JPH02148041A - 電子写真感光体の表面層硬化用触媒 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、電子写真感光体の表面層硬化用触媒に関す
るものである。

〈従来の技術〉 いわゆるカールソンプロセスを利用した、複写機なとの
画像形成装置においては、導電性を有する基祠上に感光
層を形成した電子写真感光体が用いられている。

上記電子写真感光体は、画像形成プロセス時に、電気的
、光学的、機械的な衝撃を繰返し受けるので、これら衝
撃に対する耐久性を向上させるなどの目的で、上記各種
構造の感光層の上に、比較的硬度の高い、ポリウレタン
樹脂やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を結着樹脂とｊ
７て含有した表面保護層を積層したり、感光層の表層に
上記熱硬化性樹脂を結着樹脂と１２で含有させて、感光
層表面の硬度を向上させたりすること等が行われている
。

上記熱硬化性樹脂は、条件によっては触媒を用いなくて
も、加熱するだけで硬化させることができるが、通常、
硬化反応をスムーズ且つ均一に完結させるために、触媒
を用いる場合が多い。

熱硬化性樹脂の硬化用触媒には、無機酸または有機酸、
アミン類などのアルカリ等、種々のものがあるが、前記
表面保護層や感光層の表層等の、電子写真感光体の表面
に位置する層（以下、「表面層」という）に含有された
熱硬化性樹脂を硬化させるための硬化用触媒には、下記
のような性能が要求される。

（１）　　硬化により機械的強度に優れた表面層を形成
し得ること。

（２）電子写真感光体の感度等に悪影響を与えないこと
。

そして、上記性能をある程度具備するものとして、ジブ
チルチンジラウレー）　（ＤＴＬ）やジブチルチンジオ
クテート（ＤＴＯ）等の有機スズ化合物が提案されてい
る（特開昭６０−４９４５号公報参照）。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、上記有機スズ化合物を用いて硬化させた
表面層は、未だ耐摩耗性が十分でない。

また、電子写真感光体の初期感度が不充分であったり、
繰返１７露光を行うと感光体の表面電位か低下するなど
、表面層に残留した触媒が感光特性に悪影響を及ぼす場
合があった。

この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであって
、その目的とするところは、電子写真感光体の特性に悪
影響を与えることがなく、しかも耐摩耗性に優れた表面
層を形成する」−で好適な、電子写真感光体の表面層硬
化用触媒を提供することにある。

く課題を解決するための手段および作用〉上記課題を解
決するための、この発明に係る電子写真感光体の表面層
硬化用触媒（以下、「本発明触媒」という）は、下記一
般式（１）であられされる化合物および下記一般式［Ｉ
［）であられされる化合物からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物を有効成分とする。

本発明触媒の有効成分である、上記一般式［Ｉ］であら
れされる、１．８−ジアザ−ビシクロ［５，４，０１ウ
ンデセン−７（以下ｒＤＢＵＪと記す）および、上記一
般式［１［］であられされる、ＤＢＵの酸塩は、何れも
、窒素原子を中心とした、第３級アミンと同様の働きを
する部分を異項環に備えている。このため、ポリウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の、上記第３
級アミンによって硬化し得る熱硬化性樹脂（以下［アミ
ン硬化型熱硬化性樹脂」と記す）を含有する表面層を、
本発明触媒を用いて硬化させることができるのである。

そして、本発明触媒を用いた場合には、前記有機スズ化
合物を硬化用触媒として使用した場合に比べて、耐摩耗
性に優れた表面層を形成することがてきる。また、形成
された表面層は、初期感度に優れ、繰返し露光後の表面
電位の低下が小さく、このことから、表面層に残留する
触媒は、電子写真感光体の特性に悪影響を与えないこと
がわかる。

本発明触媒が、上記のような顕著な効果を奏する理由は
、現在のところ詳らかでない。周知のように、熱硬化性
樹脂材料および硬化用触媒の組み合わせと、硬化後の樹
脂の物性との関係や、硬化樹脂中に残留する触媒の影響
等については、未解明の点が極めて多い。したがって、
前記構成からなる本発明触媒が、電子写真感光体の表面
層の硬化用触媒として、特に顕著な効果を奏し得たこと
は、当業者にとっても全（予期し得なかったことであり
、その理由の解明も、現在のところ全く不可能である。

前記一般式［１］であらイフされるＤＢＵの酸塩におい
て、式中のＲに相当する、前記例示の各層のうちの好ま
［７いものとしては、アリール基に属するフェニル基、
アシル基に属するホルミル基およびオクタノイル基、ア
リールスルホニル基に属する０−１川−１ｐ−の各トル
エンスルホニル基が例示される。

また、本発明触媒の、熱硬化性樹脂に対する使用割合は
特に限定されないが、熱硬化性樹脂の固形成分全体の０
，１〜２０重量％の範囲内であることが好ましく、特に
０．５〜１０重量９６の範囲内であることがより好まし
い。これは、０．１重量％未満では、表面層中の熱硬化
性樹脂を十分に硬化させることができず、耐摩耗性に優
れた表面層を形成することができないからであり、２０
重置火を超えると、電子写真感光体の感度が不充分であ
ったり、繰返し露光を行うと感光体の表面電位が低下す
るなど、電子写真感光体の性能に悪影響を与えるからで
ある。

なお、本発明触媒は、必要に応じて従来公知の硬化助剤
等と共に使用することも可能である。

上記構成の、本発明触媒は、電子写真感光体の層構成を
問わず、前記アミン硬化型熱硬化性樹脂を含有する表面
層の硬化に使用することができる。

ここで、本発明触媒の使用対象となる表面層とは、例え
ば次のごとき、電子写真感光体の表面に位置する層を意
味するものである。

■　半導体材料からなる感光層または有機感光層上に形
成された表面保護層。

■　電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有する単層型の
有機感光層。

■　電荷発生層と電荷輸送層とからなる積層型の有機感
光層の表層。

■　半導体材料からなる電荷発生層と有機の電荷輸送層
とが順次積層された複合型の感光層における該電荷輸送
層。

なお、結着樹脂としては、膜の特性を損なわない範囲で
、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を併用す
ることができる。前記以外の他の結着樹脂としては、硬
化性アクリル樹脂；アルキッド樹脂：不飽和ポリエステ
ル樹脂；ジアリルフタレート樹脂；フェノール樹脂；尿
素樹脂；ベンゾグアナミン樹脂；メラミン樹脂；スチレ
ン系重合体；アクリル系重合体；スチレン−アクリル系
共重合体；ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマ
ー等のオレフィン系重合体；ポリ塩化ビニル：塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体；ポリ酢酸ビニル；飽和ポリエ
ステル：ボリアミド；熱可塑性ポリウレタン樹脂：ポリ
カーボネート；ボリアリレート；ポリスルホン：ケトン
樹脂；ポリビニルブチラール樹脂；ポリエーテル樹脂が
例示される。

次に、本発明触媒を用いて電子写真感光体を製造する場
合に参考となる、各部材の構成や各層を形成する材料等
について述べる。なお、これらは、従来と同様のものを
用いることができることを付言しておく。

まず、導電性基材について述べる。

導電性基材は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成
装置の機構、構造に対応してシー１へ状あり るいはドラム状など、適宜形状に形成される。また、」
二記導電性基祠は、全体を金属などの導電性材料で構成
しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材料で形
成し、その表面に導電性を付与しても良い。

なお、前者の構造を有する導電性基材において使用され
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。

一方、後者の構造としては、合成樹脂製基材またはガラ
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜か、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、」二記合成樹脂成形
品やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラ
ミネートされた構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材
の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造が例
示される。

なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。

次に、導電性暴利」二に形成される感光層について述べ
る。

感光層は、前記のように半導体材料や有機材料、または
これらの複合材料からなるものが使用できる。

複合型感光層において電荷発生層として用いられると共
に、単独でも感光層を形成できる半導体材料としては、
前述したα−あの他に、例えばα−ＡＳ２　’ｘｓ　、
ａ−８ｅＡｓＴｅ等のアモルファスカルコゲン化物やア
モルファスシリコン（α−３Ｌ）が例示される。上記半
導体材料からなる感光層または電荷発生層は、真空蒸着
法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方法によって
形成することができる。

］　１ 単層型または積層型の有機感光層における電荷発生層に
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末；ＺＴＩＯＳＣｄＳ
等のＩＩ−Ｖｌｌ機微結晶ピリリウム塩；アゾ系化合物
；ビスアゾ系化合物、フタロシアニン系化合物；アンサ
ンスロン系化合物；ペリレン系化合物；インジゴ系化合
物；トリフェニルメタン系化合物；スレン系化合物；ト
ルイジン系化合物、ピラゾリン系化合物：キナクリドン
系化合物：ピロロビロール系化合物が例示される。そし
て、上記例示の化合物の中でも、フタロシアニン系化合
物に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶型を有す
るアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、メ
タルフリーフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等
が好ましく用いられ、特に、上記メタルフリーフタロシ
アニンおよび／またはチタニルフタロシアニンがより好
ましく用いられる。なお、上記電荷発生材料は、それぞ
れ単独で用いられる他、複数種を併用しても良い。

また、上記単層型または積層型の有機感光層や、複合型
の感光層における電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン、　２，４．７
−ドリニトロー９−フルオレノン等のフルオレ、ノン系
化合物；ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物；無
水コハク酸：無水マレイン酸。

ジブロモ無水マレイン酸ニトリフェニルメタン系化合物
；２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル＞　−ｉ、
３，４〜オキサジアゾール等のオキザジアゾール系化合
物；９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセン
等のスチリル系化合物：ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
等のカルバゾール系化合物；ｌ−フェニル−３−（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン等のピラゾリン系
化合物；４，４°、４°゛−トリス（Ｎ。

Ｎ−ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン等のアミン
誘導体；１．■−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）
−４，４−ジフェニル−１，３−ブタジェン等の共役不
飽和化合物；　４−　（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベン
ズアルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン等のヒド
ラゾン系化合物；インドール系化合物、オキサゾール系
化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合
物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、
ピラゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾー
ル系化合物等の含窒素環式化合物；縮合多環族化合物が
例示される。上記電荷輸送材料も単独で、あるいは、複
数種併用して用いることができる。なお、上記電荷輸送
材料の中でも、前記ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の
光導電性を有する高分子材料は、前記結着樹脂としても
使用することができる。

また、前記単層型または積層型の有機感光層、複合型感
光層における電荷輸送層、および表面保護層などの層に
は、ターフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレ
ン等従来公知の増感剤や、９−（Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒ
ドラジノ）フルオレン、９−カルバゾリルイミノフルオ
レン等のフルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収
剤等の劣化防止剤、可塑剤など、種々の添加剤を含有さ
せることができる。

単層型の有機感光層における、結着樹脂１００重量部に
対する電荷発生材料の含有割合は、２〜２０重量部の範
囲内、特に３〜１５重量部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂１００重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、４０〜２００重量部の範囲内、特に５０
〜１００重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が２重量部未満、または、電荷輸送材料が４０重
量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が２
０重量部を超え、または、電荷輸送材料が２００重量部
を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られなくなる
からである。

」−記単層型感光層は、適宜の厚みに形成できるが、通
常は、１０〜５０μｍ、特に１５〜２５μｍの範囲内に
形成されることが好ましい。

一方、積層型の有機感光層を構成する層のうち、電荷発
生層における、結着樹脂１００重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、５〜５００重量部の範囲内、特に１
０〜２５０重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料が５重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、５
００重量部を超えると隣設置５ する他の層や基材との密着性が低下するからである。

上記電荷発生層の膜厚は、０．０１〜３μｍ１特に０゜
１〜２μｍの範囲内であることが好ましい。

また、積層型の有機感光層および複合型感光層を構成す
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂１００重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、１０〜５００重
量部の範囲内、特に２５〜２００重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料か１０重量部未満では電
荷輸送能が十分でなく、５００重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するからである。

上記電荷輸送層の膜厚は、２〜１００μｍ５特に５〜３
０　／７Ｉの範囲内であることが好ましい。

次に、表面保護層について述べる。

表面保護層は、前記例示の結着樹脂を主成分とし、その
他必要に応じて、導電性伺与剤；アミン系、フェノール
系等の酸化防止剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤等の
添加剤を適宜量含有させることもできる。

上記表面保護層の膜厚は、０．１〜１０μｍ、特に２〜
５μｍの範囲内であることが好ましい。

以」二に説明ｌまた、単層型や積層型の有機感光層、複
合型感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層など
の有機の層は、前述した各成分を含有する各層側の塗布
液を調整し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し
得るように、各層毎に順次導電性暴利上に塗布し、乾燥
または硬化させることで積層形成することができる。

なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着樹
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、ｎ−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類；ジ］７ メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；
ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド等、種々
の溶剤が例示され、これらが一種または二種以上混合し
て用いられる。また、上記塗布液を調整する際、分散性
、塗工性等を向上させるため、界面滑性剤やレベリング
剤等を併用しても良い。

また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。

〈実施例〉 以下に、実施例に基づき、本発明をより詳細に説明する
。

実施例１ ボリアリレート（ユニチカ社製、商品名ｕ−ｉｏｏ　＞
１００重量部、４−　（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベン
ズアルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン１００重
量部および塩化メチレン（ＣＨ２Ｃｆｚ　）　９００重
量部からなる電荷輸送用塗布液を調整し、この塗布液を
外径７８ｍｍＸ長さ３４０ｍｍのアルミニウム管上に塗
布した後、１００℃で３０分間加熱乾燥させて、膜厚２
゜μ層の電荷輸送層を形成した。

次に、上記電化輸送層上に、２，７−ジブロモアンサン
スロン（ＩＣＩ社製）８０重量部、メタルフリーフタロ
シアニン（ＢＡＳＦ社製）２０重量部、ポリ酢酸ビニル
（日本合成化学社製、商品名ＹＳ−Ｎ）５０重量部およ
びジアセトンアルコール２０００重量部からなる電荷゛
発生層用塗布液を塗布し、上記と同様の条件で乾燥させ
て、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次に、０．０２Ｎ塩酸５７．４重量部とイソプロピルア
ルコール３６重量部とを混合し、上記混合液の液温を２
０〜２５℃に保ちつつ攪拌しながら、メチルトリメトキ
シシラン１４４．７重量部を徐々に滴下した後、室温に
１時間放置することによってメチルトリメトキシシラン
の加水分解生成物１００重量部を含む反応溶液２３８．
１重量部を得た。

そして、この反応溶液に、ビスフェノールＡ系エポキシ
樹脂（シェル化学社製、商品名エピコート８２７．エポ
キシ当１１８０〜１９０　’）　３．３重量部、Ｄ　Ｂ
　Ｕ　０．３重量部、酢酸１９．６重量部、ｎ−ブチル
アセテート３２．７重量部、カルピトールアセテート１
６．４重量部、キシレン１６．４重量部、シリコーン系
界面活性剤０．３重量部、および導電性付与剤としての
アンチモンドープ酸化スズ微粉末（住人セメント社製）
５０重量部を添加して表面保護層用塗布液を作製し、こ
の表面保護層用塗布液を前記電荷発生層上に塗布（７，
１１０℃で１時間加熱硬化させて、膜厚２，５μｍのシ
リコーン樹脂製表面保護層を形成し、積層型感光層を有
するドラム型の電子写真感光体を作製した。

実施例２ Ｄ　Ｂ　Ｕ　０．３重量部に代えて、前記−数式（ＩＩ
）中のＲがフェニル基であるＤＢＵの酸塩（ザンアブロ
社製、商品名ＳＡＮα１）１重量部を含有する表面保護
層用塗布液を用いたこと以外は、上記実施例１と同様に
して、電子写真感光体を作製した。

実施例３ ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂３．３重量部に代えて
、ポリグリコール系エポキシ樹脂（長潮産業社製、商品
名デナコールＥＸ−３１４，エポキシ当量１５０　）　
５．Ｑ重量部を含有する表面保護層用塗布液を用いたこ
と以外は、上記実施例］、と同様にして、電子写真感光
体を作製した。

実施例４ ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂３．３重量部に代えて
、ポリ酢酸ビニル（日本合成化学社製、商品名ＹＳ−Ｎ
）　５．０重量部を含有する表面保護層用塗布液を用い
たこと以外は、上記実施例１と同様にして、電子写真感
光体を作製した。

比較例１ Ｄ　Ｂ　Ｕ　０．３重量部に代えて、ジブチルチンジラ
ウレート１重量部を含有する表面保護層用塗布液を用い
たこと以外は、上記実施例１と同様にして、電子写真感
光体を作製した。

比較例２ Ｄ　Ｂ　Ｕ　０．３重量部に代えて、トリエチルアミン
１重量部を含有する表面保護層用塗布液を用いたこと以
外は、上記実施例１と同様にして、電子写真感光体を作
製した。

比較例３ Ｄ　Ｂ　Ｕ　０．３重量部に代えて、酢酸ナトリウム１
重量部を含有する表面保護層用塗布液を用いたこと以外
は、上記実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製
した。

上記実施例１〜４および比較例１〜３において作製した
各電子写真感光体について、下記の各試験を行った。

表面電位測定 」二記各電子写真感光体を、静電複写試験装置（ジエン
チック社製、ジエンチックシンシア３０Ｍ型機）に装填
し、その表面を正に帯電させて、表面電位Ｖ＋　ｓ、ｐ
、（Ｖ）を測定した。

半減露光量、残留電位測定 上記帯電状態の各電子写真感光体を、」１記静電複写試
験装置の露先々源であるハロゲンランプを用いて、露光
強度０．９２ｍＷ／　ｃｍ、露光時間６０ＩｌｌＳｃｃ
。

の条件で露光し、前記表面電位ｖｌｓ、ｐ、が１／２と
なるまでの時間を求め、半減露光ｆｆ１Ｅｌ／２（μＪ
／Ｃイ）を算出し、た。

また、上記露光開始時から０．４秒経過後の表面電位を
、残留電位Ｖ　ｒ、ｐ、　（Ｖ）として測定した。

繰返し露光後の表面電位変化測定 」二記各電子写真感光体を複写機（三［］］］］工業社
製ＤＣ−１１１型機装填して５００枚の複写処理を行っ
た後、表面電位を、繰返ｌ、露光後の表面電位■２ｓ、
ｐ、（Ｖ）として測定した。

また、前記ＶＩ　Ｓ、ｐ、値とｖ２ｓ、ｐ、値との差を
１、表面電位変化値Δ■（■）として算出した。

耐摩耗試験 各電子写真感光体をドラム研磨試験機（三田工業社製）
に装填すると共に、このドラム研磨試験機に設けられた
、感光体が１０００回転する間に１回転する研磨試験紙
装着リングに研磨試験紙（住人スリーエム社製、商品名
インペリアルラッピングフィルム、粒径１２μｌの酸化
アルミニウム粉末を表面に付着させたもの）を装填し、
この研磨試験紙を感光体表面に線圧Ｌｏｇ／ｎ＋ｍで押
圧しながら、感光体を４００口々転させた時の摩耗量（
μｍ）を測定した。

以上の結果を表に示す。

（以下余白） 表より明らかなように、実施例１〜４において作製した
電子写真感光体は、何れも、比較例１〜３に比べて、残
留電位が低く、半減露光量が小さく、また、繰返し露光
後の表面電位の低下量が小さいなど感光特性に優れたも
のであることが判明した。また、各実施例において作製
した電子写真感光体は、何れも、表面層としての表面保
護層の耐摩耗性に優れていることも判明した。

また、」二記各実施例においては、表面保護層の硬化速
度が大気中の湿度等によって影響を受けないなど硬化効
率が良い上、表面保護層用塗布液の貯蔵安定性が良く、
しかも、硬化後の表面保護層は透明性に優れ、クラック
も認められないものであった。

〈発明の効果〉 以」二のように、本発明の電子写真感光体の表面層硬化
用触媒によれば、表面層中に含まれる熱硬化性樹脂を硬
化させることで、電子写真感光体の感光特性に悪影響を
与えることがなく、しがち、耐摩耗性に優れた表面層を
形成することが可能となる。

手続補正書（自発） 平成２年　２月　２日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式〔 I 〕であらわされる化合物および下
   記一般式〔II〕であらわされる化合物からなる群より選
   ばれた少なくとも一種 の化合物を有効成分とする電子写真感光 体の表面層硬化用触媒。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 〔但し、上記式〔II〕中Ｒは、アルキル基、アシル基、
   アリール基、アリールスルホニル基、アルコキシ基から
   なる群より選ばれた有機基をあらわす。〕