JPH02183442A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の書き込みおよび／または読み取りが可ｆ駈な情報
記録媒体とその製造方法に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属；またはシアニン系
、金ＪｊＥ錯体系、キノン系等の色素からなる記録層と
を有する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には
通常、３ｉ板の平面性の改善、記録層との接着力の向上
あるいは光ディスクの感度の向上などの点から、高分子
物質からなる中間層が設けられることが多い。

また、情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録
層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に
記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置
し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサと
リング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造が提案されている。このような保護層が
設けられた光ディスクやエアーサンドインチ構造を有す
る光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがな
く、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー光で行
なわれるために、記録層が物理的または化学的な損傷を
受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記
録、再生の障害となることがないとの利点がある。

そして、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取り
は通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた。

レーザビームを光ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透
過光を検出することにより情報が再生される。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して、上記のように金属類や色素等が知られている０色
素を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて
高感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有
する他に、記録層を塗布法により簡単に形成することが
できるという製造上の大きな利点を有している。しかし
ながら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低いと
の欠点があるめ１反射率を向上させる目的で色素記録層
の上に金属の反射層を設けられることが多い、そして、
さらにこれらの層を保護するため上記反射層上には、保
護層が設けられる。保護層は、他の保護方法であるディ
スクの構造をサンドイッチ構造する方法に比べて、製造
が簡便であり且つ製造コストがかからない等の点で有利
である。

色素からなる記録層を形成する方法は、上記したように
塗布乾燥することにより行なわれる。塗布方法は１円盤
状樹脂基板上に均一な薄膜を形成する必要から、一般に
スピンコーターを用いテ塗布される０色素層を形成する
ための色素層形成用塗布液を上記基板上に塗布した場合
１通常基板表面のほぼ全面に塗布される。スピンコータ
ーは、その特性上基板の内周側の塗布開始位置は、ある
程度限定した位置から塗布できるが、外周側の塗布範囲
をＭａｌすることはできない、しかも、内周側の塗布開
始位置も、その位置より内側に塗布されないとはいえず
１色素層形成用塗布液は基板上にほぼ全面に塗布された
状態になる。さらにこの上には金属の反射層が設けられ
る０反射層は、主に反射率の向上のために設けられ、基
板の外周縁部より内側、すなわち色素記録層より内側に
設けられるのが一般的である。そして、反射層の上には
、記録層および反射層を保護するため、例えばＵＶ硬化
性樹脂などの保護層が塗布により設けられる。

このような構造の光ディスクは、基板の外周側で、保護
層が直接色素層上に形成される。この場合、保護層形成
用塗布液が色素層上に塗布された時に、該塗布液により
色素層を侵すことから、得られる光ディスクは外観不良
、保護層の密着性低下さらには記録特性の劣化をもたら
す。

また、上記の反射層を記録層より内側でなく色素記録層
の全面に覆った場合、特にこの上に設けられる上記保護
層と反射層との密着性が良好でないとの問題がある。

従って、、Ｘ板上に、色素記録層、反射層そして保Ｍ層
がこの順で設けられた情報記録媒体は充分に優れた特性
を有するとは言えない。

［発明の目的］ 本発明は、樹脂基板上に色素記録層、反射層および保ｗ
Ｉ層が、この順で設けられた、外観が良好で、そして向
上した耐久性および優れた記録再生特性を有する情報記
録媒体を提供することを目的とする。

また本発明は、上記情報記録媒体を簡易に製造する方法
を提供することを目的とする。

［発明の要旨１ 本発明は、中央に孔部を備えた円盤樹脂基板上の該孔部
の周縁の外側および外周縁の内側にそれぞれ設けられた
内周側非記録領域および外周側非記録領域以外の領域に
、レーザーにより情報の読み取りおよび／または書き込
みが可能な色素からなる記録層が設けられ、 該記録層上、および該記録層を越えて内周側非記録領域
の外周部分および外周側非記録領域の内周部分の基板上
に、金属からなる反射層が設けられ。

さらに、該反射層Ｅ、および該反射層を越えて内周側非
記録領域および外周側非記録領域の基板上に、保護層が
設けられている、 ことからなる情報記録媒体、および： 上記情報記録媒体を有利に得ることができる。

中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上に、レーザーによ
り情報の読み取りおよび／または書き込みが可能な色素
からなる記録層を塗布により設けた後、 該孔部の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある
該色素塗布層を除去することにより、該孔部の周縁部の
外側および該外周縁部の内側にそれぞれ基板表面が露出
した内周側非記録領域および外周側非記録領域を設け、 次に該記録層上、および該記録層を越えて内周側非記録
領域の外周側および外周側非記録領域の内周側の基板上
に、金属からなる反射層を形成し、 さらに、該反射層上、および該反射層を越えて内周側非
記録領域および外周側非記録領域の基板上に、保護層を
設けること、 により情報記録媒体を製造することからなる情報記録媒
体の製造方法にある。

上記本発明の情報記録媒体および情報記録媒体の製造方
法の好ましい態様は以下のとおりである。

ｌ）上記色素が、シアニン系色素、アズレニウム系色素
、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素
およびスクワリリウム系色素から選ばれる少なくとも一
種の色素であることを特徴とする情報記録媒体。

２）上記プラスチ−２り基板の材料が、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンまたはセルキャストポリメチルメタ
クリレートであることを特徴とする上記情報記録媒体。

３）上記反射層の材料が、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ。

Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｒ、ＴｉおよびＡｎからなる群より選ば
れる少なくとも一種の金属よりなることを上記情報記録
媒体。

４）上記保護層の材料が、ＵＶ硬化性樹脂からなること
を特徴とする上記情報記録媒体。

上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下のとおりである。

ｌ）上記塗布が、スピンコーターを用い’ｔ−行なわれ
ることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法・ ２）上記保護層が、塗布により設けられることを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体の製造方法は、上記のように内周
側および外周側の領域にある色素を除去して色素層の下
側にある基板表面を露出させ、続く反射層および保ＷＩ
Ｍな、各層の周囲が直接基板と接するように形成するこ
とにより行なわれる。

このようにして得られた情報記録媒体は１色素記録層と
反射層との密着性、および反射層と保護層との密着性が
顕著に向上している。これは反射層が内周側および外周
側にて基板と直接接しているためこの部分で強力な接着
力を得ることができ。

また保ＷＩＭも内周側および外周側にて基板と直接接し
ているためこの部分で強力な接着力を得ることができる
。このように１色素記録層と反射層および反射層と保護
層との密着性が顕著、に向上しているので情報記録媒体
としての耐久性が大幅に向上している。さらに保護層が
直接色素記録層に接しないため、保護層の塗布時に色素
記録層を侵すことがないことから、得られる情報記録媒
体の外観が良好となり、また記録特性についてもＣ／Ｎ
等が向上したものとなる。従って、本発明の情報記録媒
体は、外観が良好で、そして向上した耐久性および優れ
た記録再生特性を有するものであるということができる
。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に、色素記録層１反射
層そして保護層がこの順で設けられた基本構成を有する
。このような構成は、色素記録層が製造が簡便であり且
つ高感度である、反射層は色素層の欠点である低反射率
を向上させる。そして保護層が上記二層を保護し光ディ
スクの耐久性を向上させる。というように三層のそれぞ
れの役割を分担するという考え方に立脚している。

上記構成を有する情報記録媒体を製造するには、まず前
記したように色素からなる記録層は。

一般にスピンコーターを用いて塗布される。スピンコー
ターは、その特性上基板の内周側の塗布開始位置は、あ
る程度限定した位置から塗布できるが、外周側の塗布範
囲を制御することはできない、しかも内周側の塗布開始
位置も、これより内側に塗布されないとは、いえず１色
素層形成用塗布液は基板上にほぼ全面塗布された状態に
なる。この上に設けられる反射層は１色素記録層より内
側に設けられるのが一般的である。そして１反射層の上
には、例えばＵＶ硬化性樹脂などの保護層が塗布により
設けられる。従って、保護層が基板の外周側で直接色素
層上に形成される６本発明者等の検討によると、保護層
形成用塗布液が色素層上に塗布された場合、該塗布液に
より色素層を侵し易いとの問題があり、これにより得ら
れる光ディスクは外観不良、保護層の密着性低下さらに
は記録特性の劣化をもたらすことが明らかとなった。

また、上記の反射層を記録層より内側でなく色素記録層
の全面に覆った場合は、この上に設けられる上記保護層
と反射層との密着性が良好でないとの問題があることも
判明した。

本発明者等は、上記保護層の密着性を向上させるために
５種々検討を重ねた結果、基板のほぼ全面に塗布された
色素記録層を、内周側および外周側の領域にある色素を
除去して色素層の下側にある基板表面を露出させ、続く
反射層および保護層を、各層の周囲がｉｔｔ接基板基板
するように形成することにより、外観が良好で、保：ａ
層の密着性および記録特性の向上した情報記録媒体を得
ることができることが判明した。

すなわち１本発明の情報記録媒体の製造方法は１例えば
以下のように行なわれる。添付第１図〜第４図を参黒し
ながら詳しく説明する。

第１図は、中央に孔部ｌＯを備えた円盤状樹脂基板１１
．その上に塗布により設けられた色素からなる記録層１
２および該孔部の周縁部近傍に部分的に塗布されない領
域１３からなる部分断面図である０円盤状樹脂基板１１
上に、色素記録層形成用塗布液をスピンコードを用いて
塗布し１色素からなる記録層１２を形成する。塗布され
ない領域１３は、塗布時の条件によりその面積が異なり
、一般に後の保護層等の密着性を向上できるほど充分な
面積を確保できないため１次の工程で除去される。塗布
方法をスピンコード以外のロールコータ−やディッピン
グなどで行なった場合は、この塗布されない領域１３は
通常存在しない。

第２図は、中央に孔部２０を備えた円盤状４Ｍ＠基板２
１、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層
２２、該孔部２０の周縁部に設けられた内周側非記録領
域２３および該外周縁部の内側に設けられた内周側非記
録領域２４からなる部分断面図である。第１図の該孔部
の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある該色素
塗布層１２を除去することにより基板表面を露出させ、
第２図の孔部２０の周縁部の外側および該外周縁部の内
側にそれぞれ表面が基板の内周側非記録領域２３および
外周側非記録領域２４を設ける。上記色素塗布層の除去
方法は、色素塗布層乾燥面に拭さ取る方法、乾燥前又は
後に溶剤を直線状に噴射することにより、あるいは色素
塗布層乾燥後レーザーに・より燃焼させて除去する方法
を挙げることができる。

第３図は、中央に孔部３０を備えた円盤状樹脂基板３１
．基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層２
２、その上に設けられた反射層３５、鎖孔ｆｉＢ３０の
周縁部に設けられた゛内周側非記録領域３３および該外
周縁部の内側に設けられた外周側非記録領域３４からな
る部分断面図である。第２図の色素からなる記録層２２
上に、蒸着等により金属からなる反射Ｒ３３５を形成す
る。その際、反射ｆｉ３５は第２図の周縁部に設けられ
た内周側非記録領域２３および該外周縁部の内側に設け
られた内周側非記録領域２４の一部にまで設けられる。

このため、第３図の内周側非記録領域３３および外周側
非記録領域３４は第２図の該領域２３，２４より狭くな
っている。これにより。

色素記録層４２は反射層４５によって完全に覆われた状
態となり、反射層３５の密着性が向上する。上記反射層
３５の形成は、内周側非記録領域３３および外周側非記
録領域３４を確保するため１通常この部分をマスクして
蒸着等により行なわれる。

第４図は、中央に孔部４０を備えた円盤状樹脂基板４１
．基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層４
２、その上に設けられた反射層４５、さらに反射層上に
設けられた保１層４６からなる部分断面図である。保護
層４６は、反射層４５上および第３図の内周側非記録領
域３３および外周側非記録領域３４全面に設けられる。

従って、色素記録層４２および反射層４５は保、４＃５
５によって完全に覆われた状態になる。

このようにして製造された情報記録媒体は、内周側およ
び外周側の領域にある色素を除去して色素層の下側にあ
る基板表面を露出させ、続く反射層および保護層を、各
層の周囲が直接基板と接するように形成されている。こ
のため、色素記録層と反射層との密着性、および反射層
と保護層との密着性が顕著に向上している。これは反射
層が内周側および外周側にて基板と直接接しているため
この部分で強力な接着力を得ることができ、また保：ａ
暦も内周側および外周側にて基板と直接接しているため
この部分で強力な接着力を得ることができる。このよう
に、色素記録層と反射層および反射層と保護層との密着
性が顕著に向上しているので情報記録媒体としての耐久
性が大幅に向上している。さらに保！ＩＭが直接色素記
録層に接しないため、保護層の塗布時に色素記録層を侵
すことがないことから、得られる情報記録媒体の外観が
良好となり、また記録特性についてもＣ／Ｎ等が向上し
たものとなる。従って１本発明の情報記録媒体は、外観
が良好で、そして向上した耐久性および優れた記録再生
特性を有するものであるということができる。

本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述べる
ような材料を用いて行なうことができる。

本発明において使用するプラスチック基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としては、セルキャストポリ
メチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレ
ート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共
重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂；ポリカー
ボネート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリ
エステルを挙げることができる。好ましくは、ポリカー
ボネート、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチ
ルメタクリレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい、下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン番無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレンｅ酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質：および無機酸化物（ＳｉＯ２，Ａ文２０３等）、
無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げること
ができる。

下塗層は、たとえば上記物質を遺志な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０，０１〜ｌＯμｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層が設け
られてもよい、プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる０
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１００＃Ｌｍの範囲にあり、好ま
しくは０．１〜５０μｍの１１囲である０本発明のよう
に、基板材料がプラスチックの場合は。

射出成形あるいは押出成形などにより直接基板にプレグ
ルーブおよび／またはプレピットが設けられてもよい。

基板（またはプレグルーブ層等）上には、色素からなる
記録層が設けられる０本発明に使用される色素は特に限
定されるものではなく、どのようなものでも良い０例え
ば、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウ
ム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリリウム系色素、Ｎｉ　、Ｏｒなどの金属錯塩系色
素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフ
ェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニル
メタン系色素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム
系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げ
ることができる。

以下余白 以下余白 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。

その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： ・［１１（ＣＨ３）ｚＮ−（ＯＨ−ＯＨ）ｓ−ＯＨ−・
Ｎ（ＣＨ３）２　Ｃ交０４［４］　　Φ　°　−Ｌ＝’
Ｐ　　　　（Ｘ”−）１７１（ただし、Φおよび！はそ
れぞれ芳香族環が縮合していてもよいインドレニン環残
基、チアゾール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾ
ール環残基、イミダゾール環残基、ピリジン環残基、チ
アゾロピリミジン環残基またはイミダゾキノキサリン環
残基であり、Ｌはモノカルボシアニン。

ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカ
ルボシアニンを形成するための連結基であり　Ｘｌ−は
層価の陰イオンであり１ｍは１または２であり、さらに
ｘトはΦ、Ｌまたはψ上に置換して分子内塩を形成して
も良く、またΦとＬ、またはＬと！とはさらに連結して
環を形成しても良い） 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｈ）等が挙げられる。

る） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（（Ｉｂ）２であＯＨ
３ ＯＨ３ Ｃ２Ｈ４０ＣＯｆｆ Ｃ交０４ Ｃ２Ｈ４０ＣＨ３ ＯＨ３ ｌ　０４ ＯＨ３ ！ｌ−０４Ｈ％ ｌ　０４ １１−Ｃ４Ｈ９ ｉｉ）スクワリリウム系色素： １ｉｉ）アズレニウム系色素： （ただし　Ｒ１と）１２．Ｒ２とＲ３，Ｒ３と１１ｉ４
，１１４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ１の組合せ
のうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の
複素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成し
ないときのＲ１，Ｒ２１ｉ３．　Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６およ
びＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の
有機残基であり、あるいは）ｉｌとＲ２，Ｒ３とＲ４，
Ｒ４とＲ５，Ｒ５とＲ＆およびＲ６とＲ１の組合せのう
ち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香
族環を形成してもよ＜、Ａは二重結合によって結合した
二価の有機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。な
お、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が
窒素原子でＲき換えられてアザアズレン環となっていて
もよい、）ｉマ）インドフェノール系色素： 子である） （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水＃原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、ＣＩ
”Ｃ２０の置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−）１１
１ＧＯ−または−ＧＯＩＩ）Ｉ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、ｌｉｔ　、、、Ｒ４はそれぞれアルキル基ま
たはアリール基であり１Ｍは二価の遷移金属原（ただし
　Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基またはハロゲン
原子であり１Ｍは二価の遷移金属原子である） ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　Ｒ暑＼　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　／（Ｒ３）ｎ　　　　　　　　　
　　　（Ｒ３）ｎ（ただし、ｌｉｔおよびＲ２はそれぞ
れ！！！＋１！または未置換のアルキル基またはアリー
ル基であり　ｆ１３はアルキル基、ハロゲン原子または
一トＲ５基（ここで　１１４およびＲ５はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である）で
あり１Ｍは遷移金属原子であり、ｎはＯ〜３の整数であ
る） （ただし、［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり１ＭはＮｉ、Ｃｕ。

Ｃｏ、ＰｄまたはＰＬであり、ｎは１または２である） （ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であ（ただし、　［Ｃ
ａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンで
あり１ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまたはｐｔであり、
ｎは１または２である） 以下仝「１ （ただし、ｘｌおよびｘｌはそれぞれニトロ基および／
またはｌ＼ロゲン原子であり、ｆｉｔおよびＲ２はそれ
ぞれ１〜３の＊ａであり　Ｒ１およびＲ２はそれぞれア
ミノ基、モノフルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、
アセチル７ミノ基、ベンゾイルアミノ基（Ｉｔ換ベンゾ
イルアミノ基を含む）であり、ＸＩ　、！：Ｘ２　、ｎ
ｌ　とＲ２およびＲ１とＲ２はそれぞれ互いに同じであ
っても異なっていてもよく、ＭはＣｒまたはＣＯ原子で
あり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム
、脂肪族アンモニウム（１換脂肋族アンモニウムを含む
）または脂環族アンモニウムである）マｉ）ナフトキノ
ン系、アントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子
、アルギル基、アリル基、７ミノ基またはｉｌ！＃アミ
ノ基である）ＯＨ０ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
７基または置換アミノ基である）（ただし、Ｒは水素原
子、アルキル基、アリル基。

アミ７基またはＨ換アミノ基である） （ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎはθ〜１０の整
数である） （ただし、Ｘはハロゲン原子である） ＯＮ１３　０ ０　　　Ｎ１３　　Ｓ などを挙げることができる。

これらの色素のうちで、本発明の方法を好ましく適用す
ることができるのはシアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素およ
びイミダゾキノキサリン系色素である。なお、これらの
色素は単独でもあるいは二種以上の混合物として用いて
もよい、また、シアニン系色素を用いる場合に、上記金
属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニウム系色
素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、インプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどの７ミド、２．２，３．３、テトラフロ
ロプロパニール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤。

可塑剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては１例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン。

ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の
炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル。

ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル
共重合体重のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルア
ルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキシ樹脂、ブチ
ラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高
分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ティ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記［１７！の材料として結合剤を併用する場合に、結合
剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量
比）の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比
）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１−１０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０２〜
ｌｐｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。

上記色素記録層の上には本発明の反射層が設けられる０
反射層を設けることにより、反射率の向上の効果の他、
情報に再生時におけるＳ／Ｎの向上および記録時におけ
る感度の向上の効果が得られる。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、■、Ｎ　ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、
ＡｆＬ。

Ｇａ、Ｉ　ｎ、Ｓ　ｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ
、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができる。

これらのうちで好ましいものはＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ
、Ａｎ、ＣｒおよびＮ１−ｒある。これらの物質は単独
で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは
合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着。

スパッタリングまたはイオンブレーティングすることに
より記録層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００又の範囲にあ
る。

そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層が設け
られる。また、この保護層は、基板の記録層が設けられ
ていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有する。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Ｓ　ｉｏ、Ｓ　ｉｏｚ、５ＩＮｓ　、ＭｇＦ２，５
ｎ０２等を挙げることができる。また。

有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ
硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化
性樹脂である０本発明においては、Ｌ記物質を塗布によ
り設けた場合に顕著な効果を得ることができる。特に上
記有機物質を塗布により設けた場合に有効である。

すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することがでＪる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ
）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリ
エステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレー
トのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモ
ノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各層添加剤
を目的に応じて添加してもよい０本発明では、ＵＶ硬化
性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００ルｍのａｇＢに
ある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ および上記色素に下記の色素： ０．０１モル％添加したちのＩｇを、２，２゜３．３−
テトラフロロプロパツールに溶解して色素記録層塗布液
（濃度＝１重量％）を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、）ラックピッチ：１．６ｇｍ、グループの
深さ＝８００ス）上に。

上記塗布液をスピンコード法により回転数８５０ｒｐ−
の速度で塗布した後、添付第１図に示すようにの孔部の
周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある該色素塗
布層１２．すなわち孔部の周縁より１０ｍｍ外側の範囲
および外周縁より１．５ｍｍ内側の範囲にある該色素塗
布層１２を拭き取って除去して、添付第２図の周縁部に
設けられた内周側非記録領域２３および該外周縁部の内
側に設けられた内周側非記録領域２４を設けた。その後
、該塗布層を７０℃の温度で１０分間乾燥して膜厚が１
２００．ｉｔの記録層を形成した。

色素からなる記録層上に、Ａｕを蒸着して膜厚が１３０
０１の反射層を形成した。その際１反射層は添付第３図
示すように、第２図の周縁部に設けられた内周側非記録
領域２３および該外周縁部の内側に設けられた内周側非
記録領域２４の一部にまで設けられるようにマスクを用
いて蒸着を行なった。

上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（商品名
：　５０１７．大日本インキ化学工業■）をスピンコー
ド法により回転数１５００ｒｐ■の速度で塗布した後、
高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ２層厚ＩＩＬ
ｍの保Ｗ１層を形成した。保護層はスピンコーターによ
り添付第４図に示すように反射層上および第３図の内周
側非記録領域３３および外周側非記録領域３４全面に設
けられた。

このようにして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において１色素記録層塗布液を塗布した後拭き
取りを行なわなかった以外は実施例１と同様にして情報
記録媒体を製造した。

上記構成は、第５図に示すようになっている。

第５図は、中央に孔部５０を備えた円盤状樹脂基板５１
．基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層５
２．その上に設けられた反射層５５、さらに反射層上に
設けられた保護層５６からなる部分断面図である。

［比較例２］ 実施例１において、反射層をマスクを用いず記録層上お
よび基板全面に設けた以外は実施例１と同様にして情報
記録媒体を製造した。

上記構成は、第６図に示すようになっている。

第６図は、中央に孔部６０を備えた円盤状樹脂基板６１
、基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層６
２．その上に設けられた反射層６５、さらに反射層上に
設けられた保護層６６からなる部分断面図である。

［情報記録媒体の評価］ ｌ）上記で得られた情報記録媒体の外観を目視で観察し
た。

２）上記で得られた情報記録媒体について、記録する際
のレーザーパワー（記録パワー）をｌＯｍ　Ｗ　、線速
度：５ｍ／秒および変調周波数＝２゜５ＭＨｚにて記録
を行ない、Ｃ／Ｈの測定をスペクトルアナライザイー（
ＴＲ４１７２：タケダ理研■製）を用いて、再生パワー
：０．８ｍＷにて行なった。

得られた結果を第１表に示す。

第１表 外観　　　　Ｃ／　Ｎ　（ｄＢ） 実施例１　　　良好　　　　　５６ 比較例１　内外周部不良番　　５３ 比較例２　内外周部不良・・　　５５ ・基板の内外周部が色素の色むらが発生し不良−・保護
層の浮きがあり外観不良 第１表が示すように、実施例１の情報記録媒体は従来の
情報記録媒体（比較例１及び２）に比較して高いＣ／Ｎ
が得られ、記録再生特性に優れ。

且つ外観が良好である。

一方、比較例１は、保護層が色素記録層を侵すため、外
観、記録再生特性共に劣っている。また比較例２は、反
射層と保護層の密着が悪く、保護層が１部浮いているた
め、外観、記録再生特性共に良好であるとはいえない。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図および第４図は１本発明の情報
記録媒体の製造方法を説明するための部分断面の模式図
である。 第５図および第６図は、比較例で示した従来の情報記録
媒体の構成を示す部分断面の模式図である。 ４６．５６．６６：保護層 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　　理　　人
　　弁理士　　　柳　　川　　泰　　男１０　、２０．
　３０　、４０゜ ５０．６０：孔部 １１　、２１，３１　、４１　。 ５１．６１：円盤状樹脂基板 １２．２２．３２．４２゜ ５２．６２二色素記録層 １３：部分的に塗布されない領域 ２３．３３：内周側非記録領域 ２４．３４：外周側非記録領域 ３５．４５．５５．６５：反射層 第 図 第 図 第 図 第３ 図 第４ 図 手続ネｒｉ正書 明細書の 「発明の詳細な説明」 の欄を下記の通 り補正する。 一五Ｌ−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、中央に孔部を備えた円盤樹脂基板上の該孔部の周縁
   の外側および外周縁の内側にそれぞれ設けられた内周側
   非記録領域および外周側非記録領域以外の領域に、レー
   ザーにより情報の読み取りおよび／または書き込みが可
   能な色素からなる記録層が設けられ、 該記録層上、および該記録層を越えて内周側非記録領域
   の外周側および外周側非記録領域の内周側の基板上に、
   金属からなる反射層が設けられ、さらに、該反射層上、
   および該反射層を越えて内周側非記録領域および外周側
   非記録領域の基板上に、保護層が設けられている、 ことからなる情報記録媒体。 ２、中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上に、レーザー
   により情報の読み取りおよび／または書き込みが可能な
   色素からなる記録層を塗布により設けた後、 該孔部の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある
   該色素塗布層を除去することにより、該孔部の周縁部の
   外側および該外周縁部の内側にそれぞれ基板表面が露出
   した内周側非記録領域および外周側非記録領域を設け、 次に該記録層上、および該記録層を越えて該内周側非記
   録領域の外周側および該外周側非記録領域の内周側の基
   板上に、金属からなる反射層を形成し、 さらに、該反射層上、および該反射層を越えて内周側非
   記録領域および外周側非記録領域の基板上に、保護層を
   設けること、 により情報記録媒体を製造することからなる情報記録媒
   体の製造方法。