JPH02142154A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH02142154A
JPH02142154A JP63295413A JP29541388A JPH02142154A JP H02142154 A JPH02142154 A JP H02142154A JP 63295413 A JP63295413 A JP 63295413A JP 29541388 A JP29541388 A JP 29541388A JP H02142154 A JPH02142154 A JP H02142154A
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村上 功治
Takashi Kimura
隆 木村
Kazuo Endo
遠藤 和夫
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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    • H10W72/5473Dispositions of multiple bond wires multiple bond wires connected to a common bond pad

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は半導体装置に係り、特に高周波電力増幅用の
MO3型電界効果トランジスタに関する。
(従来の技術) MO5型電界効果トランジスタは熱暴走しにくい等の利
点があり、複数のトランジスタを並列に接続することに
よって必要な出力電力を容易に確保することができるた
め、電力増幅用としてバイポーラ型トランジスタに代わ
って用いられるようになってきた。
第5図は高周波電力増幅用としてMOS型電界効果トラ
ンジスタ(以下、MOS  FETと称する)を用いた
従来の半導体装置の斜視図である。
11i;LMOS  FETベレットであり、金属パッ
ケージ12内に装着されている。13は入力端子、14
は出力端子であり、MOS  FETベレット11に設
けられた入力パッド15、出力パッド16のそれぞれと
複数の金属線17によって配線されている。端子13及
び14は絶縁基板18によって金属パッケージ12から
は絶縁されている。また、この入力端子13及び出力端
子14以外の端子は接地端子■9であり、金属パッケー
ジ12と導通している。
上記構成の半導体装置の等価回路を第6図に示す。上記
MO8FETベレット11は複数のMOS  FET2
0によって構成されており、これらすべてのMOS  
FET20のソースは共通に接続されて接地されており
、かつ何個かごとにゲート及びドレインがそれぞれ共通
接続され、各共通ゲートが前記パッド15に、各共通ド
レインが前記パッド1Gにそれぞれ接続されている。そ
して、各パッド15及び】6は前記各金属線17によっ
て前記入力端子13、出力端子14にそれぞれ共通に接
続されている。また、MOS  FETペレット11の
共通ソースはベレット裏面から接地電極として取出され
、第4図に示すように金属パッケージ12に接着される
ところで、従来装置では第5図に示すように入力端子1
3及び出力端子14のそれぞれ両側に接地端子19を配
置するようにしているので、両端子13、 14の幅は
小さくなっている。これに対し、ベレットIIは第6図
に示すように、複数個のMOS  FET20で構成さ
れているため、その幅は大きくなっている。また、ベレ
ット自体の熱抵抗を低減させるためにもその幅を大きく
する必要がある。一方、MOS  FETベレット11
では、各MO8FET20のベレット内の位置に基づく
動作の不均一を避けるためと、金属線17が互いに重な
らないようにするための目的から、入力パッド15及び
出力パッド16は図示のように複数個に分けて配列され
ている。従って、ベレットIlの入力パッド15及び出
力パッド16と入力端子13及び出力端子I4とを接続
する場合に、パッド15.16の位置により、前記金属
線17の長さに差が生じる。この結果、入出力電力の位
相差が発生して電力損失が生じる。この位相差は周波数
が高くなるほど人きくなり、これに伴って電力損失が増
大する。
(発明が解決しようとする課題) 従来装置では金属パッケージ以外に入出力端子の両側に
接地端子を設けるようにしているために、入出力端子の
幅が狭くなり、ベレット上の人出力パッドと、入出力端
子とを接続する金属線の長さが不均一となり、この結果
、入出力電力間に位相差が発生し、電力損失が大きくな
るという欠点がある。
この発明は上記事情を考慮してなされたものであり、そ
の目的は、半導体ベレット上の電極パッドと入出力端子
との接続部分に生じる位相差を抑え、入出力電力間の電
力損失を小さくする半導体装置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するだめの手段) この発明の半導体装置は、ソースか共通に接続された複
数のMO3型電界効果型トランジスタを備え、一方面に
は接地電極が形成され、他方面には複数個の入力電極及
び出力電極がそれぞれ配列して形成された半導体ベレッ
トと、基台部及びこの基台部と一体的に形成された溝部
を有する凸部からなり、この溝部内に上記半導体ベレッ
トの接地電極が接着されることによりこの半導体ベレッ
トが装着される金属性の外囲器と、この外囲器の凸部上
の周辺に設けられた絶縁性基板と、この絶縁性基板上に
互いに対向するように接着され、上記半導体ベレットの
長辺の長さと同等もしくはそれ以上の幅を持つ入力端子
及び出力端子と、この入力端子及び出力端子それぞれと
上記半導体ベレットの入力電極及び出力電極それぞれと
を接続する複数の配線とから11カ成される。
(作用) 半導体ベレットの裏面より接続を持つ金属パッヶージ自
体のみを接地端子とし、他には接地端子を持たない構成
にすることにより、入出力端子が幅広く取れる。これに
より、ベレット上17)m極バッドと入出力端子との接
続線の長さを均等にし、その部分での入出力電力の位相
差を抑える。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
第1図はこの発明を高周波電力増幅用としてMO5型電
界効果トランジスタ(以下、MOSFETと称する)を
用いた半導体装置に実施した場合の斜視図である。1は
MOS  FETベレットである。また、2はCu系合
金からなる金属パッケージであり、両端部に取付は用の
孔が設けられた基台部と、この基台部と一体的に形成さ
れ、ベレット1が装着される溝を持った凸部分から構成
されている。上記MO3FETベレット1はこの金属パ
ッケージ2の溝内に納められ、Al−8i共品半田によ
って接着されている。3は入力端子、4は出力端子であ
り、パッケージ2の凸部分の周辺上に接着されたセラミ
ック基板5上に互いに対向するように、ろう付けにより
接着されている。この入出力端子3.4はMOS  F
ETベレット1上に設けられた複数の入力バッド6、出
力バッド7のそれぞれとアルミニウム配線8によって最
短距離で配線されている。
この発明の装置では周波数770 M Hz以上で出力
50Wを達成するため、MOS  FETベレットlは
幅(図中A)が8mmのものを使用している。このMO
S  FETベレット1は、ソース電極は裏面から取り
だすソース接地型である。そこで、パッケージ2が接地
端子を兼ねており、他には接地端子を設けていない。従
って、入力端子3、出力端子4は共に幅広く取ることが
できる。
従来、この幅は3.2mm程度であったが、ここではM
OS  FETベレット1の幅(図中A)よりも広い1
0mmの端子を設けている。この入出力端子3,4とM
OS  FETベレット1上に設けられているバッド6
.7とをそれぞれ接続するアルミニウム配線8は同じ長
さ、断面形状の例えば直径50μmのものを使用する。
このように、パッケージ2以外は接地端子を設けず、入
出力端子を共に幅広い構成にすることにより、MOS 
 FETベレット1の入出力バッド6.7と入出力端子
3,4とは同じ長さ、同じ断面形状のアルミニウム配線
8により接続することができる。従って、従来のような
入出力電力の位相差は極めて小さくなり、電力損失を防
ぐことができる。
上記実施例装置では従来装置と比較して周波数700〜
900MHZにおいて、出力電力が31.1%増加し、
ドレイン効率も28,0%の特性改善を達成することが
できた。
第2図は他の実施例を示す斜視図であり、上記入出力端
子3,4をそれぞれ2個に分割したものである。この実
施例では、入力端子31と32との間及び出力端子41
と42との間にはセラミック基板5とのろう付けの際に
使用された金属膜(例えばAu)9が残存しており、分
割された端子は互いに導通している。このようにすれば
1つの端子の幅が小さくでき、装置への取付け、配線等
の便宜が図れる。しかも、第1図実施例と同様の効果が
得られる。
第3図はこの発明のもう1つの他の実施例であり、上記
第2図実施例の残存している金属膜(例えばAu)9を
その後の工程で除去し、セラミック基板5を露出させた
ものである。これにより、入力端子3】と32との間及
び出力端子41と4□との間は絶縁される。このように
すれば、例えば第4図に示すようなプッシュプル増幅回
路を構成するときの便宜が図れる。図示しないドライバ
ーからトランスT1を介して入力端子31と3□に相補
な信−iy電圧゛が供給されると2組のMOS  FE
T20が交互にオンしてバイアス電圧■により出力端f
4+ と42間に接続されたトランスT2を介して負荷
Rに増幅された出力が得られる。この場合、第1図の実
施例と同様に入力端子3.,32と出力端子41.42
と間の入出力電力の位相差は極めて小さくなり、プッシ
ュプル動作時における電力損失が大幅に改良される。
なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
、種々の変形が可能である。例えば第2図、第3図にお
いて、入力端子3及び出力端子4をそれぞれ2個に分割
した場合について説明したが、この端子数は限定せず、
入出力パッドとの接続線の長さ、断面形状が均一にでき
ればよい。また、上記実施例では入出力パッドと各端子
との接続はアルミニウム線により行ったが、その種類も
長さ、断面形状が均一であれば限定はされない。
[発明の効果] 以上詳述したようにこの発明によれば、入出力電力間の
電力損失を小さくする半導体装置を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係る半導体装置の斜視図、第2図及
び第3図はそれぞれこの発明の他の実施例による斜視図
、第4図は第3図装置の応用例を示す等価回路図、第5
図は従来の半導体装置の斜視図、第6図は第5図の等価
回路図である。 1・・・MOS  FETペレット、2・・・金属パッ
ケージ、3・・・入力電極、4・・・出力電極、5・・
・セラミック基板、6・・・人力パッド、7・・出力パ
ッド、8・・・アルミニウム配線。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第3図 第2図 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ソースが共通に接続された複数のMOS型電界効
    果型トランジスタを備え、一方面には接地電極が形成さ
    れ、他方面には複数個の入力電極及び出力電極がそれぞ
    れ配列して形成された半導体ペレットと、 基台部及びこの基台部と一体的に形成された溝部を有す
    る凸部からなり、この溝部内に上記半導体ペレットの接
    地電極が接着されることによりこの半導体ペレットが装
    着される金属性の外囲器と、上記外囲器の凸部上の周辺
    に設けられた絶縁性基板と、 上記絶縁性基板上に互いに対向するように接着され、上
    記半導体ペレットの長辺の長さと同等もしくはそれ以上
    の幅を持つ入力端子及び出力端子と、 上記入力端子及び出力端子それぞれと上記半導体ペレッ
    トの入力電極及び出力電極それぞれとを接続する複数の
    配線と、 を具備したことを特徴とする半導体装置。
  2. (2)前記入力端子及び出力端子のうち少なくとも入力
    端子がその幅方向で複数の部分に分割されている請求項
    1記載の半導体装置。
  3. (3)前記分割された端子が互いに電気的に分離されて
    いる請求項2記載の半導体装置。
JP63295413A 1988-11-22 1988-11-22 半導体装置 Granted JPH02142154A (ja)

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JP63295413A JPH02142154A (ja) 1988-11-22 1988-11-22 半導体装置

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JPH02142154A true JPH02142154A (ja) 1990-05-31
JPH0573342B2 JPH0573342B2 (ja) 1993-10-14

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6129143A (ja) * 1984-07-20 1986-02-10 Hitachi Ltd 半導体装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6129143A (ja) * 1984-07-20 1986-02-10 Hitachi Ltd 半導体装置

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