JPH02143481A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
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- JPH02143481A JPH02143481A JP29703288A JP29703288A JPH02143481A JP H02143481 A JPH02143481 A JP H02143481A JP 29703288 A JP29703288 A JP 29703288A JP 29703288 A JP29703288 A JP 29703288A JP H02143481 A JPH02143481 A JP H02143481A
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- oscillation
- laser
- elapsed time
- shots
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- Prior art date
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- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
この発明は、エキシマレーザ装置に係り、特に、レーザ
光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数のような発
振条件のコントロールに関する。
光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数のような発
振条件のコントロールに関する。
Ｂ、従来技術
エキシマレーザは、紫外域で強力な発振線が得られるな
どの種々の特徴を有するため、近年、半導体デバイスや
光化学プロセスなどの分野において、注目を集めている
。
どの種々の特徴を有するため、近年、半導体デバイスや
光化学プロセスなどの分野において、注目を集めている
。
一般にエキシマレーザ装置は、次のような各ユニットか
ら構成されている。即ち、エキシマレーザ装置は、例え
ば希ガスやハロゲンガスなどをレーザ媒質としてチャン
バ内に高圧で封じ込め、これを放電励起することによっ
てレーザ光を発生させるレーザ放電管、この放電管内に
上述したような各種のガスを供給したり、放電管内のガ
スを排気するガス循環系、レーザ放ｉｔの発振動作の制
御２′ｌ・ガス循環系の制御・レーザパワーの検出・放
電管内のガス圧の検出などを行うレーザコントローラ、
レーザ放電管に高電圧を供給する高電圧電源、レーザコ
ントローラとの間を光通信回線などで結ばれて、レーザ
コントローラに対して発振条件などの各種の制御指令を
出すレーザ操作装置などを含む。
ら構成されている。即ち、エキシマレーザ装置は、例え
ば希ガスやハロゲンガスなどをレーザ媒質としてチャン
バ内に高圧で封じ込め、これを放電励起することによっ
てレーザ光を発生させるレーザ放電管、この放電管内に
上述したような各種のガスを供給したり、放電管内のガ
スを排気するガス循環系、レーザ放ｉｔの発振動作の制
御２′ｌ・ガス循環系の制御・レーザパワーの検出・放
電管内のガス圧の検出などを行うレーザコントローラ、
レーザ放電管に高電圧を供給する高電圧電源、レーザコ
ントローラとの間を光通信回線などで結ばれて、レーザ
コントローラに対して発振条件などの各種の制御指令を
出すレーザ操作装置などを含む。
レーザ操作装置は、レーザコントローラに光通信回線な
どで接続されたマイクロコンピュータを含み、このマイ
クロコンピュータに関連して例えば、タッチパネルなど
の繰作パネルが付設された表示器が備えられている。オ
ペレータは、この操作パネルを操作することによって、
レーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数など
の発振条件を初期設定する。このようにして設定された
発振条件は、レーザ操作装置から高電圧電源あるいはレ
ーザコントローラに与えられて、それぞれ所定の制御が
行われることにより、所望条件のレーザ光が得られるよ
うに構成されている。
どで接続されたマイクロコンピュータを含み、このマイ
クロコンピュータに関連して例えば、タッチパネルなど
の繰作パネルが付設された表示器が備えられている。オ
ペレータは、この操作パネルを操作することによって、
レーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数など
の発振条件を初期設定する。このようにして設定された
発振条件は、レーザ操作装置から高電圧電源あるいはレ
ーザコントローラに与えられて、それぞれ所定の制御が
行われることにより、所望条件のレーザ光が得られるよ
うに構成されている。
Ｃ０発明が解決しようとする課題
しかしなから、上述した従来装置には次のような問題点
がある。
がある。
エキシマレーザ装置を使用した各種の産業装置には、予
め定められた一定出力のレーザ光を使用する装置ばかり
ではなく、レーザ発振開始後の経過時間またはレーザパ
ルスのショット数に応じて、レーザ光の平均パワー、単
発エネルギ、あるいは発振周波数を変更して使用する装
置もある０例えば、サンプルであるガラス素材に、比較
的に大きな一定パワーのレーザ光を所定時間照射してガ
ラス素材を溶融し、その後にレーザ光のパワーを徐々に
減少していくことによって、歪が生じないようにガラス
素材を徐々に冷却し、所定時間を経過した後にレーザ光
の照射を停止する装置がある。
め定められた一定出力のレーザ光を使用する装置ばかり
ではなく、レーザ発振開始後の経過時間またはレーザパ
ルスのショット数に応じて、レーザ光の平均パワー、単
発エネルギ、あるいは発振周波数を変更して使用する装
置もある０例えば、サンプルであるガラス素材に、比較
的に大きな一定パワーのレーザ光を所定時間照射してガ
ラス素材を溶融し、その後にレーザ光のパワーを徐々に
減少していくことによって、歪が生じないようにガラス
素材を徐々に冷却し、所定時間を経過した後にレーザ光
の照射を停止する装置がある。
このような産業装置に、従来のエキシマレーザ装置を適
用した場合、発振開始後の経過時間あるいはショット数
に応じてレーザ光のパワーなどを変更するのに、レーザ
操作装置に備えられた操作パネルをオペレータがその都
度操作しなければならずたい、へん煩雑である。
用した場合、発振開始後の経過時間あるいはショット数
に応じてレーザ光のパワーなどを変更するのに、レーザ
操作装置に備えられた操作パネルをオペレータがその都
度操作しなければならずたい、へん煩雑である。
また、レーザ光の発振条件をショット数などに応じて複
雑に変化させる必要がある場合などには、人手によって
条件値を設定すると精度が悪くなり、実用に供しｉ季な
くなる。
雑に変化させる必要がある場合などには、人手によって
条件値を設定すると精度が悪くなり、実用に供しｉ季な
くなる。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、レーザ発振開始後の経過時間やショット数に応じ
て、レーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数
のような発振条件を容易かつ精度よく変更することがで
きるエキシマレーザ装置を提供することを目的としてい
る。
って、レーザ発振開始後の経過時間やショット数に応じ
て、レーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数
のような発振条件を容易かつ精度よく変更することがで
きるエキシマレーザ装置を提供することを目的としてい
る。
０４課題を解決するための手段
この発明は、上記目的を達成するために次のような構成
を備えている。
を備えている。
即ち、この発明に係るエキシマレーザ装置は、少なくと
もレーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数を
含むレーザ発振条件群の中から、任意に選択される発振
条件をレーザ発振開始後の経過時間またはショット数に
対応させて入力設定する発振条件入力設定手段と、前記
発振条件人力設定手段によって入力された発振条件を記
憶する記憶手段と、レーザ発振開始後の経過時間または
ショット数を管理する時間管理手段と、前記時間管理手
段によって管理される経過時間またはショット数が、前
記記憶手段に記憶された経過時間またはショット数に至
ったときに、前記記憶手段に記憶されている所定の発振
条件に従ってレーザ発振を制御するレーザ発振制御手段
を備えたことを特徴としている。
もレーザ光の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数を
含むレーザ発振条件群の中から、任意に選択される発振
条件をレーザ発振開始後の経過時間またはショット数に
対応させて入力設定する発振条件入力設定手段と、前記
発振条件人力設定手段によって入力された発振条件を記
憶する記憶手段と、レーザ発振開始後の経過時間または
ショット数を管理する時間管理手段と、前記時間管理手
段によって管理される経過時間またはショット数が、前
記記憶手段に記憶された経過時間またはショット数に至
ったときに、前記記憶手段に記憶されている所定の発振
条件に従ってレーザ発振を制御するレーザ発振制御手段
を備えたことを特徴としている。
８９作用
この発明の作用は次のとおりである。
まず、発振条件入力設定手段によって、レーザ光の平均
パワー、単発エネルギ、発振周波数などの発振条件が、
レーザ発振開始後の経過時間またはショット数に対応さ
せて入力設定される。これらの発振条件は、入力設定さ
れた経過時間またはショット数に対応付けて、記憶手段
に記憶される。
パワー、単発エネルギ、発振周波数などの発振条件が、
レーザ発振開始後の経過時間またはショット数に対応さ
せて入力設定される。これらの発振条件は、入力設定さ
れた経過時間またはショット数に対応付けて、記憶手段
に記憶される。
一方、時間管理手段は、レーザ発振開始後の実際の経過
時間またはショット数を管理している０時間管理手段に
よって検出された経過時間またはショット数が、前記記
憶手段に記憶されている設定経過時間またはショット数
に至ったときに、レーザ発振制御手段は、そのときの経
過時間またはショット数に対応付けて記憶されている発
振条件を記憶手段から読み出し、その条件に従ってレー
ザ発振を制御する。このようにして、レーザ光は予め設
定された条件に従って連続的に制御される。
時間またはショット数を管理している０時間管理手段に
よって検出された経過時間またはショット数が、前記記
憶手段に記憶されている設定経過時間またはショット数
に至ったときに、レーザ発振制御手段は、そのときの経
過時間またはショット数に対応付けて記憶されている発
振条件を記憶手段から読み出し、その条件に従ってレー
ザ発振を制御する。このようにして、レーザ光は予め設
定された条件に従って連続的に制御される。
Ｆ、実施例
以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、この発明の一実施例の構成の概略を示したブ
ロック図である。
ロック図である。
図中、符号ｌはレーザ放電管、２はレーザ放電管１を制
御′ｎするレーザコントローラ、３はレーザコントロー
ラ２との間を光通信回線（光ファイバ）４で接続され、
レーザコントローラ２に対して各種の制御指令を与える
ためのレーザ操作装置、５はレーザ放電管１に高電圧を
供給するための高電圧電源である。
御′ｎするレーザコントローラ、３はレーザコントロー
ラ２との間を光通信回線（光ファイバ）４で接続され、
レーザコントローラ２に対して各種の制御指令を与える
ためのレーザ操作装置、５はレーザ放電管１に高電圧を
供給するための高電圧電源である。
レーザ放電管ｌから照射されたレーザ光りの一部はビー
ムスプリッタ６で反射されて、レーザコントローラ２に
含まれる光センサ７に入射される。
ムスプリッタ６で反射されて、レーザコントローラ２に
含まれる光センサ７に入射される。
光センサ７は、レーザ光のパワーをモニターするために
設けられたもの、で、その検出信号はＡ／Ｄ変換器８お
よび入出力インターフェイス１５を介してマイクロコン
ピュータ９に取り込まれる。高電圧電源５の出力電圧は
、電圧検出回路１０によってモニターされており、その
検出信号はＡ／Ｄ変換器１１および入出力インターフェ
イス１５を介してマイクロコンピュータ９に取り込まれ
る。マイクロコンピュータ９は、これらの検出信号を適
宜に符号化処理して光通信送・受信器１２に出力する。
設けられたもの、で、その検出信号はＡ／Ｄ変換器８お
よび入出力インターフェイス１５を介してマイクロコン
ピュータ９に取り込まれる。高電圧電源５の出力電圧は
、電圧検出回路１０によってモニターされており、その
検出信号はＡ／Ｄ変換器１１および入出力インターフェ
イス１５を介してマイクロコンピュータ９に取り込まれ
る。マイクロコンピュータ９は、これらの検出信号を適
宜に符号化処理して光通信送・受信器１２に出力する。
光通信送・受信器１２は、モニタされた電圧データやレ
ーザパワーのデータを、光通信回線４を介してレーザ操
作装置３に伝送する。
ーザパワーのデータを、光通信回線４を介してレーザ操
作装置３に伝送する。
また、レーザコントローラ２には、レーザ放電管ｌをス
イッチングするためのサイシトロン１３に与えるトリガ
信号を発止する発振回路１４が備えられている０発振回
路１４はマイクロコンピュータ９から指令された周波数
のトリガ信号を出力する。
イッチングするためのサイシトロン１３に与えるトリガ
信号を発止する発振回路１４が備えられている０発振回
路１４はマイクロコンピュータ９から指令された周波数
のトリガ信号を出力する。
このトリガ信号によってサイラトロン１３がスイッチン
グされることにより、レーザ放電管１から前記指定され
た周波数のレーザ光が照射される。
グされることにより、レーザ放電管１から前記指定され
た周波数のレーザ光が照射される。
次にレーザ操作装置３の構成を説明する。
レーザ操作装置３は、レーザコントローラ２との間でデ
ータの送・受信をするための光通信送・受信器１６を備
えている。レーザコントローラ２から伝送されたきたモ
ニターデータは、光通信送・受信ｆｆ１Ｈ１６および入
出力インターフェイス１７を介してマイクロコンピュー
タ１８に取り込まれる。マイクロコンピュータ１８は、
ＣＰＵ１９、制御プログラム格納用のＲＯＭ２０、入力
設定された発振条件を格納するための発振条件格納用の
ＲＡＭ２１、レーザコントローラ２から伝送されたきた
モニターデータを格納するためのデータＲＡＭ２２、比
較的に長い時間を管理するために設けられたリアルタイ
ムクロック２３を含む、なお、符号２４はＣＲＴ、２５
はＣＲＴ２４に付設されたタッチパネルのような操作パ
ネルである。
ータの送・受信をするための光通信送・受信器１６を備
えている。レーザコントローラ２から伝送されたきたモ
ニターデータは、光通信送・受信ｆｆ１Ｈ１６および入
出力インターフェイス１７を介してマイクロコンピュー
タ１８に取り込まれる。マイクロコンピュータ１８は、
ＣＰＵ１９、制御プログラム格納用のＲＯＭ２０、入力
設定された発振条件を格納するための発振条件格納用の
ＲＡＭ２１、レーザコントローラ２から伝送されたきた
モニターデータを格納するためのデータＲＡＭ２２、比
較的に長い時間を管理するために設けられたリアルタイ
ムクロック２３を含む、なお、符号２４はＣＲＴ、２５
はＣＲＴ２４に付設されたタッチパネルのような操作パ
ネルである。
次に、第２図に示したフローチャートに従って、この実
施例の動作を説明する。
施例の動作を説明する。
まず、オペレータがレーザ操作装置３の操作パネル２５
を操作することによって、レーザの発振条件が入力設定
される（ステップ５１）０発振条件としては、レーザ光
の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数があり、それ
ぞれ個別に入力設定することができる。これらの発振条
件は、発振開始後の経過時間またはショット数に関連し
て設定される。
を操作することによって、レーザの発振条件が入力設定
される（ステップ５１）０発振条件としては、レーザ光
の平均パワー、単発エネルギ、発振周波数があり、それ
ぞれ個別に入力設定することができる。これらの発振条
件は、発振開始後の経過時間またはショット数に関連し
て設定される。
例えば、第３図は、レーザ発振開始後の経過時間に関連
して入力設定される発振条件の一例として、レーザ光の
平均パワーの設定例を示している。
して入力設定される発振条件の一例として、レーザ光の
平均パワーの設定例を示している。
同図に示すように、発振条件（この例では、平均パワー
）は、「発振開始から経過時間り、の間は平均パワーを
Ｐｌに設定せよ１というような定数値による発振条件の
設定の他に、「経過時間ｔ。
）は、「発振開始から経過時間り、の間は平均パワーを
Ｐｌに設定せよ１というような定数値による発振条件の
設定の他に、「経過時間ｔ。
からし２の間で、平均パワーを関数Ｐ（ｔ）に従って減
少させよ１というような関数によっても設定される。他
の発振条件である単発エネルギや発振周波数も同様に設
定することができ、また、これらの発振条件は、発振開
始後のショット数（照射されたレーザパルスの数）に応
じて設定することもできる。くのようにして入力設定さ
れた発振条件は、マイクロコンピュータ１８の発振条件
格納用のＲＡＭ２１に記憶される。
少させよ１というような関数によっても設定される。他
の発振条件である単発エネルギや発振周波数も同様に設
定することができ、また、これらの発振条件は、発振開
始後のショット数（照射されたレーザパルスの数）に応
じて設定することもできる。くのようにして入力設定さ
れた発振条件は、マイクロコンピュータ１８の発振条件
格納用のＲＡＭ２１に記憶される。
発振条件が入力設定され後、操作パネル２５からレーザ
発振の起動がかけられる（ステップＳ２）。
発振の起動がかけられる（ステップＳ２）。
発振が開始されると、マイクロコンピュータ１８のリア
ルタイムクロック２３によって発振開始後の時間管理が
行われるとともに、レーザ発振の終了条件が成立するま
で次に示すステップＳ４ないしステップＳ１３の各処理
が繰り返し実行される（ステップＳ３）。
ルタイムクロック２３によって発振開始後の時間管理が
行われるとともに、レーザ発振の終了条件が成立するま
で次に示すステップＳ４ないしステップＳ１３の各処理
が繰り返し実行される（ステップＳ３）。
即ち、レーザ発振直後では、最初に実行すべき発振条件
（第３図の例では、ｒ発振開始時の平均パワーはＰＩＪ
という条件）がＲＡＭ２１から読み出される（ステップ
Ｓ４）、そして、その発振条件が定数値の条件であるか
、関数形で表された条件であるかが判断され（ステップ
Ｓ５）、定数値の条件であればステップＳ６に進む。
（第３図の例では、ｒ発振開始時の平均パワーはＰＩＪ
という条件）がＲＡＭ２１から読み出される（ステップ
Ｓ４）、そして、その発振条件が定数値の条件であるか
、関数形で表された条件であるかが判断され（ステップ
Ｓ５）、定数値の条件であればステップＳ６に進む。
ステップＳ６では、発振条件が平均パワーで指定されて
いる場合には、Ｉ？０Ｍ２０に記憶されているパワーコ
ントロール用のプログラムを起動し、そのプログラム中
のパラ−コントロール用の定ｆｉに、前記読み出された
条件を与えた後、そのプログラムを実行する。その結果
、レーザ操作装置３から高電圧電源５に対して、指定さ
れた平均パワーに対応した電圧指令信号が出される。こ
れにより、高電圧電源５から所定の高電圧がレーザコン
トローラ２に供給されることにより、指定された平均パ
ワーのレーザ光がレーザ放電ｇ１から照射される。
いる場合には、Ｉ？０Ｍ２０に記憶されているパワーコ
ントロール用のプログラムを起動し、そのプログラム中
のパラ−コントロール用の定ｆｉに、前記読み出された
条件を与えた後、そのプログラムを実行する。その結果
、レーザ操作装置３から高電圧電源５に対して、指定さ
れた平均パワーに対応した電圧指令信号が出される。こ
れにより、高電圧電源５から所定の高電圧がレーザコン
トローラ２に供給されることにより、指定された平均パ
ワーのレーザ光がレーザ放電ｇ１から照射される。
レーザ光のパワーはレーザコントローラ２によってモニ
タされており、その検出信号は逐次、レーザ操作装置３
に送信されてデータＲＡＭ２２に記憶されている。ＣＰ
Ｕ１９は、データＩ？ＡＭ２２に記ｉ、ｑされたレーザ
パワーのデータと、設定された発振条件（この場合は、
平均パワー）とを比較し、あるいはレーザコントローラ
２からリアルタイムで送られてくるレーザパワーのデー
トと、前記設定された発振条件とを比較し、レーザ光の
パワーが設定された条件になるように、高電圧電源５を
制御する。このようなレーザ発振の制御は、指定された
経過時間またはショット数になるまで続けられる（ステ
ップＳ７）、指定された経過時間になると、リアルタイ
ムクロック２３からの信号に基づき、ＣＰＵ１９は、そ
のときの発振条件が、指定された条件の内の最終のもの
であるかどうかを判断しくステップ３１２） 、？ｌｉ
終のものでなければステップＳ４に戻って次の発振条件
を読み出して、上述したステップＳ５の処理を行う。
タされており、その検出信号は逐次、レーザ操作装置３
に送信されてデータＲＡＭ２２に記憶されている。ＣＰ
Ｕ１９は、データＩ？ＡＭ２２に記ｉ、ｑされたレーザ
パワーのデータと、設定された発振条件（この場合は、
平均パワー）とを比較し、あるいはレーザコントローラ
２からリアルタイムで送られてくるレーザパワーのデー
トと、前記設定された発振条件とを比較し、レーザ光の
パワーが設定された条件になるように、高電圧電源５を
制御する。このようなレーザ発振の制御は、指定された
経過時間またはショット数になるまで続けられる（ステ
ップＳ７）、指定された経過時間になると、リアルタイ
ムクロック２３からの信号に基づき、ＣＰＵ１９は、そ
のときの発振条件が、指定された条件の内の最終のもの
であるかどうかを判断しくステップ３１２） 、？ｌｉ
終のものでなければステップＳ４に戻って次の発振条件
を読み出して、上述したステップＳ５の処理を行う。
発振条件が関数形で指定されている場合には、ステップ
Ｓ５からステップＳ８に進み、指定された経過時間また
はショット数になるまで、ステップＳ９ないしステップ
Ｓｌｌを繰り返し実行する。
Ｓ５からステップＳ８に進み、指定された経過時間また
はショット数になるまで、ステップＳ９ないしステップ
Ｓｌｌを繰り返し実行する。
まず、発振条件が経過時間に応じて指定されている場合
、ステップＳ９ではリアルタイムクロック２３から経過
時間の取り込みを行う、この経過時間に基づいて、指定
された関数からそのときの発振条件（この場合、平均パ
ワー）を算出する（ステップ５ＩＯ）、そして、算出さ
れた平均パワーとなるように、上述したと同様にして高
電圧電源５の電圧値を制御する（ステップ５ｌｌ）。
、ステップＳ９ではリアルタイムクロック２３から経過
時間の取り込みを行う、この経過時間に基づいて、指定
された関数からそのときの発振条件（この場合、平均パ
ワー）を算出する（ステップ５ＩＯ）、そして、算出さ
れた平均パワーとなるように、上述したと同様にして高
電圧電源５の電圧値を制御する（ステップ５ｌｌ）。
指定された経過時間についての制御が完了すると、ステ
ップＳ１２に進んで、それが最終の発振条件であったか
どうかを判断し、Ｒ終のものであった場合には、ステッ
プＳ１３に進んで終了条件成立を示すフラグを立て、ス
テップＳ３に戻る。終了条件を示すフラグが立っている
と、ステップＳ３からステップＳ１４に進み、レーザ発
振を停止する。
ップＳ１２に進んで、それが最終の発振条件であったか
どうかを判断し、Ｒ終のものであった場合には、ステッ
プＳ１３に進んで終了条件成立を示すフラグを立て、ス
テップＳ３に戻る。終了条件を示すフラグが立っている
と、ステップＳ３からステップＳ１４に進み、レーザ発
振を停止する。
以上のようにして、指定された条件に従って、レーザ発
振動作が連続的に制御される。
振動作が連続的に制御される。
なお、上述の動作説明では、発振条件が経過時間に応じ
て指定された場合を例に採って説明したが、ショット数
に応じて指定されている場合には、次のようにして時間
管理が行われる。即ち、レーザコントローラ２からレー
ザ操作装置３へ、発振回路１４が出力するトリガ信号に
同期した信号が伝送されている。レーザ操作装置３のマ
イクロコンピュータ１８は、発振開始後、この信号を計
数することによってショット数を管理している。
て指定された場合を例に採って説明したが、ショット数
に応じて指定されている場合には、次のようにして時間
管理が行われる。即ち、レーザコントローラ２からレー
ザ操作装置３へ、発振回路１４が出力するトリガ信号に
同期した信号が伝送されている。レーザ操作装置３のマ
イクロコンピュータ１８は、発振開始後、この信号を計
数することによってショット数を管理している。
また、上述の動作説明では、発振条件として平均パワー
が指定された場合を例に採ったが、レーザ光の単発エネ
ルギや発振周波数の場合も同様である。具体的には、単
発エネルギが指定された場合、レーザ操作装置３のＲＯ
Ｍ２３に格納されている単発エネルギコントロール用の
プログラムが起動され、指定された単発エネルギになる
ように高電圧１ｔ［５が制御される。
が指定された場合を例に採ったが、レーザ光の単発エネ
ルギや発振周波数の場合も同様である。具体的には、単
発エネルギが指定された場合、レーザ操作装置３のＲＯ
Ｍ２３に格納されている単発エネルギコントロール用の
プログラムが起動され、指定された単発エネルギになる
ように高電圧１ｔ［５が制御される。
また、発振周波数が指定された場合には、ＲＯＭ２０に
格納されている発振周波数コントロール用のプログラム
が駆動されることにより、指定された発振周波数に応じ
た制御指令が光通信回線４を介してレーザコントローラ
２に送られる。レーザコントローラ２のマイクロコンピ
ュータ９は、伝送されてきた制御指令に基づいて発振回
路１４の周波数を制御し、これによってレーザの発振周
波数が指定された周波数に設定される。
格納されている発振周波数コントロール用のプログラム
が駆動されることにより、指定された発振周波数に応じ
た制御指令が光通信回線４を介してレーザコントローラ
２に送られる。レーザコントローラ２のマイクロコンピ
ュータ９は、伝送されてきた制御指令に基づいて発振回
路１４の周波数を制御し、これによってレーザの発振周
波数が指定された周波数に設定される。
Ｇ１発明の効果
以上の説明から明らかなように、この発明に係るエキシ
マレーザ装置は、レーザ発振開始後の経過時間またはシ
ョット数に応じて、レーザ光の平均パワー、単発エネル
ギ、発振周波数のような発振条件を予め指定でき、るよ
うにしたから、レーザ装置の動作中にオペレータの手を
煩わさなくても、レーザの発振条件を自動的に変更する
ことができる。
マレーザ装置は、レーザ発振開始後の経過時間またはシ
ョット数に応じて、レーザ光の平均パワー、単発エネル
ギ、発振周波数のような発振条件を予め指定でき、るよ
うにしたから、レーザ装置の動作中にオペレータの手を
煩わさなくても、レーザの発振条件を自動的に変更する
ことができる。
また、レーザの発振条件を、発振開始後の経過時間また
はショット数を変数とした関数形で設定した場合には、
人手で操作していた場合には不可能であったような、レ
ーザ発振条件の複雑な変更も容易に、しかも精度よく行
うことができる。
はショット数を変数とした関数形で設定した場合には、
人手で操作していた場合には不可能であったような、レ
ーザ発振条件の複雑な変更も容易に、しかも精度よく行
うことができる。
第１図は本発明の一実施例に係るエキシマレーザ装置の
構成を示した概略ブロック図、第２図は実施例の動作フ
ローチャート、第３図は入力設定された発振条件の一例
である平均パワーと経過時間との関係を例示した線図で
ある。 ■・・・レーザ放電管。 ２・・・レーザコントローラ ３・・・レーザ操作装置 ５・・・高電圧電源 １９・・・ＣＰＵ ２０・・・ＲＯＭ ２１・・・発振条件格納用ＲＡＭ ２２・・・モニターデータ格納用Ｔ？ＡＭ２３・・・リ
アルタイムクロック ２５・・・操作パネル 第１図 特許出願人 株式会社 島津製作所
構成を示した概略ブロック図、第２図は実施例の動作フ
ローチャート、第３図は入力設定された発振条件の一例
である平均パワーと経過時間との関係を例示した線図で
ある。 ■・・・レーザ放電管。 ２・・・レーザコントローラ ３・・・レーザ操作装置 ５・・・高電圧電源 １９・・・ＣＰＵ ２０・・・ＲＯＭ ２１・・・発振条件格納用ＲＡＭ ２２・・・モニターデータ格納用Ｔ？ＡＭ２３・・・リ
アルタイムクロック ２５・・・操作パネル 第１図 特許出願人 株式会社 島津製作所
Claims (2)
- （１） 少なくともレーザ光の平均パワー、単発エネル
ギ、発振周波数を含むレーザ発振条件群の中から、任意
に選択される発振条件をレーザ発振開始後の経過時間ま
たはショット数に対応させて入力設定する発振条件入力
設定手段と、前記発振条件入力設定手段によって入力さ
れた発振条件を記憶する記憶手段と、レーザ発振開始後
の経過時間またはショット数を管理する時間管理手段と
、前記時間管理手段によって管理される経過時間または
ショット数が、前記記憶手段に記憶された経過時間また
はショット数に至ったときに、前記記憶手段に記憶され
ている所定の発振条件に従ってレーザ発振を制御するレ
ーザ発振制御手段を備えたことを特徴とするエキシマレ
ーザ装置。 - （２） 請求項（１）に記載のエキシマレーザ装置にお
いて、少なくともレーザ光の平均パワー、単発エネルギ
、発振周波数を含むレーザ発振条件群の中から、任意に
選沢される発振条件は、レーザ発振開始後の経過時間ま
たはショット数を変数とした任意の関数で設定されるも
のであるエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297032A JPH0714099B2 (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297032A JPH0714099B2 (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | エキシマレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02143481A true JPH02143481A (ja) | 1990-06-01 |
| JPH0714099B2 JPH0714099B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=17841342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63297032A Expired - Lifetime JPH0714099B2 (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714099B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07106678A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Komatsu Ltd | レーザ装置の出力制御装置 |
| EP0680121A1 (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-02 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus and a method of controlling the same |
| EP0786841A1 (en) * | 1996-01-23 | 1997-07-30 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple cpu's with shared memory on a common bus |
| JPH09232659A (ja) * | 1996-02-15 | 1997-09-05 | Cymer Inc | レーザーのためのガス放電制御システム |
| JP2003514403A (ja) * | 1999-11-17 | 2003-04-15 | サイマー， インコーポレイテッド | 仮想レーザー・オペレータ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS587892A (ja) * | 1981-07-06 | 1983-01-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 |
| JPS60198881A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Matsushita Electric Works Ltd | レ−ザ加工法 |
-
1988
- 1988-11-24 JP JP63297032A patent/JPH0714099B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS587892A (ja) * | 1981-07-06 | 1983-01-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 照射エネルギを制御できるレ−ザ装置 |
| JPS60198881A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Matsushita Electric Works Ltd | レ−ザ加工法 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07106678A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Komatsu Ltd | レーザ装置の出力制御装置 |
| EP0680121A1 (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-02 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus and a method of controlling the same |
| US5841096A (en) * | 1994-04-27 | 1998-11-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus and method of controlling same |
| US5961857A (en) * | 1994-04-27 | 1999-10-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser machining apparatus with feed forward and feedback control |
| EP0786841A1 (en) * | 1996-01-23 | 1997-07-30 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple cpu's with shared memory on a common bus |
| JPH09214028A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-08-15 | Cymer Inc | 共通バス上に共用メモリを有する複数のｃｐｕを用いたガス放電レーザ制御システム |
| US5764505A (en) * | 1996-01-23 | 1998-06-09 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple CPU's with shared memory on a common bus |
| JPH09232659A (ja) * | 1996-02-15 | 1997-09-05 | Cymer Inc | レーザーのためのガス放電制御システム |
| JP2003514403A (ja) * | 1999-11-17 | 2003-04-15 | サイマー， インコーポレイテッド | 仮想レーザー・オペレータ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0714099B2 (ja) | 1995-02-15 |
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