投影露光装置等のアライナ−に取
付けたこの発明に係る自動ペリクル異例除去装置の斜視
図である。
付けたこの発明に係る自動ペリクル異例除去装置の斜視
図である。
図においてｉｌ［マスクホルダー、Ｉ２１ｉペリクル、
＋ａ＋Ｈマスク、；４１は出入口、＋６）に異物除去室
、；６１１ｄエアーノズル、（力にイオナイザー、（８
）に超音波加振部、（９）に異物、（１０）は排気口、
Ｕυはペリクルフレーム、叫は細小投影露光装置アライ
ナ−、１３１は自助異物除去装置本体部、１１４＋はホ
ルダ駆動部である。
＋ａ＋Ｈマスク、；４１は出入口、＋６）に異物除去室
、；６１１ｄエアーノズル、（力にイオナイザー、（８
）に超音波加振部、（９）に異物、（１０）は排気口、
Ｕυはペリクルフレーム、叫は細小投影露光装置アライ
ナ−、１３１は自助異物除去装置本体部、１１４＋はホ
ルダ駆動部である。
次に動作について説明する。
１、本装置マスクホルダ＋Ｉｌにペリクル＋２１付きマ
スク１３１がセットされる。（第１図参照）２、 次に
ペリクル１２）付きマスク１３１ば、マスクホルダ１１
１とともに出入口（４）からゆっくりと異物除去室１６
）内に挿入され始める。
スク１３１がセットされる。（第１図参照）２、 次に
ペリクル１２）付きマスク１３１ば、マスクホルダ１１
１とともに出入口（４）からゆっくりと異物除去室１６
）内に挿入され始める。
８、 それと同時に、エアーノズル１６）からイオナイ
ザー（図示せず）によって静電気に帯電されｔイオナイ
ザーエアー（７）が噴出される。このときエアーノズル
（６）は、超音波加振部（８）で加振され、イオナイザ
ーエアー１７１は、粗密波となっている。
ザー（図示せず）によって静電気に帯電されｔイオナイ
ザーエアー（７）が噴出される。このときエアーノズル
（６）は、超音波加振部（８）で加振され、イオナイザ
ーエアー１７１は、粗密波となっている。
４、 マスク（３：ニ異物除去室＋５１の一番臭まで挿
入される過程で、ペリクル（２）上の異物（９）にエア
ーノズル（６）からのイオナイザーエアー（７）が当り
、ペリクル（２１上から離れる。（第２図）５、一方、
出入口（４１と反対の方向に排気口ｆｌｏ＋があり、常
Ｋ、真空で引かれているので、マスｚ（３１及びペリク
ル（２）から離れた異物（９）ハ、すみやかに排出され
る。
入される過程で、ペリクル（２）上の異物（９）にエア
ーノズル（６）からのイオナイザーエアー（７）が当り
、ペリクル（２１上から離れる。（第２図）５、一方、
出入口（４１と反対の方向に排気口ｆｌｏ＋があり、常
Ｋ、真空で引かれているので、マスｚ（３１及びペリク
ル（２）から離れた異物（９）ハ、すみやかに排出され
る。
８、異物除去室１６）の−香臭まで挿入され異物（９）
除去の完了したマスク１３１は、再びゆっくりと元の位
置までもどる。
除去の完了したマスク１３１は、再びゆっくりと元の位
置までもどる。
７、 以上のようにして、マスク（３）ハ自＃Ｊ的にク
リーニングされる。
リーニングされる。
また、上記実施例ではペリクル＋２１付きマスク（３１
を直接異物除去室＋６１に挿入する場合について説明し
たが、ペリクル（２１付きマスク（３）は第８図に示す
ごとく縮小投影露光装置等のアライナ−０２）ｌ／Ｉ：
取り付けることも可能である。
を直接異物除去室＋６１に挿入する場合について説明し
たが、ペリクル（２１付きマスク（３）は第８図に示す
ごとく縮小投影露光装置等のアライナ−０２）ｌ／Ｉ：
取り付けることも可能である。
Ｃｔａ明の効果〕
以上のように、この発明によればマスク及びペリクル上
の異物除去に当って異物除去率の向上１手作業の削減が
期待でき、ＶＬＳＩの歩留り向上、生産性の向上の効果
がある。
の異物除去に当って異物除去率の向上１手作業の削減が
期待でき、ＶＬＳＩの歩留り向上、生産性の向上の効果
がある。
第１図はこの発明に係る自動ペリクル異物除去装置の主
要部ヶ示す断面図、第２図は、第１図の装置においてペ
リクルから異物を除去する状況を示す斜視図及び…り面
図、第８図はペリクルを細小投影露光装置等のアライナ
−に取り付けたこの発明に係る自４１ｈペリクル異物除
去装置の斜視図である。 図において＋ＩＩ Ｉｒｌマスクホルダー、＋２１ｉｊ
ペリクル、）３）にマスク、（４）は出入口、１ｌｉｌ
は異物除去室、１６１ハエアーノズル、（力にイオナイ
ザーエアー、（８）に超音波加振部、（９１は異物、（
１０）は排気口、αυはペリクルフレーム、＋１２１は
細小投影露光装置アライナ−１（＋３１は自動異物除去
装置本体部、ａ４はホルダ枢動部である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
要部ヶ示す断面図、第２図は、第１図の装置においてペ
リクルから異物を除去する状況を示す斜視図及び…り面
図、第８図はペリクルを細小投影露光装置等のアライナ
−に取り付けたこの発明に係る自４１ｈペリクル異物除
去装置の斜視図である。 図において＋ＩＩ Ｉｒｌマスクホルダー、＋２１ｉｊ
ペリクル、）３）にマスク、（４）は出入口、１ｌｉｌ
は異物除去室、１６１ハエアーノズル、（力にイオナイ
ザーエアー、（８）に超音波加振部、（９１は異物、（
１０）は排気口、αυはペリクルフレーム、＋１２１は
細小投影露光装置アライナ−１（＋３１は自動異物除去
装置本体部、ａ４はホルダ枢動部である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- イオナイザーにより帯電させた圧縮空気を、超音波で加
振させたノズルからペリクル付マスク及び、ペリクルな
しマスクに当て、ペリクル及びマスク上の付着異物の離
脱性を向上させたことを特徴とする自動ペリクル異物除
去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165328A JPH0213952A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 自動ペリクル異物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63165328A JPH0213952A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 自動ペリクル異物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0213952A true JPH0213952A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15810246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63165328A Pending JPH0213952A (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 | 自動ペリクル異物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0213952A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5197538A (en) * | 1991-04-22 | 1993-03-30 | Zexel Corporation | Heat exchanger apparatus having fluid coupled primary heat exchanger unit and auxiliary heat exchanger unit |
| KR100396380B1 (ko) * | 2001-05-14 | 2003-09-02 | 아남반도체 주식회사 | 포토마스크상의 미세 입자 제거장치 및 제거 방법 |
| JP2016178256A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ＆サービス | ウェーハ搬送装置 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP63165328A patent/JPH0213952A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5197538A (en) * | 1991-04-22 | 1993-03-30 | Zexel Corporation | Heat exchanger apparatus having fluid coupled primary heat exchanger unit and auxiliary heat exchanger unit |
| KR100396380B1 (ko) * | 2001-05-14 | 2003-09-02 | 아남반도체 주식회사 | 포토마스크상의 미세 입자 제거장치 및 제거 방법 |
| JP2016178256A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-06 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ＆サービス | ウェーハ搬送装置 |
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