JPH02148595A - 薄膜el素子およびその製造方法 - Google Patents
薄膜el素子およびその製造方法Info
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- JPH02148595A JPH02148595A JP63300725A JP30072588A JPH02148595A JP H02148595 A JPH02148595 A JP H02148595A JP 63300725 A JP63300725 A JP 63300725A JP 30072588 A JP30072588 A JP 30072588A JP H02148595 A JPH02148595 A JP H02148595A
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 claims description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、表示デバイスなどに用いられる薄膜E[素子
およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、良好な発
光特性を有する発光層材料を用いた赤色発光薄膜E L
素子およびその発光層薄膜形成工程を特徴とする薄膜E
L素子の製造方法に関するものである。
およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、良好な発
光特性を有する発光層材料を用いた赤色発光薄膜E L
素子およびその発光層薄膜形成工程を特徴とする薄膜E
L素子の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
薄膜EL素子の発光層材料としては、Mnや希土類元素
で付活されたZ n 3が主に用いられており、赤色発
光材料としてはZn3:3mがある。
で付活されたZ n 3が主に用いられており、赤色発
光材料としてはZn3:3mがある。
近年、新しい赤色発光材料としてCaS : Elなと
アルカリ土類硫化物を母体とし、ELJで付活された発
光層材料が検討されている。
アルカリ土類硫化物を母体とし、ELJで付活された発
光層材料が検討されている。
アルカリ土類硫化物を母体とする発光層を有する薄膜E
L素子の構造は、例えば第3図に示ずようにガラス基板
1上に透明電極2、第1絶縁体層3、アルカリ土類硫化
物を母体とする発光層7、第2絶縁体層5、上部電極6
が順次形成されている。このアルカリ土類硫化物を母体
とした発光層薄膜の成膜方法としては、第4図(a)に
示すように、発光中心不純物を含むアルカリ土類硫化物
からなる原料ペレット11を電子ビームガン10により
電子ビーム加熱し、基板加熱ヒータ9により加熱された
基板8上に成膜する真空蒸着法や、発光中心不純物を含
むアルカリ土類硫化物をターゲットとして用いたスパッ
タ法によって成膜されている。
L素子の構造は、例えば第3図に示ずようにガラス基板
1上に透明電極2、第1絶縁体層3、アルカリ土類硫化
物を母体とする発光層7、第2絶縁体層5、上部電極6
が順次形成されている。このアルカリ土類硫化物を母体
とした発光層薄膜の成膜方法としては、第4図(a)に
示すように、発光中心不純物を含むアルカリ土類硫化物
からなる原料ペレット11を電子ビームガン10により
電子ビーム加熱し、基板加熱ヒータ9により加熱された
基板8上に成膜する真空蒸着法や、発光中心不純物を含
むアルカリ土類硫化物をターゲットとして用いたスパッ
タ法によって成膜されている。
ざらに真空蒸着法においては、第4図(b)に示すよう
に、硫黄(S)蒸気雰囲気15中で蒸着する方法が検討
されている。
に、硫黄(S)蒸気雰囲気15中で蒸着する方法が検討
されている。
[発明が解決しようとする課題]
上記した発光層材料のうち、Z「)S:Smを発光層と
して有する赤色発光薄膜EL素子は、カラーEL素子と
して色純度が十分でなく、発光効率も低い。
して有する赤色発光薄膜EL素子は、カラーEL素子と
して色純度が十分でなく、発光効率も低い。
一方、アルカリ土類硫化物を母体とするもの、例えばE
LJで付活されたアルカリ土類硫化物(Cab:Eu)
は色純度の高い発光色を示すが、発光輝度および発光効
率が実用レベルに比べて不十分である。
LJで付活されたアルカリ土類硫化物(Cab:Eu)
は色純度の高い発光色を示すが、発光輝度および発光効
率が実用レベルに比べて不十分である。
赤色発光を示すEuで付活されたCaSなどアルカリ土
類硫化物からなる発光層を成膜する際、アルカリ土類硫
化物を蒸着源にして真空蒸着すると、形成膜にS扱けに
よる化学渚論比組成のずれや、それに起因する結晶性の
著しい低下が発生する。また、Sの雰囲気中でアルカリ
土MUA化物を真空蒸着すると、上記形成膜質の低下を
ある程度防止することが可能であるものの、膜質の低下
を防止するにはSの分圧によって蒸着中の真空度を10
″4〜10−2 Torrとしなければならず、成膜装
置の維持も含めて真空蒸着法としてのアルカリ土類硫化
物の成膜技術として本Vi的解決には至っていない。
類硫化物からなる発光層を成膜する際、アルカリ土類硫
化物を蒸着源にして真空蒸着すると、形成膜にS扱けに
よる化学渚論比組成のずれや、それに起因する結晶性の
著しい低下が発生する。また、Sの雰囲気中でアルカリ
土MUA化物を真空蒸着すると、上記形成膜質の低下を
ある程度防止することが可能であるものの、膜質の低下
を防止するにはSの分圧によって蒸着中の真空度を10
″4〜10−2 Torrとしなければならず、成膜装
置の維持も含めて真空蒸着法としてのアルカリ土類硫化
物の成膜技術として本Vi的解決には至っていない。
本発明の目的は、第1に良好4に赤色発光を示し、輝度
・効率の高い発光層材料を用いた薄膜EL索子を提供す
ること、第2に高品位の発光層薄膜を容易に形成するこ
とが可能な、上記赤色発光を示す発光層を有する薄膜E
L素子の装)告方法を提供することにある。
・効率の高い発光層材料を用いた薄膜EL索子を提供す
ること、第2に高品位の発光層薄膜を容易に形成するこ
とが可能な、上記赤色発光を示す発光層を有する薄膜E
L素子の装)告方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、(cal−、rvlgx)(Sl−、Se、
)混晶からなる母体にELJを付活した薄膜螢光体を発
光層としてなることを特徴とする薄膜EL素子であり、
またその製造方法は、Euを含むCaまたはMCIの硫
化物またはセレン化物で形成された混合物または混晶か
らなり、Eu、Mg、Ca。
)混晶からなる母体にELJを付活した薄膜螢光体を発
光層としてなることを特徴とする薄膜EL素子であり、
またその製造方法は、Euを含むCaまたはMCIの硫
化物またはセレン化物で形成された混合物または混晶か
らなり、Eu、Mg、Ca。
SおよびSeのずべてを構成元素として含む蒸着源と、
seからなる蒸着源とから同時に基板上に蒸発物質を供
給することにより発光層の形成を行うことを特徴とする
。
seからなる蒸着源とから同時に基板上に蒸発物質を供
給することにより発光層の形成を行うことを特徴とする
。
本発明において、発光層母体のMg濃度の値Xは、Q<
x≦0.7の範囲であることが好ましい。
x≦0.7の範囲であることが好ましい。
Mg濃度の値Xか0.7より大きくなると、赤色発光素
子としての色純度が劣るようになる。
子としての色純度が劣るようになる。
また、発光層母体のSe濃度の値yは、0.05≦y≦
0.65の範囲であることが好ましい。Se濃度の値y
が0.65より大きくなると、赤色発光素子としての色
純度が劣るようになり、0.05より小さいと発光効率
の改善効果が小さい。さらに、母体にMgを含まない場
合には発光効率が悪くなる。
0.65の範囲であることが好ましい。Se濃度の値y
が0.65より大きくなると、赤色発光素子としての色
純度が劣るようになり、0.05より小さいと発光効率
の改善効果が小さい。さらに、母体にMgを含まない場
合には発光効率が悪くなる。
[作用]
CaS:ELJの発光はピーク波長的650nmのほぼ
対称なスペクトルを示す。この発光は色純度が非常に高
い深い赤色で必る反面、視感度が小さいため原理的に高
効率化に限界がある。母体をCaSとCaSeの混晶と
するとELIからの発光スペクトルが短波長側に移動し
、赤色発光素子としての実用的な色純度を保持したまま
視感度の高い領域での発光を得ることかできる。
対称なスペクトルを示す。この発光は色純度が非常に高
い深い赤色で必る反面、視感度が小さいため原理的に高
効率化に限界がある。母体をCaSとCaSeの混晶と
するとELIからの発光スペクトルが短波長側に移動し
、赤色発光素子としての実用的な色純度を保持したまま
視感度の高い領域での発光を得ることかできる。
また、母体がMgSとCaSの混晶の場合、MCI濃度
が高い方が高い発光効率を得ることができ、適当なMC
I度の範囲では赤色発光の色純度を保ったまま発光効率
の向上が可能である。このように、これらの構成元素が
適当な濃度範囲にある擬二元混晶はカラーEL素子に用
いることができる高効率赤色発光素子を実現することが
可能である。
が高い方が高い発光効率を得ることができ、適当なMC
I度の範囲では赤色発光の色純度を保ったまま発光効率
の向上が可能である。このように、これらの構成元素が
適当な濃度範囲にある擬二元混晶はカラーEL素子に用
いることができる高効率赤色発光素子を実現することが
可能である。
ELJを含むCa、MCIなどの硫化物またはこれらの
硫化物とセレン化物の混合物、あるいは硫化物とセレン
化物の混晶からなる蒸着源を加熱し真空蒸着する際、薄
膜成長面では、基板に到達する化学量論比の蒸気成分よ
り過剰のSeが供給されると、形成薄膜からのSまたは
set友けが減少し、蒸む雰囲気からの酸素の取り込み
による薄膜中の酸化物の猪も低下するため、形成薄膜の
結晶性が良好になり、ひいてはこの薄膜を発光層とする
EL素子の発光特性が良好となる。
硫化物とセレン化物の混合物、あるいは硫化物とセレン
化物の混晶からなる蒸着源を加熱し真空蒸着する際、薄
膜成長面では、基板に到達する化学量論比の蒸気成分よ
り過剰のSeが供給されると、形成薄膜からのSまたは
set友けが減少し、蒸む雰囲気からの酸素の取り込み
による薄膜中の酸化物の猪も低下するため、形成薄膜の
結晶性が良好になり、ひいてはこの薄膜を発光層とする
EL素子の発光特性が良好となる。
また、SeはSより蒸気圧が低いため、基板への付着率
が高く、より少量で上記効果がおり、さらにSの雰囲気
蒸着法ではS源の室温〜200℃の間での微妙な温度コ
ント【]−ルが要求されるのに対し、Seの同時供給で
はSe源の温度コントロールによる供給串の制御が容易
でおる。よって通常の蒸着法の真空度を保持したまま、
Seの薄膜成長面への供給最の変動の少ない過剰供給を
行うことが可能である。
が高く、より少量で上記効果がおり、さらにSの雰囲気
蒸着法ではS源の室温〜200℃の間での微妙な温度コ
ント【]−ルが要求されるのに対し、Seの同時供給で
はSe源の温度コントロールによる供給串の制御が容易
でおる。よって通常の蒸着法の真空度を保持したまま、
Seの薄膜成長面への供給最の変動の少ない過剰供給を
行うことが可能である。
このため、薄膜の結晶性やEL索子の特性が良好となり
、また成膜装置の汚染が成膜や成膜装置の材質に及はJ
影響が少なくなり、成膜装置の維持も容易になる。
、また成膜装置の汚染が成膜や成膜装置の材質に及はJ
影響が少なくなり、成膜装置の維持も容易になる。
[実施例]
次に、本発明の実施例について図面を参照しで説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例を示す薄膜t=1素子の断面
図で、透明なガラス基板1上に、透明電極2、第1絶縁
体層3、本発明に係る< c a 1−xMqX )(
Sl−y Se、): ELJ発光@4、第2絶縁体層
5、上部電極6が順次形成されている。
図で、透明なガラス基板1上に、透明電極2、第1絶縁
体層3、本発明に係る< c a 1−xMqX )(
Sl−y Se、): ELJ発光@4、第2絶縁体層
5、上部電極6が順次形成されている。
以下に、その薄膜EL素子の製造方法の概略を説明覆゛
ると、まず真空蒸着法またはスパッタ法などによりガラ
ス基板1上に透明電極2および2500人の△Q203
からなる第1絶縁体医3を成膜する。次に、この基板上
に後記する如き方法により、蒸発源のMgS、CaSと
CaSeの混合比を変化させたELJを含むペレットを
用い、500℃の基板温度で、電子ビーム加熱蒸着法で
(Ca MQ )csl−、、Se、): Eu
発光1−× × 層4を10000人形成する。さらに、この真空状態を
破らずにこれらの発光M4の上に、Aj!203の第2
絶縁体層5を30000人形成する。最後に、この第2
絶縁体層5の上に上部へで電極6を成膜してEl−素子
を作製する。
ると、まず真空蒸着法またはスパッタ法などによりガラ
ス基板1上に透明電極2および2500人の△Q203
からなる第1絶縁体医3を成膜する。次に、この基板上
に後記する如き方法により、蒸発源のMgS、CaSと
CaSeの混合比を変化させたELJを含むペレットを
用い、500℃の基板温度で、電子ビーム加熱蒸着法で
(Ca MQ )csl−、、Se、): Eu
発光1−× × 層4を10000人形成する。さらに、この真空状態を
破らずにこれらの発光M4の上に、Aj!203の第2
絶縁体層5を30000人形成する。最後に、この第2
絶縁体層5の上に上部へで電極6を成膜してEl−素子
を作製する。
いま、薄膜EL素子の発光層を、(Cao、7Mg0.
3 >(sl−VSev)を母体とし、0.1モル%の
Euで付活されたものとし、S e 6度(y)を表−
1に示す如く変化させて発光層を形成した時の各素子の
発光色を表−1に、発光効率を第5図に示す。
3 >(sl−VSev)を母体とし、0.1モル%の
Euで付活されたものとし、S e 6度(y)を表−
1に示す如く変化させて発光層を形成した時の各素子の
発光色を表−1に、発光効率を第5図に示す。
表−1
表−1かられかるように、発光層母体が混晶化しSe1
度が増加するにしたがって、発光ピーク波長が短波長側
に移動し、色調が変化している。
度が増加するにしたがって、発光ピーク波長が短波長側
に移動し、色調が変化している。
また、第5図かられかるように、発光効率がSe濃度の
増加とともに大きくなっている。このMg瀾度の時、S
eのモル濃度が0.60以上では、赤色発光素子と()
ての色純度が通常のカラーc rt −rに用いられる
ものより劣っていた。また、0.05以下では発光効率
の改善効果が小さかった。Seがモル濃度で0.30含
まれる( Ca o、 70M qo、 30 )(S
□、70S e□、30) : E uを発光層として
有する素子Cはカラー素子としての良好な色純度を有し
、また素子Aに比べ約3倍の効率改善がなされた。
増加とともに大きくなっている。このMg瀾度の時、S
eのモル濃度が0.60以上では、赤色発光素子と()
ての色純度が通常のカラーc rt −rに用いられる
ものより劣っていた。また、0.05以下では発光効率
の改善効果が小さかった。Seがモル濃度で0.30含
まれる( Ca o、 70M qo、 30 )(S
□、70S e□、30) : E uを発光層として
有する素子Cはカラー素子としての良好な色純度を有し
、また素子Aに比べ約3倍の効率改善がなされた。
また、上記と同様に、0.1モル%のELJで付活され
た(Ca1−、MQx )(S□、70Se□、30)
を発光層として有する薄膜EL素子を、表−2に示すよ
うなM Cl濃度になるように蒸発源のMCl5の混合
比を調整し作製した時の各素子の発光色を表−2に、発
光効率を第6図に示す。
た(Ca1−、MQx )(S□、70Se□、30)
を発光層として有する薄膜EL素子を、表−2に示すよ
うなM Cl濃度になるように蒸発源のMCl5の混合
比を調整し作製した時の各素子の発光色を表−2に、発
光効率を第6図に示す。
表−2
第6図かられかるように、発光層母体のMg濃度が増加
するにつれて発光効率が向上している。
するにつれて発光効率が向上している。
しかし、このS e 8度の時、MC18度が0.7を
超えると、赤色発光素子としての色純度が通常のカラー
CRTに用いられるものより劣っていた。第6図にみら
れる1、J素子での効率向上は、視感度の効果が大きい
。fVtqがモル濃度で0.50含まれる素子口は、M
gを含まない素子[に比べ約1.5倍の効率改善がなさ
れた。
超えると、赤色発光素子としての色純度が通常のカラー
CRTに用いられるものより劣っていた。第6図にみら
れる1、J素子での効率向上は、視感度の効果が大きい
。fVtqがモル濃度で0.50含まれる素子口は、M
gを含まない素子[に比べ約1.5倍の効率改善がなさ
れた。
このように、本発明によるEuで付活された(caトx
Mgx)(sl−、Se、)を発光層とするEL素子は
赤色発光素子としての色純度を保持したまま、輝度・効
率を、従来のCaSを母体とするものよりも改善するこ
とかでき、総合的にみて従来素子より発光特性の優れた
ものを得ることができた。
Mgx)(sl−、Se、)を発光層とするEL素子は
赤色発光素子としての色純度を保持したまま、輝度・効
率を、従来のCaSを母体とするものよりも改善するこ
とかでき、総合的にみて従来素子より発光特性の優れた
ものを得ることができた。
次に、0.1モル%のELJで付活した(CaO,70
Mg0.30) (so、70seO,30> i膜
成膜時にSeを同時供給した発光層を有する薄膜FL素
子を例にして、この発光層形成技術の詳細を説明する。
Mg0.30) (so、70seO,30> i膜
成膜時にSeを同時供給した発光層を有する薄膜FL素
子を例にして、この発光層形成技術の詳細を説明する。
第1図に示す構造を有する簿膜EL素子の製造工程は前
記の通りであるが、このうち、発光層の形成については
以下のような手順で形成した。即ち、形成された薄膜の
Se5度が0.30となるように蒸発源ペレットのMg
S、CaSとCaSe混合比を調整し、第2図に承りよ
うな本発明による製造工程可能な成膜装置を用いて行っ
た。
記の通りであるが、このうち、発光層の形成については
以下のような手順で形成した。即ち、形成された薄膜の
Se5度が0.30となるように蒸発源ペレットのMg
S、CaSとCaSe混合比を調整し、第2図に承りよ
うな本発明による製造工程可能な成膜装置を用いて行っ
た。
まず、一方の蒸@源として上記ペレット11を電子ビー
ムガン10により加熱して蒸発させ、別蒸着源として5
e12を種々の供給速度で抵抗加熱により同時に蒸発さ
せて、基板加熱ヒータ9により500’Cに加熱された
基板8上に10000人の膜厚で形成した。この時、S
eの供給量の変動は±5%以下とし、成膜時の真空度は
’l xlO−5Torr以下とした。作製した素子に
ついて、薄膜原料供給量に対するseの相対的供給量と
素子名を表−3に示す。
ムガン10により加熱して蒸発させ、別蒸着源として5
e12を種々の供給速度で抵抗加熱により同時に蒸発さ
せて、基板加熱ヒータ9により500’Cに加熱された
基板8上に10000人の膜厚で形成した。この時、S
eの供給量の変動は±5%以下とし、成膜時の真空度は
’l xlO−5Torr以下とした。作製した素子に
ついて、薄膜原料供給量に対するseの相対的供給量と
素子名を表−3に示す。
K−P多素子のX線回折によるNaCj構造(200)
ピークの半値幅△2θを測定したところ、第7図に示す
ように、供給seの量が増加するにしたがって△2θは
単調に減少し、結晶性の改善効果が認められた。素子N
およびPではseの供給の無い場合(索子K)に比べ、
半値幅Δ2θが215に減少した。また、発光効率も供
給Seの量が増加するにつれて増加し、Seの供給が無
い場合(素子K)に比べ、素子Pで約1.5倍に改善さ
れた。比較のためにSの同時供給を行ったところ、成膜
真空度10−5 Torr付近で供給量を制御すること
は困難であり、成膜の再現性や雰囲気真空度の劣化、ざ
らには成膜装置のCu部品の腐食、ポンプオイルの急激
な劣化という問題が発生した。
ピークの半値幅△2θを測定したところ、第7図に示す
ように、供給seの量が増加するにしたがって△2θは
単調に減少し、結晶性の改善効果が認められた。素子N
およびPではseの供給の無い場合(索子K)に比べ、
半値幅Δ2θが215に減少した。また、発光効率も供
給Seの量が増加するにつれて増加し、Seの供給が無
い場合(素子K)に比べ、素子Pで約1.5倍に改善さ
れた。比較のためにSの同時供給を行ったところ、成膜
真空度10−5 Torr付近で供給量を制御すること
は困難であり、成膜の再現性や雰囲気真空度の劣化、ざ
らには成膜装置のCu部品の腐食、ポンプオイルの急激
な劣化という問題が発生した。
Seの同時供給ではこのような顕著な問題は発生しなか
った。
った。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、EUで付活され
た発光層材料として、(Ca1−xMgx)(S 1−
y S e y ) ’ E uを用いることにより、
赤色発光素子としての色調を保ったまま高い発光効率を
有する薄膜EL素子を1qることかできる。ざらに、上
記発光層の形成時にSeを同時供給することにより、発
光層薄膜の結晶性が改善され、ひいては薄膜EL素子の
発光特性を改善することができる。また、この方法を用
いることにより成膜条件を再現性・制御性よく実現でき
、しかも成膜装置の急激な劣化なしに高輝度赤色薄膜E
L素子を製造できる。
た発光層材料として、(Ca1−xMgx)(S 1−
y S e y ) ’ E uを用いることにより、
赤色発光素子としての色調を保ったまま高い発光効率を
有する薄膜EL素子を1qることかできる。ざらに、上
記発光層の形成時にSeを同時供給することにより、発
光層薄膜の結晶性が改善され、ひいては薄膜EL素子の
発光特性を改善することができる。また、この方法を用
いることにより成膜条件を再現性・制御性よく実現でき
、しかも成膜装置の急激な劣化なしに高輝度赤色薄膜E
L素子を製造できる。
第1図は本発明の一実施例の薄膜EL累子の断面図、第
2図は本発明の薄膜E L索子の製造方法に用いられる
成膜装置の一例の概略構成図、第3図は従来の薄膜E[
素子の断面図、第4図は従来の薄膜EL素子の製造方法
に用いられる成膜装置の概略構成図、第5図はEUで付
活した本発明の混晶母体におけるSe1度と発光効率と
の関係を示す特性図、第6図は本発明の混晶母体におけ
るMg濃度と発光効率との関係を示す特性図、第7図は
発光層形成時のSe供給量と△2θ(200)との関係
を示す特性図である。 1・・・ガラス基板 2・・・透明電極3・・・
第1絶縁体層 4− (Ca1−x fvlgx ) (Sl、Se、) :EU発光層 5・・・第2絶縁体層 6・・・上部電(※7・・
・アルカリ土類硫化物発光層 8・・・基板 9・・・基板加熱ヒ10・
・・電子ビームガン 11・・・発光層材料ペレット 12・・・3e 13・・・抵抗加熱器
15・・・S雰囲気
2図は本発明の薄膜E L索子の製造方法に用いられる
成膜装置の一例の概略構成図、第3図は従来の薄膜E[
素子の断面図、第4図は従来の薄膜EL素子の製造方法
に用いられる成膜装置の概略構成図、第5図はEUで付
活した本発明の混晶母体におけるSe1度と発光効率と
の関係を示す特性図、第6図は本発明の混晶母体におけ
るMg濃度と発光効率との関係を示す特性図、第7図は
発光層形成時のSe供給量と△2θ(200)との関係
を示す特性図である。 1・・・ガラス基板 2・・・透明電極3・・・
第1絶縁体層 4− (Ca1−x fvlgx ) (Sl、Se、) :EU発光層 5・・・第2絶縁体層 6・・・上部電(※7・・
・アルカリ土類硫化物発光層 8・・・基板 9・・・基板加熱ヒ10・
・・電子ビームガン 11・・・発光層材料ペレット 12・・・3e 13・・・抵抗加熱器
15・・・S雰囲気
Claims (2)
- (1)(Ca_1_−_xMg_x)(S_1_−_y
Se_y)混晶からなる母体にEuを付活した薄膜螢光
体を発光層としてなることを特徴とする薄膜EL素子。 - (2)(Ca_1_−_xMg_x)(S_1_−_y
Se_y)混晶からなる母体にEuを付活した薄膜螢光
体を発光層とする薄膜EL素子の製造方法であって、E
uを含むCaまたはMgの硫化物またはセレン化物で形
成された混合物または混晶からなり、Eu、Mg、Ca
、SおよびSeのすべてを構成元素として含む蒸着源と
、Seからなる蒸着源とから同時に基板上に蒸発物質を
供給することにより発光層の形成を行うことを特徴とす
る薄膜EL素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63300725A JPH02148595A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 薄膜el素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63300725A JPH02148595A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 薄膜el素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02148595A true JPH02148595A (ja) | 1990-06-07 |
Family
ID=17888353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63300725A Pending JPH02148595A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 薄膜el素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02148595A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6002214A (en) * | 1997-02-12 | 1999-12-14 | International Rectifier Corporation | Phase detection control circuit for an electronic ballast |
| US6008592A (en) * | 1998-06-10 | 1999-12-28 | International Rectifier Corporation | End of lamp life or false lamp detection circuit for an electronic ballast |
| US6008593A (en) * | 1997-02-12 | 1999-12-28 | International Rectifier Corporation | Closed-loop/dimming ballast controller integrated circuits |
| US6300777B1 (en) | 1997-10-15 | 2001-10-09 | International Rectifier Corporation | Lamp ignition detection circuit |
| US7538483B2 (en) | 2002-08-07 | 2009-05-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP63300725A patent/JPH02148595A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6002214A (en) * | 1997-02-12 | 1999-12-14 | International Rectifier Corporation | Phase detection control circuit for an electronic ballast |
| US6008593A (en) * | 1997-02-12 | 1999-12-28 | International Rectifier Corporation | Closed-loop/dimming ballast controller integrated circuits |
| US6300777B1 (en) | 1997-10-15 | 2001-10-09 | International Rectifier Corporation | Lamp ignition detection circuit |
| US6008592A (en) * | 1998-06-10 | 1999-12-28 | International Rectifier Corporation | End of lamp life or false lamp detection circuit for an electronic ballast |
| US7538483B2 (en) | 2002-08-07 | 2009-05-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same |
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