JPH02146124A - 光学的情報記録媒体の複製方法 - Google Patents
光学的情報記録媒体の複製方法Info
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- JPH02146124A JPH02146124A JP29837988A JP29837988A JPH02146124A JP H02146124 A JPH02146124 A JP H02146124A JP 29837988 A JP29837988 A JP 29837988A JP 29837988 A JP29837988 A JP 29837988A JP H02146124 A JPH02146124 A JP H02146124A
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- optical
- optical recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光学的に情報の記録・再生を行う光学的情報
記録媒体の複製方法に関する。
記録媒体の複製方法に関する。
[従来の技術]
近年、社会の情報化が進み、多種多用の情報を効率良く
取り扱う手段として、光ディスク、光カード、光テープ
等の光学的情報の記録および/または再生を行う光学的
情報記録媒体、及び情報の記録再生装置が数多く提案さ
れ、その一部はすでに実用化されている。上記光学的情
報記録媒体のうち、再生専用の媒体の製造においては、
情報パターンを転写したスタンバを作製し、該スタンバ
を用いた射出成型によってプラスチック成形品を作り、
これに反射膜等を積層して再生専用媒体とする方法か一
般的である。この方法は、大量の再生専用の光学的情報
記録媒体を複製する場合には好適な方法であるが、スタ
ンバの製造コストが高いため、少量ないし中量の複製に
は適さない。
取り扱う手段として、光ディスク、光カード、光テープ
等の光学的情報の記録および/または再生を行う光学的
情報記録媒体、及び情報の記録再生装置が数多く提案さ
れ、その一部はすでに実用化されている。上記光学的情
報記録媒体のうち、再生専用の媒体の製造においては、
情報パターンを転写したスタンバを作製し、該スタンバ
を用いた射出成型によってプラスチック成形品を作り、
これに反射膜等を積層して再生専用媒体とする方法か一
般的である。この方法は、大量の再生専用の光学的情報
記録媒体を複製する場合には好適な方法であるが、スタ
ンバの製造コストが高いため、少量ないし中量の複製に
は適さない。
また、光学的情報記録媒体の少量の複製に関しては、例
えば特開昭62−264462号公報に明らかにされて
いる発明か利用可能である。すなわち、平滑な透明基板
上に形成した光記録層に、集光したレーザー光を用いて
信号を穿孔記録し、記録後、」二記光記録層上に反射層
を形成する工程によって、光記録媒体を製造するもので
ある。この方法によれば、スタンバを用いることもなく
少量の複製媒体を製造することかできる。
えば特開昭62−264462号公報に明らかにされて
いる発明か利用可能である。すなわち、平滑な透明基板
上に形成した光記録層に、集光したレーザー光を用いて
信号を穿孔記録し、記録後、」二記光記録層上に反射層
を形成する工程によって、光記録媒体を製造するもので
ある。この方法によれば、スタンバを用いることもなく
少量の複製媒体を製造することかできる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記従来例では光記録層に穿孔記録した
際に形成される孔(ピット)の端部(ビットエツジ)に
リムか生し、該リムか生じた状態て反射層を設けるため
に、ノイズレベルが高くなるという欠点があった。
際に形成される孔(ピット)の端部(ビットエツジ)に
リムか生し、該リムか生じた状態て反射層を設けるため
に、ノイズレベルが高くなるという欠点があった。
また、集光したレーザー光て信号を順次記録していくた
めに、ごく少量の複製の場合を除いては実用性に乏しい
欠点もあった。
めに、ごく少量の複製の場合を除いては実用性に乏しい
欠点もあった。
本発明は従来技術の上記欠点を解決することを目的とす
るものである。すなわち、本発明の目的は光記録層に信
号パターンを付与していく際に、光記録層の形状か大き
く変化することのない、より望ましくは全く変化しない
光学的情報記録媒体の複製方法を提供することにある。
るものである。すなわち、本発明の目的は光記録層に信
号パターンを付与していく際に、光記録層の形状か大き
く変化することのない、より望ましくは全く変化しない
光学的情報記録媒体の複製方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、従来例のレーザー光で順次信号パ
ターンを形成していく方法よりも生産性が良く、少量か
ら中量までの複製を効率良く行うことのできる光学的情
報記録媒体の複製方法を提供することにある。
ターンを形成していく方法よりも生産性が良く、少量か
ら中量までの複製を効率良く行うことのできる光学的情
報記録媒体の複製方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]および[作用]すなわち
、本発明の第一の発明は、平坦な透明基板上に、エネル
ギー照射ビームによって光学的特性または表面形状か変
化する有機色素系光記録層を形成する工程と、あらかじ
め情報パターンを記録したマスクを上記光記録層上に密
着して設け、該マスク側から露光して上記情報パターン
を上記光記録層に転写する工程と、上記マスクをとり除
いたのちに上記光記録層の露出面上に高反射率物質を付
着させ反射層を形成する工程と、該反射層上に被覆膜を
形成する工程とからなることを特徴とする光学的情報記
録媒体の複製方法である。
、本発明の第一の発明は、平坦な透明基板上に、エネル
ギー照射ビームによって光学的特性または表面形状か変
化する有機色素系光記録層を形成する工程と、あらかじ
め情報パターンを記録したマスクを上記光記録層上に密
着して設け、該マスク側から露光して上記情報パターン
を上記光記録層に転写する工程と、上記マスクをとり除
いたのちに上記光記録層の露出面上に高反射率物質を付
着させ反射層を形成する工程と、該反射層上に被覆膜を
形成する工程とからなることを特徴とする光学的情報記
録媒体の複製方法である。
また、第二の発明は、平坦な透明基板上に、エネルギー
照射ビームによって光学的特性または表面形状が変化す
る有機色素系光記録層を形成する工程と、あらかじめ情
報パターンを記録したマスクを上記光記録層上に密着し
て設け、該マスク側から露光して上記情報パターンを上
記光記録層に転写する工程と、上記マスクをとり除いた
のちに上記光記録層の露出面上に高反射率物質を付着さ
せ反射層を形成する工程と、該反射層を形成した2枚の
植層物を該反射層側を対向させて貼り合わせる工程とか
らなることを特徴とする光学的情報記録媒体の複製方法
である。
照射ビームによって光学的特性または表面形状が変化す
る有機色素系光記録層を形成する工程と、あらかじめ情
報パターンを記録したマスクを上記光記録層上に密着し
て設け、該マスク側から露光して上記情報パターンを上
記光記録層に転写する工程と、上記マスクをとり除いた
のちに上記光記録層の露出面上に高反射率物質を付着さ
せ反射層を形成する工程と、該反射層を形成した2枚の
植層物を該反射層側を対向させて貼り合わせる工程とか
らなることを特徴とする光学的情報記録媒体の複製方法
である。
以下、図面に従って本発明の基本構成をさらに詳細に説
明する。
明する。
まず、本発明のうち第一の発明に従って説明する。第1
図(a)〜(d)は本発明の光学的情報記録媒体の複製
方法の第一の方法の基幹部分を示す工程図である。
図(a)〜(d)は本発明の光学的情報記録媒体の複製
方法の第一の方法の基幹部分を示す工程図である。
本方法では、まず、平滑な表面を有する透明基板l上に
、エネルギー照射ビームによって光学的特性または表面
形状か変化する有機色素系の光記録層2を形成し、その
後、あらかじめ情報パターンを形成しであるマスク5を
、その上に密着させ、エネルギービーム6を照射して、
マスク5のパターンを光記録層2に転写する(第1図(
a)参照)。
、エネルギー照射ビームによって光学的特性または表面
形状か変化する有機色素系の光記録層2を形成し、その
後、あらかじめ情報パターンを形成しであるマスク5を
、その上に密着させ、エネルギービーム6を照射して、
マスク5のパターンを光記録層2に転写する(第1図(
a)参照)。
この様にして転写することによって、光記録層2内に、
露光部2aおよび未露光部2bからなる情報パターンが
形成される(第1図(b)参照)。
露光部2aおよび未露光部2bからなる情報パターンが
形成される(第1図(b)参照)。
次いて、マスクをとり除いたのち、この情報パターンが
記録された光記録層2の上に高反射率物質を付着させて
反射層3を形成する(第1図(c)参照)。さらに、前
記反射層3の上に被′rI!膜4を形成することにより
情報パターンを複製した光学的情報記録媒体を得ること
ができる(第1図(d)参照)。
記録された光記録層2の上に高反射率物質を付着させて
反射層3を形成する(第1図(c)参照)。さらに、前
記反射層3の上に被′rI!膜4を形成することにより
情報パターンを複製した光学的情報記録媒体を得ること
ができる(第1図(d)参照)。
次に1本発明の第二の発明について説明する。
第2図(a)〜(d)は本発明の光学的情報記録媒体の
複製方法の第二の方法の基幹部分を示す工程図である。
複製方法の第二の方法の基幹部分を示す工程図である。
本方法では、前記第一の方法を示す第1図(a)〜(C
)と同様の方法により、透明基板1上に光記録層2を形
成し、次いてあらかじめ情報パターンを形成しであるマ
スク5を密着させ、エネルギービーム6を照射して、マ
スク5のパターンを光記録層2に転写する(第2図(a
)参照)。この様にして転写することによって、光記録
層2内に、露光部2aおよび未露光部2bからなる情報
パターンか形成される(第2図(b)参照)。次いで、
マスクを除去し、前記情報パターンか記録された光記録
層2の上に高反射率物質を付着させて反射層3を形成す
る(第2図(C)参照)。
)と同様の方法により、透明基板1上に光記録層2を形
成し、次いてあらかじめ情報パターンを形成しであるマ
スク5を密着させ、エネルギービーム6を照射して、マ
スク5のパターンを光記録層2に転写する(第2図(a
)参照)。この様にして転写することによって、光記録
層2内に、露光部2aおよび未露光部2bからなる情報
パターンか形成される(第2図(b)参照)。次いで、
マスクを除去し、前記情報パターンか記録された光記録
層2の上に高反射率物質を付着させて反射層3を形成す
る(第2図(C)参照)。
該反射層3が形成された2枚の積層物を該反射層側を対
向させて接着剤等により貼り合わせることにより両面に
情報パターンを複製した光学的情報記録媒体を得ること
がてきる(第2図(d)参照)。貼り合わせは、第2図
(d)の様に密着させて行っても良く、あるいはスペー
サ等により若干の中空部を設けて行っても良い。
向させて接着剤等により貼り合わせることにより両面に
情報パターンを複製した光学的情報記録媒体を得ること
がてきる(第2図(d)参照)。貼り合わせは、第2図
(d)の様に密着させて行っても良く、あるいはスペー
サ等により若干の中空部を設けて行っても良い。
上記のいずれの方法においても、マスク5には情報パタ
ーンとともにトラッキングパターンが記録されているも
のを使用してもよい。この場合は、前記エネルギービー
ムの照射によって上記情報パターンとトラッキングパタ
ーンの両方を光記録層2に転写することかてきる。
ーンとともにトラッキングパターンが記録されているも
のを使用してもよい。この場合は、前記エネルギービー
ムの照射によって上記情報パターンとトラッキングパタ
ーンの両方を光記録層2に転写することかてきる。
透明基板の材料としては、光学的な記録・再生において
不都合の少ないものが好ましく、使用する光に対して透
過率の高いものであればよい。例えばガラス等の無機物
、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ビニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド
系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポ
リアミド樹脂、セルロース誘導体等が挙げられる。
不都合の少ないものが好ましく、使用する光に対して透
過率の高いものであればよい。例えばガラス等の無機物
、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ビニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド
系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポ
リアミド樹脂、セルロース誘導体等が挙げられる。
透明基板には、光記録層との接着性向上、光学的特性(
例えば透過率、反射率等)の向上、透明基板からのガス
放出に対するガスバリア性の向上、光記録層の保存安定
性や再生光による劣化防止のための伝熱性の向上などの
目的で、プライマー処理や下引き層形成またはコロナ処
理、UV、X線処理、プラズマ処理、イオン注入等を施
してもよい。
例えば透過率、反射率等)の向上、透明基板からのガス
放出に対するガスバリア性の向上、光記録層の保存安定
性や再生光による劣化防止のための伝熱性の向上などの
目的で、プライマー処理や下引き層形成またはコロナ処
理、UV、X線処理、プラズマ処理、イオン注入等を施
してもよい。
光記録層は、使用する光の波長付近、例えば再生光のエ
ネルギービームの波長が650nm以上、特に700〜
900nmである場合に、露光部における反射率と未露
光部のそれとの差が大きいものが好ましく、また、エネ
ルギービームの照射によって反射率の変化が生ずるのに
必要とされるエネルギーか小さいほど好ましい。更に、
再生光のエネルギービームによって、露光部および未露
光部の反射率が変化し難いものが好ましい。
ネルギービームの波長が650nm以上、特に700〜
900nmである場合に、露光部における反射率と未露
光部のそれとの差が大きいものが好ましく、また、エネ
ルギービームの照射によって反射率の変化が生ずるのに
必要とされるエネルギーか小さいほど好ましい。更に、
再生光のエネルギービームによって、露光部および未露
光部の反射率が変化し難いものが好ましい。
光記録層2に情報パターン、トラッキングパターンを形
成するためのエネルギービーム6としては、該エネルギ
ービームが上記光記録層2に吸収され、該光記録層の光
学特性変化や表面形状変化を誘起するものを上記光記録
層の種類に応して選べばよく、たとえば、Xeランプや
水銀灯からの可視光線および紫外線、X線J子線、イオ
ンビーム等の粒子線あるいは、ガスレーザ、色素レーザ
、半導体レーザ、固体レーザ等のレーザ光などが使用て
きる。
成するためのエネルギービーム6としては、該エネルギ
ービームが上記光記録層2に吸収され、該光記録層の光
学特性変化や表面形状変化を誘起するものを上記光記録
層の種類に応して選べばよく、たとえば、Xeランプや
水銀灯からの可視光線および紫外線、X線J子線、イオ
ンビーム等の粒子線あるいは、ガスレーザ、色素レーザ
、半導体レーザ、固体レーザ等のレーザ光などが使用て
きる。
光記録層の材料としては、エネルギー照射ビームによっ
て光学的特性または表面形状が変化する有機色素が用い
られ、例えばアントラキノン誘導体(特にインダンスレ
ン骨格を有するもの)、ジオキサジン化合物およびその
誘導体、トリフエツジチアジン化合物、フェナンスレン
誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、ピリリ
ウム系化合物、キサンチン系化合物、トリフェニルメタ
ン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン
類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色素、ナ
フトラクタム系色素、アズレン類、スクアリリウム誘導
体、硫化染料および金属のジチオラート錯体等を挙げる
ことかてきる。
て光学的特性または表面形状が変化する有機色素が用い
られ、例えばアントラキノン誘導体(特にインダンスレ
ン骨格を有するもの)、ジオキサジン化合物およびその
誘導体、トリフエツジチアジン化合物、フェナンスレン
誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、ピリリ
ウム系化合物、キサンチン系化合物、トリフェニルメタ
ン系化合物、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン
類、アジン類、インジゴイド類、ポリメチン系色素、ナ
フトラクタム系色素、アズレン類、スクアリリウム誘導
体、硫化染料および金属のジチオラート錯体等を挙げる
ことかてきる。
あるいはまた、これらの色素の励起種に対して安定化剤
となるものを、これら色素に混合した色素組成物も利用
できる。例えば、安定化剤は、以下に挙げるもののうち
より色素と製造に用いる溶媒との相溶性等を考慮して選
択すればよい。安定化剤の添加量は色素に対して数重量
%〜50重量%が可能である。ただし、余り少ないと安
定化剤としての効果が余り得られず、多いとヒートモー
ド記録材料の絶対量の低下から感度の減少が観測される
ので、10重量%〜30重量%か好ましい。20重量%
前後か特に好ましい。
となるものを、これら色素に混合した色素組成物も利用
できる。例えば、安定化剤は、以下に挙げるもののうち
より色素と製造に用いる溶媒との相溶性等を考慮して選
択すればよい。安定化剤の添加量は色素に対して数重量
%〜50重量%が可能である。ただし、余り少ないと安
定化剤としての効果が余り得られず、多いとヒートモー
ド記録材料の絶対量の低下から感度の減少が観測される
ので、10重量%〜30重量%か好ましい。20重量%
前後か特に好ましい。
かかる安定化剤としては、各種金属キレート化合物、特
にZn、 Cu、 Ni、Cr、 Go、Mo、 Pd
、 lrを中心金属とする多座配位子、例えば、N4、
N2O2、N2S、、S4.0□S2.04等の凹座配
位子、またはN20NO2、NS* 、 03、NO3
等の王座配位子と他の配位子(例えば水、アンモニア、
ハロゲン、)オスフィン、アミン、アルミン、オレフィ
ン等)あるいは2つの二座配位子(N2、N010□、
82等)の四配位型の他、ビスシクロペンタジェニル配
位子、シクロペンタジェニルトロピリニウム配位子ある
いは上記の組み合わせ等から成るものが挙げられる。
にZn、 Cu、 Ni、Cr、 Go、Mo、 Pd
、 lrを中心金属とする多座配位子、例えば、N4、
N2O2、N2S、、S4.0□S2.04等の凹座配
位子、またはN20NO2、NS* 、 03、NO3
等の王座配位子と他の配位子(例えば水、アンモニア、
ハロゲン、)オスフィン、アミン、アルミン、オレフィ
ン等)あるいは2つの二座配位子(N2、N010□、
82等)の四配位型の他、ビスシクロペンタジェニル配
位子、シクロペンタジェニルトロピリニウム配位子ある
いは上記の組み合わせ等から成るものが挙げられる。
その他、各種の芳香族アミン類やジアミン類、含窒素芳
香族、およびそのオニウム塩、例えばアミニウム塩、ジ
イモニウム塩、ピリジウム塩、イミダゾリウム塩、モノ
リニウム塩等が挙げられる。また、更に含酸素芳香族の
塩であるピリリウム塩等てもよい。また、これらの安定
化剤を複数組み合わせて使用することも可能で、色素組
成物の塗布性、塗布被膜の安定性、光学的特性(反射率
や透過率)、記録感度等を考慮して適宜組成比率を変え
ることかできる。
香族、およびそのオニウム塩、例えばアミニウム塩、ジ
イモニウム塩、ピリジウム塩、イミダゾリウム塩、モノ
リニウム塩等が挙げられる。また、更に含酸素芳香族の
塩であるピリリウム塩等てもよい。また、これらの安定
化剤を複数組み合わせて使用することも可能で、色素組
成物の塗布性、塗布被膜の安定性、光学的特性(反射率
や透過率)、記録感度等を考慮して適宜組成比率を変え
ることかできる。
上記した有機色素または色素組成物から成る記録層は、
公知の塗布法により形成できる。その方法として、例え
ば、ディッピング、スプレーコート、スピナーコート、
バーコード、ブレードコート、カーテンコート、グラビ
アコート等の方法が挙げられる。また、染料によっては
蒸着による膜形成も可能である。
公知の塗布法により形成できる。その方法として、例え
ば、ディッピング、スプレーコート、スピナーコート、
バーコード、ブレードコート、カーテンコート、グラビ
アコート等の方法が挙げられる。また、染料によっては
蒸着による膜形成も可能である。
光記録層の厚さは概ね500〜2000人程度であり、
好ましくは1000人前後である。特に、記録感度の点
からは厚さは薄く、再生時のS/N比の点からは厚めの
方が望ましく、したかって色素の種類により、その最適
膜Hは異なる。
好ましくは1000人前後である。特に、記録感度の点
からは厚さは薄く、再生時のS/N比の点からは厚めの
方が望ましく、したかって色素の種類により、その最適
膜Hは異なる。
本発明において、反射層はアルミニウム、金等の金属蒸
着膜か用いられる。
着膜か用いられる。
また、第一の方法に関る被覆層は、主として反射層を保
護するために設けられる。
護するために設けられる。
一般には、紫外線硬化型樹脂を前記公知の塗布方法によ
って塗布し、紫外線照射、乾燥等の後処理工程によって
形成するか、他の方法、材料を用いても良い。例えば、
2液温合タイプないしl液タイプの室温硬化型シリコー
ン樹脂などは、取り扱いが簡便で好適である。あるいは
、ごく簡便には、樹脂フィルムを紫外線硬化タイツ、シ
リコーンタイプ等の接着剤によって接着し、被覆層とす
ることも可能である。
って塗布し、紫外線照射、乾燥等の後処理工程によって
形成するか、他の方法、材料を用いても良い。例えば、
2液温合タイプないしl液タイプの室温硬化型シリコー
ン樹脂などは、取り扱いが簡便で好適である。あるいは
、ごく簡便には、樹脂フィルムを紫外線硬化タイツ、シ
リコーンタイプ等の接着剤によって接着し、被覆層とす
ることも可能である。
上記紫外線硬化型樹脂にはラジカル重合タイプとイオン
重合タイプがある。金属蒸着反射層の上層に設ける場合
には、汎用のラジカル重合タイプを用いれば十分である
か、イオン重合タイプを用いても何らさしつかえはない
。
重合タイプがある。金属蒸着反射層の上層に設ける場合
には、汎用のラジカル重合タイプを用いれば十分である
か、イオン重合タイプを用いても何らさしつかえはない
。
一方、第二の方法に関る貼り合わせ方法に用いる接着剤
等としては汎用の接着剤か広く利用可能である。場合に
よっては、粘着剤(両面粘着シート)ても十分用をなす
。あるいは、他の公知の貼り合わせ方法(a音波融着、
ホットプレス等)を用いることもてきる。
等としては汎用の接着剤か広く利用可能である。場合に
よっては、粘着剤(両面粘着シート)ても十分用をなす
。あるいは、他の公知の貼り合わせ方法(a音波融着、
ホットプレス等)を用いることもてきる。
[実施例]
以下1本発明の実施例について説明するか、本発明はこ
れに限定されるものでない。
れに限定されるものでない。
実施例1
インジェクション成形法により、外径130■、内径1
551m、厚さ15mmのアクリルディスク基板を成形
した。その上に下記化学式(I)で示される色素の1.
6重量%ジクロロエタン溶液をスピンコード法により塗
布し、厚さ900人の光記録層を形成した。
551m、厚さ15mmのアクリルディスク基板を成形
した。その上に下記化学式(I)で示される色素の1.
6重量%ジクロロエタン溶液をスピンコード法により塗
布し、厚さ900人の光記録層を形成した。
この光記録層の上に、CD信号パターンを描いたフォト
マスクを重ね、2.IWの紫外光を45抄間照射してマ
スクパターンを光記録層に転写した。
マスクを重ね、2.IWの紫外光を45抄間照射してマ
スクパターンを光記録層に転写した。
このパターン転写された光記録層に、反射層としてアル
ミニウムを25n鳳の厚みに蒸着し、さらにその上から
スピンコードにより紫外線硬化型樹脂(商品名uvto
oo、ソニーケミカル■製)を50g+iの厚みに塗布
し、硬化して被覆膜を形成して光ディスクを得た。
ミニウムを25n鳳の厚みに蒸着し、さらにその上から
スピンコードにより紫外線硬化型樹脂(商品名uvto
oo、ソニーケミカル■製)を50g+iの厚みに塗布
し、硬化して被覆膜を形成して光ディスクを得た。
この光ディスクをCDプレーヤーで再生したところ、原
信号パターンが再生された。
信号パターンが再生された。
実施例2
透明樹脂基板(外径130I11、内径15朧厘、厚さ
15+ss、紫外線吸収剤入りポリカーボネート板、商
品名パンライト211、今人化成■製)上にコロイダル
シリカ(商品名コルコー)−103X、コルコート■製
)をスピンコード法により塗布して、50℃、3時間乾
燥し、下引き層として厚さ500人のシリカ薄膜を形成
した。
15+ss、紫外線吸収剤入りポリカーボネート板、商
品名パンライト211、今人化成■製)上にコロイダル
シリカ(商品名コルコー)−103X、コルコート■製
)をスピンコード法により塗布して、50℃、3時間乾
燥し、下引き層として厚さ500人のシリカ薄膜を形成
した。
前記下引き層の上に、下記化学式(n)て示される色素
をジクロロエタンに6重量%の濃度て溶解した溶液をス
ピンコード法により塗布し、厚さ700人の光記録層を
形成した。
をジクロロエタンに6重量%の濃度て溶解した溶液をス
ピンコード法により塗布し、厚さ700人の光記録層を
形成した。
中心から半径SowIlよりも内側にCD信号パターン
を描き、それよりも外側に幅 1.Dμl、トラックピ
ッチ1.6μmのスパイラルパターンを描いたフォトマ
スクを重ね、 2.1 Wの紫外光を1分間照射してC
D信号パターンとトラックパターンを光記録層に転写し
た。
を描き、それよりも外側に幅 1.Dμl、トラックピ
ッチ1.6μmのスパイラルパターンを描いたフォトマ
スクを重ね、 2.1 Wの紫外光を1分間照射してC
D信号パターンとトラックパターンを光記録層に転写し
た。
[(EtJ!(:=C1l−@CH−CH=C磁))N
Et2) 2] Cj)04゜(IT) このパターン転写された光記録層に、反射層としてアル
ミニウムを25nIIの厚みに蒸着し、さらにその上か
らスピンコードにより紫外線硬化型樹脂(商品名UV1
00O、ソニーケミカル輛製)を50終1の厚みに塗布
し、硬化して被覆膜を形成して光ディスクを得た。
Et2) 2] Cj)04゜(IT) このパターン転写された光記録層に、反射層としてアル
ミニウムを25nIIの厚みに蒸着し、さらにその上か
らスピンコードにより紫外線硬化型樹脂(商品名UV1
00O、ソニーケミカル輛製)を50終1の厚みに塗布
し、硬化して被覆膜を形成して光ディスクを得た。
この光ディスクをCDプレーヤーで再生したところ、原
信号パターンが再生された。
信号パターンが再生された。
また、この光ディスクに8:lOnmの半導体レーザー
で光パワー8mW、記録周波数2MHz、回転数180
0rpmて記録し、それを60℃、90%旧1の条件下
で1000時間放貯して保存加速試験を行ない、C/N
値を測定したところ、その値は50dBてあり1変化し
ていなかった。またソリ等の変化もなかった。
で光パワー8mW、記録周波数2MHz、回転数180
0rpmて記録し、それを60℃、90%旧1の条件下
で1000時間放貯して保存加速試験を行ない、C/N
値を測定したところ、その値は50dBてあり1変化し
ていなかった。またソリ等の変化もなかった。
実施例3
実施例2と同様にして透明樹脂基板上に光記録層を形成
した後、この光記録層の上から幅1.0μ厘、トラック
ピッチ1.6 g+iのスパイラルパターンを描いたフ
ォトマスクを重ね、2.1 Wの紫外光を1分間照射し
、マスクパターンを光記録層に転写した。
した後、この光記録層の上から幅1.0μ厘、トラック
ピッチ1.6 g+iのスパイラルパターンを描いたフ
ォトマスクを重ね、2.1 Wの紫外光を1分間照射し
、マスクパターンを光記録層に転写した。
このパターン転写した光記録層に25nm厚のアルミニ
ウム蒸着を施して積層物を得た。次いて、得られた2枚
の積層物をアルミニウム露出面同士を接着して両面形光
ディスクを得た。
ウム蒸着を施して積層物を得た。次いて、得られた2枚
の積層物をアルミニウム露出面同士を接着して両面形光
ディスクを得た。
この光ディスクに830nIlの半導体レーザーて光パ
ワー〇+*W、記録周波数2MHz、回転数1800r
pmで記録し、それを60℃、90%RHの条件下で1
000時間放aして保存加速試験を行ない、C/N値を
測定したところ、その値は初期51dll、1000時
間後50dBであった。またソリ等の変化もなかった。
ワー〇+*W、記録周波数2MHz、回転数1800r
pmで記録し、それを60℃、90%RHの条件下で1
000時間放aして保存加速試験を行ない、C/N値を
測定したところ、その値は初期51dll、1000時
間後50dBであった。またソリ等の変化もなかった。
[発明の効果]
以上詳細に説明した様に、本発明の光学的情報記録媒体
の複製方法によれば、以下の様な効果を得ることかでき
る。
の複製方法によれば、以下の様な効果を得ることかでき
る。
■光学的情報パターンの転写に要する時間か短く、複製
の生産効率か改善されるため、少量から中量の複製にも
対処できる。
の生産効率か改善されるため、少量から中量の複製にも
対処できる。
■高価なスタンバを用いる必要かないため光学的情報記
録媒体のコストが少量複製でも大幅に上昇することかな
い。
録媒体のコストが少量複製でも大幅に上昇することかな
い。
■同一の光ディスクの上に、再生専用部分と記録再生部
分とを設けることかでき、両方の光記録システムに互換
性を持って使用できる光学的情報記録媒体を供給するこ
とができる。
分とを設けることかでき、両方の光記録システムに互換
性を持って使用できる光学的情報記録媒体を供給するこ
とができる。
第1図(a)〜(d)は本発明の光学的情報記録媒体の
複製方法の第一の方法の基幹部分を示す工程図および第
2図(a)〜(d)は本発明の複製方法の第二の方法の
基幹部分を示す工程図である。 1.1′・・・透明基板 2,2′・・・光記録層2
a・・・露光部 3.3′・・・反射層 5・・・マスク
複製方法の第一の方法の基幹部分を示す工程図および第
2図(a)〜(d)は本発明の複製方法の第二の方法の
基幹部分を示す工程図である。 1.1′・・・透明基板 2,2′・・・光記録層2
a・・・露光部 3.3′・・・反射層 5・・・マスク
Claims (4)
- (1)平坦な透明基板上に、エネルギー照射ビームによ
って光学的特性または表面形状が変化する有機色素系光
記録層を形成する工程と、あらかじめ情報パターンを記
録したマスクを上記光記録層上に密着して設け、該マス
ク側から露光して上記情報パターンを上記光記録層に転
写する工程と、上記マスクをとり除いたのちに上記光記
録層の露出面上に高反射率物質を付着させ反射層を形成
する工程と、該反射層上に被覆膜を形成する工程とから
なることを特徴とする光学的情報記録媒体の複製方法。 - (2)前記マスクには情報パターンとともにトラッキン
グパターンが記録されており、前記露光によって上記情
報パターンとトラッキングパターンの両方を前記光記録
層に転写する請求項1記載の光学的情報記録媒体の複製
方法。 - (3)平坦な透明基板上に、エネルギー照射ビームによ
って光学的特性または表面形状が変化する有機色素系光
記録層を形成する工程と、あらかじめ情報パターンを記
録したマスクを上記光記録層上に密着して設け、該マス
ク側から露光して上記情報パターンを上記光記録層に転
写する工程と、上記マスクをとり除いたのちに上記光記
録層の露出面上に高反射率物質を付着させ反射層を形成
する工程と、該反射層を形成した2枚の積層物を該反射
層側を対向させて貼り合わせる工程とからなることを特
徴とする光学的情報記録媒体の複製方法。 - (4)前記マスクには情報パターンとともにトラッキン
グパターンが記録されており、前記露光によって上記情
報パターンとトラッキングパターンの両方を前記光記録
層に転写する請求項3記載の光学的情報記録媒体の複製
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29837988A JPH02146124A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 光学的情報記録媒体の複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29837988A JPH02146124A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 光学的情報記録媒体の複製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146124A true JPH02146124A (ja) | 1990-06-05 |
Family
ID=17858934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29837988A Pending JPH02146124A (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 光学的情報記録媒体の複製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02146124A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07311984A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-28 | Nec Corp | 相変化光ディスク記録媒体の製造方法 |
| KR100667774B1 (ko) * | 2004-11-16 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 재생 전용 정보 저장매체 및 그 정보 저장매체의 제조 방법 |
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
-
1988
- 1988-11-28 JP JP29837988A patent/JPH02146124A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07311984A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-28 | Nec Corp | 相変化光ディスク記録媒体の製造方法 |
| KR100667774B1 (ko) * | 2004-11-16 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 재생 전용 정보 저장매체 및 그 정보 저장매체의 제조 방법 |
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
| US8295141B2 (en) | 2007-01-12 | 2012-10-23 | Ricoh Company, Ltd. | Pattern and method for forming the same |
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